【題目】三氯氫硅(SiHCl3)是制備硅烷、多晶硅的重要原料,回答下列問題:
(1)SiHCl3在催化劑作用下發(fā)生反應(yīng):
2SiHCl3(g) = SiH2Cl2(g) +SiCl4(g) △H1 = +48kJ/mol
4SiHCl3(g) = SiH4(g) + 3SiCl4(g) △H3 = +114kJ/mol
則反應(yīng)3SiH2Cl2(g) = SiH4(g) + 2SiHCl3(g)的△H=______________kJ/mol。
(2)對于反應(yīng)2SiHCl3(g) = SiH2Cl2(g) +SiCl4(g),采用合適的催化劑,在323 K和343 K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。
①323 K時(shí)反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率ɑ =______%。比較a、b處反應(yīng)速率大。害a_____υb(填“>”、“<”、“=”)
②在343 K下:要提高SiHCl3平衡轉(zhuǎn)化率,可采取的措施是_______,要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的措施有_______。(兩問均從下列選項(xiàng)中選擇合適的選項(xiàng)填空)
A、增大反應(yīng)物濃度
B、增大壓強(qiáng)
C、及時(shí)將產(chǎn)物從體系分離
D、使用更高效的催化劑
③某溫度(T K)下,該反應(yīng)可使SiHCl3的平衡轉(zhuǎn)化率達(dá)到30%,則該溫度下的平衡常數(shù)KT K___K343 K(填“>”、“<”、“=”),已知反應(yīng)速率υ=υ正-υ逆=k正x2(SiHCl3)-k逆x(SiH2Cl2)x(SiCl4),k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),計(jì)算在該溫度下當(dāng)轉(zhuǎn)化率為20%的時(shí)刻,υ正/υ逆=_____________(保留1位小數(shù))。
【答案】-30 21 > C ABD > 2.9
【解析】
根據(jù)蓋斯定律加減熱化學(xué)方程式,綜合分析外因?qū)Ψ磻?yīng)速率和化學(xué)平衡的影響,學(xué)習(xí)速率方程并解決“新”問題。
(1)應(yīng)用蓋斯定律,欲求反應(yīng)與已知反應(yīng)的關(guān)系為:所求=后式-前式×3,則△H=△H2-△H1×3=-30 kJ/mol。
(2)①溫度323 K較低,化學(xué)反應(yīng)較慢,到達(dá)平衡時(shí)間較長,應(yīng)是b點(diǎn)所在曲線,SiHCl3的平衡轉(zhuǎn)化率ɑ =21%。類似地,溫度343 K是a點(diǎn)所在曲線。a、b兩點(diǎn)反應(yīng)物轉(zhuǎn)化率相等,即反應(yīng)物濃度相同,因a點(diǎn)溫度高于b點(diǎn),使反應(yīng)速率υa>υb。
②A、增大反應(yīng)物濃度,可提高反應(yīng)速率,縮短達(dá)到平衡的時(shí)間;因反應(yīng)中氣體分子數(shù)不變,增大反應(yīng)物濃度相當(dāng)于加壓,SiHCl3平衡轉(zhuǎn)化率不變。
B、增大壓強(qiáng),可提高反應(yīng)速率,縮短達(dá)到平衡的時(shí)間;但平衡不移動,SiHCl3平衡轉(zhuǎn)化率不變。
C、及時(shí)將產(chǎn)物從體系分離,不影響正反應(yīng)速率,但平衡右移使SiHCl3平衡轉(zhuǎn)化率增大。
D、更高效的催化劑,可提高反應(yīng)速率,縮短達(dá)到平衡的時(shí)間;但催化劑不能使平衡移動,不能改變SiHCl3平衡轉(zhuǎn)化率。
綜上,要提高SiHCl3平衡轉(zhuǎn)化率,可采取的措施是C;要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的措施有ABD。
③第一空:圖中343 K時(shí)SiHCl3的平衡轉(zhuǎn)化率為22%,已知溫度(T K)時(shí)SiHCl3的平衡轉(zhuǎn)化率30%。即從343 K到T K,平衡右移,平衡常數(shù)KT K>K343 K。
第二空: T K時(shí), 2SiHCl3(g) = SiH2Cl2(g) + SiCl4(g)
假設(shè)起始時(shí)/mol: 1 0 0
轉(zhuǎn)化20%時(shí)/mol: 0.8 0.1 0.1
轉(zhuǎn)化30%時(shí)(平衡)/mol:0.7 0.15 0.15
化學(xué)平衡時(shí)υ正=υ逆,則k正x2(SiHCl3)=k逆x(SiH2Cl2)·x(SiCl4),求得k正/k逆=x(SiH2Cl2)·x(SiCl4)/x2(SiHCl3)=0.152/0.72=0.046。該溫度下當(dāng)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率為20%時(shí),υ正=k正x2(SiHCl3),υ逆=k逆x(SiH2Cl2)·x(SiCl4),則υ正/υ逆=(k正/k逆)×{x2(SiHCl3)/[x(SiH2Cl2)·x(SiCl4)]}=0.046×0.82/0.12=2.9 。
年級 | 高中課程 | 年級 | 初中課程 |
高一 | 高一免費(fèi)課程推薦! | 初一 | 初一免費(fèi)課程推薦! |
高二 | 高二免費(fèi)課程推薦! | 初二 | 初二免費(fèi)課程推薦! |
