Question

（1）SiO₂在自然界中廣泛存在，它是制備現(xiàn)代通訊材料

 

（寫該材料名稱）的主要原料；以SiO₂為原料，在工業(yè)上制備單質(zhì)硅的化學(xué)方程式為

 

；在常溫下，SiO₂可與一種酸發(fā)生反應(yīng)，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為

 

．該反應(yīng)的重要應(yīng)用是

 

．
（2）檢驗(yàn)溶液中Fe³⁺存在的試劑是

 

，證明Fe³⁺存在的現(xiàn)象是

 

；電子工業(yè)常用30%的FeCl₃溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅以制造印刷電路板，該反應(yīng)的離子方程式為

 

．

Answer 1

考點(diǎn)：物質(zhì)的相互轉(zhuǎn)化和制備,常見離子的檢驗(yàn)方法及現(xiàn)象,書寫化學(xué)方程式、文字表達(dá)式、電離方程式

專題：物質(zhì)的制備,物質(zhì)的檢驗(yàn)、鑒別與推斷

分析：（1）根據(jù)SiO₂廣泛存在自然界中，其用途也非常廣泛，可用于制造光導(dǎo)纖維，也用于生產(chǎn)半導(dǎo)體材料硅；碳能與二氧化硅反應(yīng)生成硅單質(zhì)；二氧化硅能與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅氣體用于刻畫玻璃解答．
（2）檢驗(yàn)溶液中Fe³⁺存在通常用KSCN溶液，溶液變紅說明Fe³⁺存在；銅與氯化鐵反應(yīng)生成氯化鐵、氯化亞鐵．

解答：解：（1）SiO₂廣泛存在自然界中，其用途也非常廣泛，可用于制造光導(dǎo)纖維，也用于生產(chǎn)半導(dǎo)體材料硅，碳能與二氧化硅反應(yīng)生成硅單質(zhì)，化學(xué)反應(yīng)方程式：SiO₂+2C═Si+2CO↑，二氧化硅能與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅氣體，用于刻畫玻璃，化學(xué)反應(yīng)方程式：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，（1）光導(dǎo)纖維；SiO₂+2C═Si+2CO↑；SiO₂+4HF

高溫  .

SiF₄↑+2H₂O；刻蝕玻璃．
（2）檢驗(yàn)溶液中Fe³⁺存在通常用KSCN溶液，取少量溶液與試管中，滴加KSCN溶液，溶液呈血紅色，說明Fe³⁺存在；銅與氯化鐵反應(yīng)生成氯化銅、氯化亞鐵，反應(yīng)的離子方程式為：2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺
故答案為：KSCN溶液；溶液呈血紅色；2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺．

點(diǎn)評(píng)：本題考查化學(xué)方程式的書寫，難度不大，注意把握硅和二氧化硅的性質(zhì)．本題考查鐵離子的檢驗(yàn)與性質(zhì)，比較基礎(chǔ)，注意基礎(chǔ)知識(shí)的識(shí)記掌握．