單晶硅是重要的半導(dǎo)體材料,是我市的拳頭產(chǎn)品,我市某廠生產(chǎn)的單晶硅曾用于制造我國的第一顆人造衛(wèi)星.在硅及相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)中排放的廢水含有HCl.該廠化驗員對本廠排放廢水中HCl的質(zhì)量分數(shù)進行測定:將20毫升廢水(假定其密度為1克/厘米
3)樣品置于錐形瓶中,用質(zhì)量分數(shù)為1%的氫氧化鈉溶液進行中和,共用去氫氧化鈉溶液8克(假設(shè)廢水中不含其他能與氫氧化鈉溶液反應(yīng)的物質(zhì)).
(1)計算該廢水中含HCl的質(zhì)量分數(shù).
(2)該廠每天產(chǎn)生廢水100噸,若直接排放將對環(huán)境造成污染,必須進行無害化處理后才能進行排放,現(xiàn)準備用氫氧化鈣粉末或質(zhì)量分數(shù)為10%的氫氧化鈉溶液進行中和.有關(guān)數(shù)據(jù)如下表所示:
物質(zhì) |
物質(zhì)(或溶質(zhì))的相對分子質(zhì)量 |
市場參考價(元/噸) |
氫氧化鈣粉末 |
74 |
200 |
10%的氫氧化鈉溶液 |
40 |
100 |
你將選擇
(寫化學(xué)式)來中和廢水中的HCl,請說明理由
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