A、電鍍過程中氫氣在鍍件表面析出 |
B、電鍍時(shí)溶液中Cu2+移向陰極,并在陰極上發(fā)生還原反應(yīng) |
C、陽極反應(yīng)式為HCHO+3OH--2e-=2H2O+HCOO- |
D、電鍍時(shí)每生成6.4g銅,鍍層放出2.24L H2 |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
A、CH2OH-(CHOH)4CHO |
B、CH2NH2-(CHNH2)4CHO |
C、CH2NH2-(CHNH2)4CH=NH |
D、CH2OH-(CHOH)4CH=NH |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
A、苯中的甲苯(溴水) |
B、乙醇中的乙酸(NaOH溶液) |
C、溴苯中的溴(KI溶液) |
D、乙醇中的水(新制的CaO) |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
△ |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
A、加入NaOH | B、加入鹽酸 |
C、加水 | D、升高溫度 |
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