電子工業(yè)中清洗硅片上的SiO2（s）的反應(yīng)是：
SiO2（s）+4HF（g）=SiF4（g）+2H2O（g）
ΔH（298K）=-94.0kJ?mol-1
ΔS（298K）=-75.8J?mol-1?K-1
設(shè)ΔH和ΔS不隨溫度而改變，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度條件。

此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的最高溫度為1240K。
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

電子工業(yè)中清洗硅片上的SiO2(s)的反應(yīng)是：?

SiO2(s)+4HF(g) SiF4(g)+2H2O(g)?ΔH(298.15 K)=-94.0 kJ·mol-1?

ΔS（298.15 K）=-75.8 J·mol-1·K-1?

設(shè)ΔH和ΔS不隨溫度而變化，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度條件。????????????

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

電子工業(yè)中清洗硅片上的SiO2（s）的反應(yīng)是：

SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g)  ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1  ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1 ·K －1  ，設(shè)ΔＨ和ΔＳ不隨溫度而變化，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度條件？

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科目：高中化學(xué) 來源：2012年魯科版高中化學(xué)選修4 2.1化學(xué)反應(yīng)的方向卷練習(xí)（解析版） 題型：計算題

10分）電子工業(yè)中清洗硅片上的SiO2（s）的反應(yīng)是

SiO2(s)+4HF(g) ==SiF4(g)+2H2O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol-1  △S(298.15K)=-75.8J·mol-1 ·K-1 設(shè)△H和△S不隨溫度而變，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度條件。

 

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科目：高中化學(xué) 來源：同步題 題型：計算題

由能量判據(jù)(以焓變?yōu)榛A(chǔ))(符號為△H，單位為kJ/mol)和熵判據(jù)(符號為△S，單位為J·mol-1·K-1)組合而成的復(fù)合判據(jù)，即體系自由能變化(符號為△G，單位為kJ/mol)將更適合于所有過程的自發(fā)性判斷。公式為△G=△H-T△S(T指開爾文溫度)；若△G＜0，反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行。電子工業(yè)中清洗硅片上的SiO2(s)的反應(yīng)是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) △H(298．15K)=-94．0kJ·mol-1 △S(298．15K)=-75．8J·mol-1·K-1 設(shè)△H和△S不隨溫度而變化，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度條件。

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同步練習(xí)冊答案