Question

除去銅中混有的少量氧化銅可選用的試劑是：

 

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、

 

、

 

．化學(xué)方程式分別為

 

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、

 

．

Answer 1

考點(diǎn)：物質(zhì)除雜或凈化的探究,書寫化學(xué)方程式、文字表達(dá)式、電離方程式

專題：物質(zhì)的分離、除雜、提純與共存問(wèn)題

分析：根據(jù)原物質(zhì)和雜質(zhì)的性質(zhì)選擇適當(dāng)?shù)某�雜劑和分離方法，所謂除雜（提純），是指除去雜質(zhì)，同時(shí)被提純物質(zhì)不得改變．除雜質(zhì)題至少要滿足兩個(gè)條件：①加入的試劑只能與雜質(zhì)反應(yīng)，不能與原物質(zhì)反應(yīng)；②反應(yīng)后不能引入新的雜質(zhì)．

解答：解：CuO能與稀硫酸反應(yīng)生成硫酸銅和水，銅不與稀硫酸反應(yīng)，再進(jìn)行過(guò)濾，能除去雜質(zhì)且沒(méi)有引入新的雜質(zhì)，符合除雜原則，反應(yīng)的化學(xué)方程式為：H₂SO₄+CuO=CuSO₄+H₂O．
CuO能與稀鹽酸反應(yīng)生成氯化銅和水，銅不與稀鹽酸反應(yīng)，再進(jìn)行過(guò)濾，能除去雜質(zhì)且沒(méi)有引入新的雜質(zhì)，符合除雜原則，反應(yīng)的化學(xué)方程式為：2HCl+CuO=CuCl₂+H₂O．
一氧化碳能與氧化銅在加熱條件下反應(yīng)生成銅和二氧化碳，能除去雜質(zhì)且沒(méi)有引入新的雜質(zhì)，符合除雜原則，反應(yīng)的化學(xué)方程式為：CO+CuO

△   .

Cu+CO₂．
氫氣能與氧化銅在加熱條件下反應(yīng)生成銅和水，能除去雜質(zhì)且沒(méi)有引入新的雜質(zhì)，符合除雜原則，反應(yīng)的化學(xué)方程式為：H₂+CuO

△   .

Cu+H₂O．
故答案為：稀硫酸；稀鹽酸；一氧化碳；氫氣；H₂SO₄+CuO=CuSO₄+H₂O；2HCl+CuO=CuCl₂+H₂O；CO+CuO

△   .

Cu+CO₂；H₂+CuO

△   .

Cu+H₂O．

點(diǎn)評(píng)：物質(zhì)的分離與除雜是中考的重點(diǎn)，也是難點(diǎn)，解決除雜問(wèn)題時(shí)，抓住除雜質(zhì)的必需條件（加入的試劑只與雜質(zhì)反應(yīng)，反應(yīng)后不能引入新的雜質(zhì)）是正確解題的關(guān)鍵．