Question

【題目】（1）電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔，制造印刷電路板�？涛g印刷電路板涉及的離子方程式為___，檢驗(yàn)溶液中還有Fe3+的試劑是___。

（2）工業(yè)上制取漂白粉的化學(xué)反應(yīng)方程式為___，漂白粉在空氣中表現(xiàn)漂白性的原理是___，除去氯氣中混有的氯化氫氣體的方法是將氣體通過(guò)___溶液中。

（3）鋁分別與足量的NaOH溶液和稀硫酸反應(yīng)，若兩個(gè)反應(yīng)在相同狀況下放出等量的氣體，則兩個(gè)反應(yīng)中消耗的鋁的物質(zhì)的量之比為___。

（4）玻璃燒制過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)有___。

（5）在標(biāo)準(zhǔn)狀況下，由CO和CO2組成的混合氣體6.72L，質(zhì)量為12g。此混合物中CO和CO2物質(zhì)的量之比是___。

Answer 1

【答案】2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+ KSCN溶液 2Cl2+2Ca(OH)2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O Ca(ClO)2+CO2+H2O=2HClO+CaCO3 飽和食鹽水 1：1 SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2 1：3

【解析】

(1)用FeCl3溶液做腐蝕液與Cu反應(yīng)生成CuCl2和FeCl2，由反應(yīng)物、生成物及電子、原子守恒書寫離子方程式；

(2)工業(yè)上是利用氯氣和石灰乳反應(yīng)生成氯化鈣、次氯酸鈣和水；Ca(ClO)2和溶有CO2的H2O溶液反應(yīng)生成HClO；氯化氫極易溶于水，氯氣在飽和食鹽水中溶解性減��；

(3)鋁分別和足量的氫氧化鈉和稀硫酸反應(yīng)，如果生成相同條件下等量的氫氣，這兩個(gè)反應(yīng)中都是鋁失電子，且都是由0價(jià)升高到+3價(jià)，由電子守恒，可求出需要鋁的物質(zhì)的量；

(4)工業(yè)制玻璃主要原料有石英、純堿和石灰石，碳酸鈣和碳酸鈉與二氧化硅在高溫條件下反應(yīng)生成硅酸鹽和二氧化碳；

(5)根據(jù)n=計(jì)算混合氣體的總的物質(zhì)的量，設(shè)CO的物質(zhì)的量為x mol，CO2的物質(zhì)的量為y mol，根據(jù)質(zhì)量之和與物質(zhì)的量之和列式計(jì)算CO和CO2的物質(zhì)的量，進(jìn)而計(jì)算二者物質(zhì)的量之比。

(1) 用FeCl3溶液做腐蝕液與Cu反應(yīng)生成CuCl2和FeCl2，由反應(yīng)物、生成物及電子、原子守恒可知反應(yīng)的離子方程式為：2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+，檢驗(yàn)Fe3+溶液的試劑是KSCN溶液，滴入KSCN溶液，溶液變紅色證明含鐵離子；

(2) 工業(yè)上是利用氯氣和石灰乳反應(yīng)生成氯化鈣、次氯酸鈣和水，反應(yīng)的化學(xué)方程式為：2Cl2+2Ca(OH)2=CaCl 2+Ca(ClO)2+2H2O；漂白粉的有效成分Ca(ClO)2溶于水，和水中溶解的CO2反應(yīng)生成HClO，HClO有強(qiáng)氧化性，具有漂白性，發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為Ca(ClO)2+CO2+H2O=2HClO+CaCO3↓；因氯氣與水發(fā)生：Cl2+H2OH++Cl-+HClO，氯氣難溶于飽和食鹽水，但HCl極易溶于水，可用飽和食鹽水除去氯氣中少量的氯化氫氣體；

(3) 鋁分別和足量的氫氧化鈉和稀硫酸反應(yīng)，如果生成相同條件下等量的氫氣，這兩個(gè)反應(yīng)中都是鋁失電子，由轉(zhuǎn)移電子守恒知，需要鋁的物質(zhì)的量之比為1：1；

(4)工業(yè)制玻璃主要原料有石英、純堿和石灰石，碳酸鈣和碳酸鈉與二氧化硅在高溫條件下反應(yīng)生成硅酸鹽和二氧化碳，發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2或SiO2+CaCO3CaSiO3+CO2；

(5)標(biāo)準(zhǔn)狀況下，混合氣體的物質(zhì)的量為：＝0.3mol；設(shè)CO的物質(zhì)的量為x mol，CO2的物質(zhì)的量為y mol，則：x+y＝0.3、28x+44y＝12，解得：x＝0.075mol，y＝0.225mol，此混合物中CO和CO2物質(zhì)的量之比=0.075mol：0.225mol=1：3。