硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO②Si+2Cl2
 點(diǎn)燃 
.
 
SiCl4③SiCl4+2H2
  △  
.
 
Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于( 。
A.化合反應(yīng)B.分解反應(yīng)C.置換反應(yīng)D.都不是
由化學(xué)方程式可知,①③反應(yīng)中的反應(yīng)物和生成物都是一種單質(zhì)和一種化合物,屬于置換反應(yīng);②中的反應(yīng)物是兩種,生成物是一種,屬于化合反應(yīng).
故選A
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相關(guān)習(xí)題

科目:初中化學(xué) 來源: 題型:

硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2C
 高溫 
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Si+2CO②Si+2Cl2
 點(diǎn)燃 
.
 
SiCl4③SiCl4+2H2
  △  
.
 
Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于( 。
A、化合反應(yīng)B、分解反應(yīng)
C、置換反應(yīng)D、都不是

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科目:初中化學(xué) 來源:《6.1 金剛石、石墨和C60》2010年同步練習(xí)(5)(解析版) 題型:選擇題

硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2CSi+2CO②Si+2Cl2SiCl4③SiCl4+2H2Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于( )
A.化合反應(yīng)
B.分解反應(yīng)
C.置換反應(yīng)
D.都不是

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科目:初中化學(xué) 來源:2005年廣東省廣州市海珠區(qū)中考化學(xué)一模試卷(解析版) 題型:選擇題

硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2CSi+2CO②Si+2Cl2SiCl4③SiCl4+2H2Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于( )
A.化合反應(yīng)
B.分解反應(yīng)
C.置換反應(yīng)
D.都不是

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科目:初中化學(xué) 來源:2004年江蘇省鎮(zhèn)江市中考化學(xué)試卷(解析版) 題型:選擇題

硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2CSi+2CO②Si+2Cl2SiCl4③SiCl4+2H2Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于( )
A.化合反應(yīng)
B.分解反應(yīng)
C.置換反應(yīng)
D.都不是

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