參考下表化學(xué)鍵的鍵能數(shù)據(jù)，判斷下列分子中，受熱最穩(wěn)定的是(    )

化學(xué)鍵

H—H

H—F

H—Cl

H—Br

鍵能/kJ·mol-1

436

568

431

366

A.H2                       B.HF                    C.HCl                     D.HBr

解析：共價(jià)鍵的鍵能越大，越不容易被破壞，意味著化學(xué)鍵越穩(wěn)定，分子也越穩(wěn)定。

答案：B

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相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

化學(xué)反應(yīng)的△H等于反應(yīng)中斷裂舊化學(xué)鍵的鍵能之和與反應(yīng)中形成新化學(xué)鍵的鍵能之和的差，參考下表鍵能數(shù)據(jù)和晶體硅與二氧化硅結(jié)構(gòu)模型估算晶體硅在氧氣中燃燒生成二氧化硅晶體的熱化學(xué)方程式：Si（s）+O2（g）=SiO2（s）中，△H的值為（　�。�
化學(xué)鍵 Si-O O═O Si-Si Si-Cl Si-C
鍵能kJ?mol-1 460 498.8 176 360 347

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科目：高中化學(xué) 來源：2013屆河南省信陽高中高三第五次月考化學(xué)試卷（帶解析） 題型：單選題

化學(xué)反應(yīng)的△H等于反應(yīng)中斷裂舊化學(xué)鍵的鍵能之和與反應(yīng)中形成新化學(xué)鍵的鍵能之和的差，參考下表鍵能數(shù)據(jù)和晶體硅與二氧化硅結(jié)構(gòu)模型估算晶體硅在氧氣中燃燒生成二氧化硅晶體的熱化學(xué)方程式：Si(s)+O2(g)=SiO2(s)中，ΔH的值為      

化學(xué)鍵
Si—O
O==O
Si—Si
Si—Cl
Si—C
鍵能kJ·mol－1
460
498.8
176
360
347

A．- 989.2 kJ·mol－1                B．+ 989.2 kJ·mol－1     C．－61.2 kJ·mol－1        D．－245.2 kJ·mol－1

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科目：高中化學(xué) 來源：2012-2013學(xué)年河南省高三第五次月考化學(xué)試卷（解析版） 題型：選擇題

化學(xué)反應(yīng)的△H等于反應(yīng)中斷裂舊化學(xué)鍵的鍵能之和與反應(yīng)中形成新化學(xué)鍵的鍵能之和的差，參考下表鍵能數(shù)據(jù)和晶體硅與二氧化硅結(jié)構(gòu)模型估算晶體硅在氧氣中燃燒生成二氧化硅晶體的熱化學(xué)方程式：Si(s)+O2(g)=SiO2(s)中，ΔH的值為     

化學(xué)鍵

Si—O

O==O

Si—Si

Si—Cl

Si—C

鍵能kJ·mol－1

460

498.8

176

360

347

A．- 989.2 kJ·mol－1                     B．+ 989.2 kJ·mol－1     C．－61.2 kJ·mol－1         D．－245.2 kJ·mol－1

 

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

化學(xué)反應(yīng)的△H等于反應(yīng)中斷裂舊化學(xué)鍵的鍵能之和與反應(yīng)中形成新化學(xué)鍵的鍵能之和的差，參考下表鍵能數(shù)據(jù)和晶體硅與二氧化硅結(jié)構(gòu)模型估算晶體硅在氧氣中燃燒生成二氧化硅晶體的熱化學(xué)方程式：Si（s）+O2（g）=SiO2（s）中，△H的值為（　�。�
化學(xué)鍵 Si-O O═O Si-Si Si-Cl Si-C
鍵能kJ?mol-1 460 498.8 176 360 347
A．-989.2 kJ?mol-1B．+989.2 kJ?mol-1
C．-61.2 kJ?mol-1D．-245.2 kJ?mol-1
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