【題目】下列物質中,屬于電解質的是( 。
A.氫氧化鈉溶液
B.氯化鈉
C.金屬銅
D.蔗糖
科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】二甲醚和乙醇是同分異構體,其鑒別可采用化學方法及物理方法,下列鑒別方法中能對二者進行鑒別的是( ) ①質譜法
②紅外光譜法
③核磁共振氫譜
④李比希燃燒法
⑤元素分析儀.
A.①②
B.④⑤
C.②③
D.③④
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】黑火藥是中國古代的四大發(fā)明之一,其爆炸的熱化學方程式為:S(s)+2KNO3(s)+3C(s)=K2S(s)+N2(g)+3CO2(g) △H=xkJ·mol-l
已知:①C(s)+O2(g)=CO2(g) △H=akJ·mol-l
②K2S(s)=S(s)+2K(s) △H=bkJ·mol-l
③2K(s)+N2(g)+3O2(g)=2KNO3(s) △H=ckJ·mol-l
下列說法正確的是
A. x>0 a<0
B. b<0 c<0
C. x=3a-b-c
D. 1mol 碳(s)在空氣中不完全燃燒生成CO的焓變小于akJ·mol-1
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】茶葉中含有多種有益于人體健康的有機成分及鈣、鐵等微量金屬元素,某化學研究性學習小組設計方案測定某品牌茶葉中鈣元素的質量分數(shù),并檢驗鐵元素的存在(已知CaC2O4為白色沉淀物質)。首先取200g 茶葉樣品焙燒得灰粉后進行如圖6操作:
請回答下列有關問題:
(1) 實驗前要先將茶葉樣品高溫灼燒成灰粉,其主要目的_________。
(2) 文獻資料顯示,某些金屬離子的氫氧化物完全沉淀的pH 為:
離子 | Ca2+ | Fe3+ |
完全沉淀時的pH | 13 | 4.1 |
寫出從濾液A→沉淀D的離子反應方程式_________。
(3) 為保證實驗精確度,沉淀D 及E需要分別洗滌,并將洗滌液轉移回母液中,判斷沉淀D已經(jīng)洗滌干凈的方法是_________。
(4) 用KMnO4標準溶液滴定C溶液時所發(fā)生的反應為:5C2O42- +2MnO4- +16H+=10CO2↑+2Mn2++8H2O。現(xiàn)將濾液C 稀釋至500mL,再取其中的25.00mL溶液,用硫酸酸化后,用0.1000mol/L的KMnO4標準溶液滴定,終點時消耗KMnO4溶液10.00mL。
①此步操作過程中KMnO4標準溶液應裝在_________中(填寫儀器名稱)。
②滴定到終點,現(xiàn)象_________,靜置后,若終了俯視讀取KMnO4標準溶液的體積,則測定的鈣元素含量將_________ (填“偏高“偏低”或“無影響”)。
(5) 原茶葉中鈣元素的質量分數(shù)為_________。
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【題目】[化學一選修3:物質結構與性質]
鉀和碘的相關化合物在化工、醫(yī)藥、材料等領域有著廣泛的應用;卮鹣铝袉栴}:
(1)元素K的焰色反應呈紫紅色,其中紫色對立的輻射波長為_____________nm(填序號)。
A.589.2 B.500.3 C.650.2 D.434.4
(2)K和Fe屬于同一周期,且核外最外層電子構型相同,但金屬K的熔點、沸點等都比金屬Fe低,原因是________________________。
(3)基態(tài)I原子中,核外電子占據(jù)最高能層的符號為_____________________。
(4)KIO3晶體是一種性能良好的非線性光學材料,具有鈣鈦礦型的立方結構,邊長a=0.446am,晶胞中K、I、O分別處于頂角、體心、面心位置,如圖所示,K與O間的最短距離為________nm,與K緊鄰的O個數(shù)為_____________________。
(5)在KIO3晶胞結構的另一種表示中,I處于各頂角位置,則K處于________位置,O處于__________位置。
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】水的電離平衡曲線如圖所示,下列說法不正確的是( )
A.圖中五點KW間的關系:B>C>A=D=E
B.若從A點到D點,可采用:溫度不變在水中加入少量的酸
C.若從A點到C點,可采用:溫度不變在水中加入適量的NH4Cl固體
D.若處在B點時,將pH=2的硫酸與pH=10的KOH等體積混合后,溶液顯中性
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】下列說法正確的是( )
A.若丙醇中的氧為188O,它與乙酸反應生成的酯的相對分子質量是104
B.用乙酰水楊酸 與適量NaOH溶液反應制備
C.向檸檬醛 中加入酸性高錳酸鉀,若溶液褪色,說明分子中含有醛基
D. 、 、 三種氨基酸脫水,最多可生成 6種二肽
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】下列中和反應對應的離子方程式能以“H++OH-═H2O”表示的是
A.醋酸和氫氧化鈉溶液反應B.氫氧化鎂和鹽酸反應
C.澄清石灰水和硝酸反應D.氫氧化鋇和稀硫酸反應
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