高三 | 高三免費(fèi)課程推薦! | 初三 | 初三免費(fèi)課程推薦! |
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】298K時(shí),用0.1000mol/L NaOH溶液滴定20.00mL同濃度的甲酸溶液過程中溶液pH與NaOH溶液體積的關(guān)系如圖所示(已知:HCOOH溶液的Ka=l.0×10-4.0)
下列有關(guān)敘述正確的是
A. 該滴定過程應(yīng)該選擇甲基橙作為指示劑
B. 圖中a、b兩點(diǎn)氷的電離程度:b>a
C. 當(dāng)加入10.00mL NaOH溶液時(shí),溶液中:c(HCOO)>c(H+)>c(Na+)>c(OH)
D. 當(dāng)加入20.00mL NaOH溶液時(shí),溶液pH>8.0
查看答案和解析>>
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】氮和硫的化合物在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)、生活中具有重要應(yīng)用。請回答下列問題:
(1)航天領(lǐng)域中常用N2H4作為火箭發(fā)射的助燃劑。N2H4與氨氣相似,是一種堿性氣體,易溶于水,生成弱堿N2H4·H2O。用電離方程式表示N2H4·H2O顯堿性的原因是:____________________________________________。
(2)在恒溫條件下,1 mol NO2和足量C發(fā)生反應(yīng)2NO2(g)+2C(s)N2(g)+2CO2(g),測得平衡時(shí)NO2和CO2的物質(zhì)的量濃度與平衡總壓的關(guān)系如圖所示:
①A、B兩點(diǎn)的濃度平衡常數(shù)關(guān)系:Kc(A) ___________Kc(B)(填“<”或“>”或“=”)
②A、B、C三點(diǎn)中NO2的轉(zhuǎn)化率最高的是___________(填“A”或“B”或“C”)點(diǎn)。
③計(jì)算C點(diǎn)時(shí)該反應(yīng)的壓強(qiáng)平衡常數(shù)Kp=___________MPa(Kp是用平衡分壓代替平衡濃度計(jì)算,分壓=總壓×物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。
(3)已知:亞硝酸(HNO2)性質(zhì)和硝酸類似,但它是一種弱酸。常溫下亞硝酸的電離平衡常數(shù)Ka=5.1×10-4;H2CO3的Ka1=4.2×10-7,Ka2=5.61×10-11。在常溫下向含有2mol碳酸鈉的溶液中加入1mol的HNO2后,則溶液中CO32-、HCO3-和NO2-的離子濃度由大到小的順序是______________________。
(4)已知:常溫下甲胺(CH3NH2)的電離常數(shù)為Kb,且pKb=-lgKb=3.4水溶液中有CH3NH2+H2OCH3NH3++OH-。常溫下向CH3NH2溶液滴加稀硫酸至c(CH3NH2)=c(CH3NH3+)時(shí),則溶液pH=_______。
(5)一種煤炭脫硫技術(shù)可以把硫元素以CaSO4的形成固定下來,但產(chǎn)生的CO又會與CaSO4發(fā)生化學(xué)反應(yīng),相關(guān)的熱化學(xué)方程式如下:
①CaSO4(s)+CO(g) CaO(s)+SO2(g)+CO2(g) △H=+210.5kJ· mol-1
②CaSO4(s)+4CO(g) CaS(s)+ 4CO2(g) △H=-189.2 kJ· mol-1
反應(yīng)CaO(s)+3CO(g)+SO2(g) CaS(s)+3CO2(g) △H=___________ kJ· mol-1
查看答案和解析>>
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】2019 年是“國際化學(xué)元素周期表年”。 1869 年門捷列夫把當(dāng)時(shí)已知的元素根據(jù)物理、化學(xué)性質(zhì)進(jìn)行排列,準(zhǔn)確預(yù)留了甲、乙兩種未知元素的位置,并預(yù)測了二者的相對原子質(zhì)量,部分原始記錄如下。下列說法中錯誤的是
A. 甲位于現(xiàn)行元素周期表第四周期第ⅢA 族B. 原子半徑比較:甲>乙> Si
C. 乙的簡單氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性強(qiáng)于CH4D. 推測乙的單質(zhì)可以用作半導(dǎo)體材料
查看答案和解析>>
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】實(shí)驗(yàn)室利用等物質(zhì)的量的反應(yīng)物在恒容容器中模擬工業(yè)生產(chǎn)SO3,得到三組實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)如下表所示:
實(shí)驗(yàn) 序號 | 溫度 (℃) | SO2濃度(mo1/L) | ||||||
0min | 10min | 20min | 30min | 40min | 50min | 60min | ||
1 | 300 | 2.00 | 1.70 | 1.50 | 1.36 | 1.25 | 1.20 | 1.20 |
2 | 300 | 2.00 | 1.50 | 1.28 | 1.20 | 1.20 | 1.20 | 1.20 |
3 | 500 | 2.00 | 1.60 | 1.39 | 1.29 | 1.27 | 1.27 | 1.27 |
