(2013?房山區(qū)一模)碳化硅(SiC)、氧化鋁(Al
2O
3) 和氮化硅(Si
3N
4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途.
(1)Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為
;Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為
2Al+2OH-+2H2O=2AlO2-+3H2↑
2Al+2OH-+2H2O=2AlO2-+3H2↑
.
(2)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應(yīng)方程式為
Si3N4+16HF=4NH4F+3SiF4
Si3N4+16HF=4NH4F+3SiF4
.
(3)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:
3SiCl
4(g)+2N
2(g)+6H
2(g)
Si
3N
4(s)+12HCl(g)△H<0
某溫度和壓強(qiáng)條件下,分別將0.3mol SiCl
4(g)、0.2mol N
2(g)、0.6mol H
2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng),5min達(dá)到平衡狀態(tài),所得Si
3N
4(s)的質(zhì)量是5.60g.
①H
2的平均反應(yīng)速率是
0.024
0.024
mol/(L?min).
②平衡時(shí)容器內(nèi)N
2的濃度是
0.06
0.06
mol?L
-1.
③SiCl
4(g)的轉(zhuǎn)化率是
40%
40%
.
④若按n(SiCl
4):n(N
2):n(H
2)=3:2:6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,SiCl
4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)
減小
減小
(填“增大”、“減”或“不變”).
⑤在不改變反應(yīng)條件的情況下,為了提高SiCl
4(g)的轉(zhuǎn)化率,可通過(guò)改變投料配比的方式來(lái)實(shí)現(xiàn).下列四種投料方式,其中可行的是
AB
AB
.
選項(xiàng) |
投料方式 |
A |
n(SiCl4):n(N2):n(H2)=1:1:2 |
B |
n(SiCl4):n(N2):n(H2)=1:2:2 |
C |
n(SiCl4):n(N2):n(H2)=3:2:2 |
D |
n(SiCl4):n(N2):n(H2)=2:1:3 |