用石墨做電極電解1 mol/L CuSO4溶液，當(dāng)c(Cu2＋)為0.5 mol/L時(shí)，停止電解，向剩余溶液中加入下列何種物質(zhì)可使電解質(zhì)溶液恢復(fù)至原來狀況
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A．CuSO4　　　　　　　　　
B．CuO
C．Cu(OH)2  
D．CuSO4·5H2O
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

某研究小組模擬工業(yè)無隔膜電解法處理電鍍含氰廢水，進(jìn)行以下有關(guān)實(shí)驗(yàn)．填寫下列空白：
實(shí)驗(yàn)Ⅰ：制取次氯酸鈉溶液．
用石墨做電極電解飽和氯化鈉溶液制取次氯酸鈉溶液，設(shè)計(jì)圖1所示裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn)．
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（1）電源中，a電極名稱是
 
．
（2）反應(yīng)時(shí)，生成次氯酸鈉的離子方程式為
 
．
實(shí)驗(yàn)Ⅱ：測(cè)定含氰廢水處理百分率．
利用所示裝置（圖2）進(jìn)行實(shí)驗(yàn)．將CN-的濃度為0.200 0mol?L-1的含氰廢水100mL與100mL NaClO溶液（過量）置于裝置②錐形瓶中充分反應(yīng)．打開分液漏斗活塞，滴入100mL稀H2SO4，關(guān)閉活塞．
已知裝置②中發(fā)生的主要反應(yīng)依次為：CN-+ClO-═CNO-+Cl-，2CNO-+2H++3ClO-═N2↑+2CO2↑+3Cl-+H2O
（3）①和⑥的作用是
 
．
（4）裝置②中，生成需由裝置③除去的物質(zhì)的離子方程式為
 
．
（5）反應(yīng)結(jié)束后，緩緩?fù)ㄈ肟諝獾哪康氖?!--BA-->
 
．
（6）為計(jì)算該實(shí)驗(yàn)中含氰廢水被處理的百分率，需要測(cè)定
 
的質(zhì)量．
（7）上述實(shí)驗(yàn)完成后，為了回收裝置③中的CCl4需要的操作是
 
．
（8）若要研究裝置②中所加稀硫酸的最佳濃度，請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)利用該裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的記錄表．
要求：①在進(jìn)行理論判斷后，將理論濃度作為第一組實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)；②記錄表要體現(xiàn)實(shí)驗(yàn)過程中的不變量、自變量、因變量；③可將提供的方框作為表的外邊框使用．
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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

把物質(zhì)的量均為0.1mol的CuCl2和H2SO4溶于水制成100mL的混合溶液，用石墨做電極電解，并收集兩電極所產(chǎn)生的氣體，一段時(shí)間后在兩極收集到的氣體在相同條件下體積相同．則下列描述正確的是（　　）

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科目：高中化學(xué) 來源：2012-2013學(xué)年山東省高三上學(xué)期9月階段性檢測(cè)化學(xué)試卷（解析版） 題型：選擇題

用石墨做電極電解1 mol/L CuSO4溶液，當(dāng)c（Cu2＋）為0．5 mol/L時(shí)，停止電解，向剩余溶液中加入下列何種物質(zhì)可使電解質(zhì)溶液恢復(fù)至原來狀況

A．CuSO4　　　B．CuO        C．Cu（OH）2  D．CuSO4·5H2O

 

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科目：高中化學(xué) 來源：2013屆山東省青島二中高三上學(xué)期9月階段性檢測(cè)化學(xué)試卷（帶解析） 題型：單選題

用石墨做電極電解1 mol/L CuSO4溶液，當(dāng)c（Cu2＋）為0．5 mol/L時(shí)，停止電解，向剩余溶液中加入下列何種物質(zhì)可使電解質(zhì)溶液恢復(fù)至原來狀況

A．CuSO4B．CuOC．Cu（OH）2D．CuSO4·5H2O

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