Question

單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅（含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)），粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅（反應(yīng)溫度450～500℃ ），四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息：① 四氯化硅遇水極易水解；② SIC14沸點(diǎn)為57.7℃ ，熔點(diǎn)為-70.0℃ 。請(qǐng)回答：

（1）寫(xiě)出裝置A 中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式_______________。

（2）裝置C 中的試劑是___________；裝置F的作用是_______________；

裝置E 中的h 瓶需要冷卻的理由是_______________。

（3）裝置E 中h 瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過(guò)精餾（類(lèi)似多次蒸餾）得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中含有鐵元素，為了分析殘留物中鐵元素的含量，先將殘留物預(yù)處理，使鐵元素還原成Fe2+，再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定。

① 反應(yīng)的離子方程式：_______________。② 滴定前是否要滴加指示劑？_______________。（填“是”或“否”） ，請(qǐng)說(shuō)明理由_______________。

③ 滴定前檢驗(yàn)Fe3+ 是否完全還原的實(shí)驗(yàn)操作是_______________。

Answer 1