Question

（18分）請回答下列Ⅰ、Ⅱ小題
Ⅰ、（8分）圖甲表示在光照充足、CO₂濃度適宜的條件下，溫度對某植物真正光合作用速率和呼吸作用速率的影響。其中實線表示真正光合作用速率，虛線表示呼吸作用速率。圖乙為該植物在適宜條件下，光合作用速率隨光照強度變化的示意圖。請據(jù)圖回答：

（1）由圖甲可知，與             作用有關(guān)的酶對高溫更為敏感。溫度會影響光合作用的                          階段。
（2）當環(huán)境溫度為40℃時，該植物的有機物凈積累量為        mg/h。理論上預(yù)計，在溫度為        條件下，植物生長狀況達到最佳，已知乙圖是在此溫度條件下繪制而成的曲線，理論上分析，如果溫度改變?yōu)?5℃，圖中b點將向        移。
（3）乙圖中用                                     的量表示植物的光合作用速率，圖中c點表示                                 
（4）乙圖曲線中，當光照強度為0時，葉肉細胞中產(chǎn)生ATP的細胞器有              。
Ⅱ、（10分）大麻是一種雌雄異株的植物，請回答以下問題：

（1）在大麻體內(nèi)，物質(zhì)B的形成過程如右圖所示，基因Mm和Nn分別位于兩對常染色體上。
①據(jù)圖分析，能產(chǎn)生B物質(zhì)的大麻基因型可能有           種。
②如果兩個不能產(chǎn)生B物質(zhì)的大麻品種雜交，F(xiàn)₁全都能產(chǎn)生B物質(zhì)，則親本的基因
型是                  和                 。F₁中雌雄個體隨機相交，后代中
能產(chǎn)生B物質(zhì)的個體數(shù)和不能產(chǎn)生B物質(zhì)的個體數(shù)之比應(yīng)為              。
（2）右圖為大麻的性染色體示意圖，X、Y染色體的同源部分（圖中I片斷）上的基因互為等位，非同源部分（圖中Ⅱ₁、Ⅱ₂片斷）上的基因不互為等位。若大麻的抗病性狀受性染色體上的顯性基因D控制，大麻的雌、雄個體均有抗病和不抗病類型。請回答：

①控制大麻抗病性狀的基因不可能位于右圖中的        　   片段。
②請寫出具有抗病性狀的雄性大麻個體可能有的基因型      　　 。
③現(xiàn)有雌性不抗病和雄性抗病兩個品種的大麻雜交，請根據(jù)以下子代可能出現(xiàn)的情
況，分別推斷出這對基因所在的片段：
如果子代全為抗病，則這對基因位于 　   　 片段。
如果子代雌性全為不抗病，雄性全為抗病，則這對基因位于  　       片段。
如果子代雌性全為抗病，雄性全為不抗病，則這對基因位于     　           片
段。

Answer 1

Ⅰ、（8分）（1）光合 光反應(yīng)和暗反應(yīng)      （2）0    30℃   右
（3）單位時間氧氣的釋放（或氧氣的釋放速率）
此光照條件下，植物的光合速率達到最大   （4）線粒體
Ⅱ、（10分）
（1）① 4 　② MMnn　　mmNN 　       9：7
（2）①Ⅱ₂   ②X^DY^D、X^DY^d、X^dY^D、X^DY（答全得2分，答出3種得1分）
③Ⅰ     Ⅰ     Ⅰ或Ⅱ₁解析:
略