20℃時，NaCl溶解度為36g，此時NaCl飽和溶液的密度為，在此溫度下NaCl飽和溶液中NaCl的物質(zhì)的量濃度為

[　　]

A．
B．
C．
D．
答案：C
解析：

取136g飽和溶液，則

，


練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

KN03和NaCl的溶解度曲線如圖所示．下列說法正確的是（　　）

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

（2010?杭州一模）一實驗小組的同學(xué)查閱了20℃時，一些物質(zhì)的溶解度數(shù)據(jù)：
物質(zhì) Ba（NO3）2 NH4Cl BaCl2 NH4NO3 NaCl Ba（OH）2
溶解度 8.3 27.3 26.3 63.5 26.4 4.3
并做了如下四個實驗：
實驗一：取氯化鋇固體配成飽和溶液，再向其中加入硝酸銨固體至恰好不溶為止．
實驗二：向上述溶液中加入一定量氫氧化鈉溶液，發(fā)現(xiàn)產(chǎn)生大量白色沉淀，并聞到刺激性氣體氣味．將所得沉淀反復(fù)水洗后分成兩份．
實驗三：向一份沉淀中加入足量稀鹽酸．
實驗四：向另一份沉淀中加入足量稀硫酸，再加足量稀鹽酸．
回答下列問題：
（1）實驗二中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)的離子方程式為
NH4++OH-═NH3↑+H2O、Ba2++2OH-═Ba（OH）2↓
NH4++OH-═NH3↑+H2O、Ba2++2OH-═Ba（OH）2↓
．
（2）實驗三中觀察到的實驗現(xiàn)象為
沉淀溶解
沉淀溶解
．
（3）實驗四中觀察到的實驗現(xiàn)象為
加入硫酸無明顯現(xiàn)象，再加稀鹽酸沉淀不溶解
加入硫酸無明顯現(xiàn)象，再加稀鹽酸沉淀不溶解
；相關(guān)的化學(xué)方程式為
Ba（OH）2+H2SO4═BaSO4+2H2O
Ba（OH）2+H2SO4═BaSO4+2H2O
．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

（2010?大連二模）[選修-化學(xué)與技術(shù)]
氟化鈉是一種微溶于水的鹽，實驗室可通過圖所示的流程以氟硅酸（H2SiF6）等物質(zhì)為原料制取氟化鈉，并得到副產(chǎn)品氯化銨；

已知：20℃時氯化銨的溶解度為37.2g，Na2SiF6微溶于水，請回答下列問題：
（1）上述流程中①②分別發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，寫出相關(guān)的化學(xué)方程式：
①
H2SiF6+6NH4HCO3═6NH4F+H2SiO3↓+6CO2↑+3H2O
H2SiF6+6NH4HCO3═6NH4F+H2SiO3↓+6CO2↑+3H2O
；②
NH4F+NaCl═NaF↓+NH4Cl
NH4F+NaCl═NaF↓+NH4Cl
；
（2）請指出I-IV實驗操作的名稱；操作I
過濾
過濾
，操作II
結(jié)晶
結(jié)晶
，操作III
洗滌
洗滌
，操作IV
重結(jié)晶
重結(jié)晶
．
（3）操作II的具體過程是
待母液全部濾出后，再向濾紙上加蒸餾水至恰好浸沒晶體，靜置讓其濾出，重復(fù)操作2-3次，以除去晶體表面的雜質(zhì)
待母液全部濾出后，再向濾紙上加蒸餾水至恰好浸沒晶體，靜置讓其濾出，重復(fù)操作2-3次，以除去晶體表面的雜質(zhì)
．
（4）流程①中的NH4HCO3必須過量，其原因的是
保證H2SiF6能全部反應(yīng)，防止生成Na2SiF6沉淀，混入NaF中影響NaF質(zhì)量
保證H2SiF6能全部反應(yīng)，防止生成Na2SiF6沉淀，混入NaF中影響NaF質(zhì)量
．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

