Question

2．硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制 備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

①寫(xiě)出由SiHCl₃（純）制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl．
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．SiHCl₃（粗）遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和氫氣，寫(xiě)出化學(xué)反應(yīng)方程式SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+H₂↑+3HCl
③石英砂的主要成分是二氧化硅，高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導(dǎo)纖維．二氧化硅和二氧化碳一樣，也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉（其水溶液稱水玻璃）和水．請(qǐng)寫(xiě)出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學(xué)方程式2NaOH+SiO₂═Na₂SiO₃+H₂O．

Answer 1

分析 根據(jù)已有的化學(xué)方程式的書(shū)寫(xiě)的以及物質(zhì)的性質(zhì)進(jìn)行分析解答有關(guān)的問(wèn)題．

解答 解：（1）①SiHCl₃能與氫氣高溫反應(yīng)生成硅和氯化氫氣體，反應(yīng)的方程式是：SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl；
②SiHCl₃與水反應(yīng)生成H₂SiO₃，HCl和氫氣反應(yīng)的方程式是：SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+H₂↑+3HCl；
③氫氧化鈉能與二氧化硅反應(yīng)生成硅酸鈉和水，反應(yīng)的方程式是：2NaOH+SiO₂=Na₂SiO₃+H₂O．
故答為：（1）①SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl；②SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+H₂↑+3HCl．（2）2NaOH+SiO₂═Na₂SiO₃+H₂O．

點(diǎn)評(píng) 本題考查的是化學(xué)方程式的書(shū)寫(xiě)的知識(shí)，完成此題，可以依據(jù)已有的知識(shí)進(jìn)行．