Question

（2013?濰坊模擬）工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．下圖1是離子交換膜法（允許鈉離子通過，不允許氫氧根與氯離子通過）電解飽和食鹽水，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是

氯氣

，NaOH溶液的出口為

a

（填字母），精制飽和食鹽水的進(jìn)口為

d

（填字母），干燥塔中應(yīng)使用的液體是

濃硫酸

．

（1）多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄、H₂、O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫  .

SiO₂+4HCl

．SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）═4SiHCl₃（g）達(dá)平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗NaCl的質(zhì)量為

0.35

kg．
（2）如圖2，實(shí)驗(yàn)室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(濃)

△ .

.

MnCl2+Cl2↑+2H2O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置

e

（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置

d

（填代號(hào)）．
可選用制備氣體的裝置：
（3）采用無膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣．現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣

134.4

m³（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）

Answer 1

分析：電解飽和食鹽時(shí)陽(yáng)極陰離子Cl^-、OH^-放電，Cl^-的放電能力強(qiáng)于OH^-，陽(yáng)極發(fā)生的方程式為：2Cl^--2e^-═Cl₂↑，陰極：2H⁺+2e^-═H₂↑；H₂、2NaOH在陰極，NaOH溶液的出口為a，Cl₂在陽(yáng)極，精制飽和食鹽水從陽(yáng)極進(jìn)入，要干燥Cl₂需要用酸性干燥劑或中性干燥劑；
（1）SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO₂，H、Cl元素必在另一產(chǎn)物中，H、Cl元素結(jié)合成HCl，然后配平即可；
利用三段分析法，根據(jù)平衡時(shí)H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度，求出的起始物質(zhì)的量，再根據(jù)2NaCl+2H₂O

電解  .

Cl₂↑+H₂↑+2NaOH，求出理論上消耗純NaCl的質(zhì)量；
（2）根據(jù)反應(yīng)物狀態(tài)和反應(yīng)條件選取反應(yīng)裝置，根據(jù)氣體的溶解性、密度選取收集裝置；
（3）根據(jù)得失電子守恒，NaCl轉(zhuǎn)化為NaClO₃所失去的電子等于H₂O轉(zhuǎn)化為H₂所得到的電子，由氯酸鈉的質(zhì)量求出氯酸鈉的物質(zhì)的量，進(jìn)而求出NaCl轉(zhuǎn)化為NaClO₃所失去的電子的物質(zhì)的量，最后求出生成氫氣在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積．

解答：解：電解飽和食鹽時(shí)陽(yáng)極陰離子Cl^-、OH^-放電，Cl^-的放電能力強(qiáng)于OH^-，
陽(yáng)極：2Cl^--2e^-═Cl₂↑，
陰極：2H⁺+2e^-═H₂↑；
總反應(yīng)為：2NaCl+2H₂O

電解  .

Cl₂↑+H₂↑+2NaOH，
陰極：氫離子放電，產(chǎn)生氫氣．致使氫氧根離子濃度增大，鈉離子和氫氧根離子的增大都發(fā)生在陰極室，所以a出口導(dǎo)出的液體是氫氧化鈉溶液；
陽(yáng)極：氯離子放電，產(chǎn)生氯氣，致使鈉離子濃度升高，通過陽(yáng)離子交換膜到達(dá)陰極室．所以d入口應(yīng)加入精制飽和食鹽水；
要干燥Cl₂需要用酸性干燥劑濃硫酸或P₂O₅等，中性干燥劑無水CaCl₂．
故答案為：氯氣；a；d；濃硫酸；
（1）①SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO₂，H、Cl元素必在另一產(chǎn)物中，H、Cl元素結(jié)合成HCl，然后配平即可，發(fā)生的化學(xué)方程式為：SiCl₄+2H₂+O₂

高溫  .

SiO₂+4HCl；
②由3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）?4SiHCl₃（g）
起始量（mol）    n                   0
變化量（mol）    2x       x          4x
平衡量（mol）   n-2x                 4x
4x=0.020mol/L×20L=0.4mol，x=0.1mol，
n-2x=0.140mol/L×20L=2.8mol，n=3.0mol，
由2NaCl+2H₂O

電解  .

Cl₂↑+H₂↑+2NaOH，
  2mol                 1mol

(2×58.5)g

1mol

=

m(NaCl)

3mol

，m（NaCl）=350g=0.35kg
故答案為：SiCl₄+2H₂+O₂

高溫  .

SiO₂+4HCl；0.35；
（2）實(shí)驗(yàn)室用鋅和稀硫酸制取氫氣，該反應(yīng)是固液混合態(tài)且不需要加熱，所以不需要酒精燈，氫氣不易溶于水且密度小于空氣密度，所以可以采用向下排空氣法或排水法收集，故選e；
實(shí)驗(yàn)室制取氯氣是固液混合態(tài)且需要加熱，所以需要酒精燈，氯氣能溶于水且密度大于空氣，所以采用向上排空氣法收集，故選d；
（3）由NaCl轉(zhuǎn)化為NaClO₃，失去電子數(shù)為6，H₂O轉(zhuǎn)化為H₂，得到的電子數(shù)為2，
設(shè)產(chǎn)生的H₂體積為Vm³，
由得失電子守恒得：6×

213×103

116.5

mol=2×

103V

22.4

mol，V=134.4m³，故答案為：134.4．

點(diǎn)評(píng)：本題考查電解、氯堿工業(yè)、化學(xué)平衡的計(jì)算、化學(xué)方程式書寫、化學(xué)計(jì)算、儀器裝置的選取等知識(shí)點(diǎn)，注意氧化還原反應(yīng)中電子守恒法的運(yùn)用．