氟化鈉是一種重要的氟鹽，主要用作農(nóng)業(yè)殺菌劑、殺蟲劑、木材防腐劑．實驗室可通過下圖所示的流程以氟硅酸（H2SiF6）等物質(zhì)為原料制取氟化鈉，并得到副產(chǎn)品氯化銨：

有關(guān)物質(zhì)在水中溶解度分別為：氯化銨：10℃時33.3g、20℃時37.2g、30℃時41.4g；氟化鈉：20℃時4g；氟硅酸鈉微溶于水．
請回答下列問題：
（1）上述流程中氟硅酸（H2SiF6）等物質(zhì)混合時發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為：
H2SiF6+6NH4HCO3+H2O=6NH4F+H2SiO3↓+6CO2↑
H2SiF6+6NH4HCO3+H2O=6NH4F+H2SiO3↓+6CO2↑
，在濾液中加入NaCl的目的是
增加Na+濃度，促進NaF沉淀
增加Na+濃度，促進NaF沉淀
．
（2）操作Ⅰ需要用到的玻璃儀器除玻璃棒外，還有
燒杯、漏斗
燒杯、漏斗
．
（3）操作II的作用是
洗滌，以除去NaF、NH4Cl表面的雜質(zhì)
洗滌，以除去NaF、NH4Cl表面的雜質(zhì)
．
（4）操作Ⅲ的具體過程是
蒸發(fā)濃縮，析出大量固體后冷卻結(jié)晶
蒸發(fā)濃縮，析出大量固體后冷卻結(jié)晶
．
（5）流程中NH4HCO3必須過量，其原因是
保證H2SiF6能全部反應(yīng)；防止在進行反應(yīng)Ⅱ時有殘余H2SiF6與NaCl反應(yīng)，生成Na2SiF6沉淀，使所得產(chǎn)品不純
保證H2SiF6能全部反應(yīng)；防止在進行反應(yīng)Ⅱ時有殘余H2SiF6與NaCl反應(yīng)，生成Na2SiF6沉淀，使所得產(chǎn)品不純
．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

（2012?豐臺區(qū)一模）（1）A為用惰性電極電解飽和食鹽水（含少量Ca2+、Mg2+）的裝置．
①電解一段時間后，B中出現(xiàn)渾濁現(xiàn)象，請用離子方程式表示原因
Cl2+S2-=2Cl-+S↓
Cl2+S2-=2Cl-+S↓
．
此時電極a附近的現(xiàn)象為
有無色氣泡產(chǎn)生，溶液出現(xiàn)渾濁
有無色氣泡產(chǎn)生，溶液出現(xiàn)渾濁
，因此工業(yè)上電解所用的食鹽水需精制．
②隨反應(yīng)的進行，C中溶液紅色褪去，主要原因有兩種可能．請按要求填寫表格．
假設(shè) 主要操作 現(xiàn)象 結(jié)論
假設(shè)1：
假設(shè)2：可能是H+與OH-中和，導(dǎo)致溶液褪色
（2）電解飽和食鹽水所得氣體X，可應(yīng)用于提取溴單質(zhì)．現(xiàn)有流程圖如下：

請回答：
①氣體X的化學(xué)式為
Cl2
Cl2
，反應(yīng)II的化學(xué)方程式為
SO2+Br2+2H2O=2HBr+H2SO4
SO2+Br2+2H2O=2HBr+H2SO4
．
②在母液苦鹵中含有較多的NaCl、KCl、MgCl2、MgSO4等物質(zhì)．用沉淀法測定苦鹵中鎂元素的含量（g/L），實驗過程中應(yīng)測定的數(shù)據(jù)有
苦鹵樣品的體積、Mg（OH）2沉淀的質(zhì)量
苦鹵樣品的體積、Mg（OH）2沉淀的質(zhì)量
．
③電解200kg 質(zhì)量分數(shù)為25%的飽和食鹽水，當(dāng)濃度下降到20%時，收集到氯氣的物質(zhì)的量為
97.7mol
97.7mol
（溶于溶液中的氯氣忽略不計，計算結(jié)果保留一位小數(shù)）．

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