【題目】我國南朝(梁)陶弘景著《本草經(jīng)集注》中記敘藥物730種,其中“消石”條目下寫道:“…如握雪不冰.強燒之,紫青煙起,仍成灰…”.這里的“消石”是指( )
A.氯化鈉
B.硝酸按
C.高錳酸鉀
D.硝酸鉀
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【題目】下列有關(guān)實驗操作或測量數(shù)據(jù)的說法正確的是
A. 用托盤天平稱量食鹽的質(zhì)量為12.35克
B. 用堿式滴定管量取高錳酸鉀溶液20.00mL
C. 用pH試紙測量氫氧化鈉稀溶液的pH為11.5
D. 中和熱的測定實驗中,NaOH溶液應該稍過量
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【題目】下列做法中,利用了氧化還原反應原理的是( )
A.用活性炭吸附新裝修居室里的有害氣體
B.用K2Cr2O7檢查司機是否酒后駕車
C.用鹽酸清洗陶瓷面盆上的鐵銹跡
D.用石灰水吸收燃煤煙氣中的SO2
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【題目】芳香族化合物A的分子式為C7H6O2 , 那么包括A在內(nèi),屬于芳香族化合物的同分異構(gòu)體的數(shù)目為( )
A.5種
B.4種
C.3種
D.2種
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【題目】硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅,工業(yè)上可以按如下步驟制備高純硅。
Ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;
Ⅱ.粗硅與干燥的氯氣在450~500 ℃條件下反應制得SiCl4;
Ⅲ.SiCl4液體經(jīng)精餾提純后與過量H2在1 100~1 200 ℃條件下反應制得高純硅。
已知SiCl4沸點為57.6 ℃,能與H2O強烈反應。
請回答下列問題:
①第Ⅲ步反應的化學方程式為____________________________________。
②整個制備純硅的過程中必須嚴格控制在無水無氧的條件下。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是_______;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是________________________________________。
(2)二氧化硅被大量用于生產(chǎn)玻璃。工業(yè)上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高溫下完全反應時放出CO2 44 kg,生產(chǎn)出的玻璃可用化學式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示,則其中x=________。
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【題目】能正確表示下列反應的離子方程式的是
A. 用惰性電極電解MgCl2 溶液:2Cl-+2H2OCl2↑+H2↑+2OH-
B. 向氯化鋁溶液中滴加少量Na2CO3溶液:2Al3++3CO32-=Al2(CO3)3↓
C. 一定量明礬溶液中滴加Ba(OH)2溶液至沉淀的質(zhì)量最大時:2Ba2++4OH-+Al3++2SO42-=2BaSO4↓+AlO2-+2H2O
D. FeCl3溶液與NaAlO2溶液混合:Fe3++ 3AlO2-=Fe(AlO2)3↓
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【題目】下列分子中存在的共價鍵類型與數(shù)目完全相同的是( )
A. CH4與NH3 B. C3H8與C2H4 C. Cl2與O2 D. H2與F2
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【題目】有關(guān)物質(zhì)的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下圖所示(部分物質(zhì)已略去)。A、C都是常見的金屬氧化物,B是常見的強酸,D是最常見的無色液體,E、F、H都是常見的氣體,且E、F都可用于漂白,H是空氣中主要成分之一,I、J都是由三種相同元素(短周期元素)組成的鹽。
請回答下列問題:
(1) D的化學式為____________。
(2) G的電子式為____________。
(3) 寫出反應①的化學方程式________________________。
(4) 寫出反應②的離子方程式________________________。
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