(1)實(shí)驗(yàn)1中,50~60mn時(shí)間段,SO2濃度均為1.20mo1/L的原因是___。
(2)實(shí)驗(yàn)2中,前20min內(nèi)以O2的濃度變化表示的化學(xué)反應(yīng)速率為___。
(3)三組實(shí)驗(yàn)中,只有1、2中的某組使用了催化劑,則使用催化劑的為第___組,分析實(shí)驗(yàn)1、2中的數(shù)據(jù),你認(rèn)為催化劑___(填“能”或“不能”)改變SO2的平衡轉(zhuǎn)化率,理由是___。
(4)分析表格中的數(shù)據(jù),溫度升高,SO2的平衡轉(zhuǎn)化率會___(填“增大”“不變”或“減小”)。
查看答案和解析>>
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】反應(yīng)①2H2O(l)2H2(g)+O2(g)+Q1和反應(yīng)②2H2O(l)2H2(g)+O2(g)+Q2,都是分解得到H2和O2,下列判斷錯誤的是( )
A. 反應(yīng)①中太陽能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能B. 反應(yīng)②中電能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能
C. Q1>0、Q2<0D. Q1=Q2
查看答案和解析>>
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】硅是構(gòu)成礦物和巖石的主要成分,單質(zhì)硅及其化合物具有廣泛的用途。完成下列填空:
(1)某些硅酸鹽具有篩選分子的功能。一種硅酸鹽的組成為:M2O·R2O3·2SiO2·nH2O,已知元素M、R均位于元素周期表的第3周期,兩元素原子的質(zhì)子數(shù)之和為24。
①寫出M原子核外能量最高的電子的電子排布式:___________。
②常溫下,不能與R單質(zhì)發(fā)生反應(yīng)的是_______(選填序號)。
a.CuCl2溶液 b.Fe2O3 c.濃硫酸 d.NaOH溶液 e.Na2CO3固體
(2)氮化硅(Si3N4)陶瓷材料硬度大、熔點(diǎn)高。可由下列反應(yīng)制得:SiO2+C+N2Si3N4+CO
①Si3N4中氮元素的化合價(jià)為-3,請解釋Si3N4中氮元素化合價(jià)為負(fù)價(jià)的原因__________________。
②C3N4的結(jié)構(gòu)與Si3N4相似,請比較二者熔點(diǎn)高低,并說明理由:______________________。
③配平上述反應(yīng)的化學(xué)方程式,并標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的數(shù)目和方向。_______________。
(3)一種用工業(yè)硅(含少量鐵、銅等金屬的氧化物)制備Si3N4的主要流程如下:
①將工業(yè)硅粉碎的目的是______________________________。
②適量的H2是為了排盡設(shè)備中的空氣,但H2在高溫下也能還原工業(yè)硅中的某些金屬化物。可能是______(選填:“鹽酸”“硝酸”或“硫酸”),理由是_____________________。
查看答案和解析>>
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】氧化亞銅(Cu2O)是一種用途廣泛的光電材料,某工廠以硫化銅礦石(含 CuFeS2、Cu2S等)為原料制取Cu2O的工藝流程如下:
常溫下幾種物質(zhì)開始形成沉淀與完全沉淀時(shí)的pH如下表
(1)爐氣中的有害氣體成分是___________,Cu2S與O2反應(yīng)時(shí),氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為___________。
(2)若試劑X是H2O2溶液,寫出相應(yīng)反應(yīng)的離子方程式:______________________。當(dāng)試劑X是___________時(shí),更有利于降低生產(chǎn)成本。
(3)加入試劑Y調(diào)pH時(shí),pH的調(diào)控范圍是______________________。
(4)寫出用N2H4制備Cu2O的化學(xué)方程式:______________________,操作X包括___________、洗滌、烘干,其中烘干時(shí)要隔絕空氣,其目的是___________。
(5)以銅與石墨作電極,電解濃的強(qiáng)堿性溶液可制得納米級Cu2O,寫出陽極上生成Cu2O的電極反應(yīng)式:_________________________________。
查看答案和解析>>
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】下列有關(guān)性質(zhì)的比較中,不正確的是
A. 硬度由大到小:金剛石>碳化硅>晶體硅
B. 晶格能:NaBr<NaCl<MgO
C. 鍵的極性:N-H<O-H<F-H
D. 熔點(diǎn):
查看答案和解析>>
湖北省互聯(lián)網(wǎng)違法和不良信息舉報(bào)平臺 | 網(wǎng)上有害信息舉報(bào)專區(qū) | 電信詐騙舉報(bào)專區(qū) | 涉歷史虛無主義有害信息舉報(bào)專區(qū) | 涉企侵權(quán)舉報(bào)專區(qū)
違法和不良信息舉報(bào)電話:027-86699610 舉報(bào)郵箱:58377363@163.com