10．下列有關(guān)化學(xué)用語(yǔ)表示正確的是（　�。�
A．中子數(shù)為20的氯原子：${\;}_{17}^{20}$Cl
B．苯的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式：C6H6
C．H2CO3的電離方程式：H2CO3?2H++CO32-
D．過(guò)氧化鈣（CaO2）的電子式：

分析 A．元素符號(hào)的左上角為質(zhì)量數(shù)、左下角為質(zhì)子數(shù)，質(zhì)量數(shù)=質(zhì)子數(shù)+中子數(shù)；
B．C6H6為苯的分子式，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式需要體現(xiàn)出苯的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)；
C．碳酸為二元弱酸，其電離過(guò)程分步進(jìn)行，主要以第一步為主；
D．過(guò)氧化鈣為離子化合物，陰陽(yáng)離子都需要標(biāo)出所帶電荷．

解答 解：A．氯原子質(zhì)子數(shù)為17，中子數(shù)為20，質(zhì)量數(shù)=質(zhì)子數(shù)+中子數(shù)=37，該氯原子正確的表示方法為：1737Cl，故A錯(cuò)誤；
B．苯為平面結(jié)構(gòu)，所有原子都共平面，苯正確的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為：，故B錯(cuò)誤；
C．H2CO3的電離主要以第一步為主，其正確的電離方程式為：H2CO3?H++HCO3-，故C錯(cuò)誤；
D．過(guò)氧化鈣（CaO2）為離子化合物，其電子式為：，故D正確；
故選D．

點(diǎn)評(píng) 本題考查了常見(jiàn)化學(xué)用語(yǔ)的表示方法，題目難度中等，涉及電子式、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式、元素符號(hào)、電離方程式等知識(shí)，明確常見(jiàn)化學(xué)用語(yǔ)的書(shū)寫(xiě)原則為解答關(guān)鍵，試題培養(yǎng)了學(xué)生的分析能力及規(guī)范答題能力．

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：選擇題

20．NaOH溶液中混有少量Na2CO3，除去Na2CO3的正確方法是（　�。�
A．加適量BaCl2溶液，過(guò)濾B．加適量澄清石灰水，過(guò)濾
C．加熱使Na2CO3和水反應(yīng)D．加適量Ca（HCO3）2溶液，過(guò)濾

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：解答題

1．現(xiàn)代傳感信息技術(shù)在化學(xué)實(shí)驗(yàn)中有廣泛的應(yīng)用．某小組用傳感技術(shù)測(cè)定噴泉實(shí)驗(yàn)中的壓強(qiáng)變化來(lái)認(rèn)識(shí)噴泉實(shí)驗(yàn)的原理（如圖1所示），并測(cè)定電離平衡常數(shù)Kb．

（1）實(shí)驗(yàn)室可用濃氨水和X固體制取NH3，X固體可以是AD
A．生石灰    B．無(wú)水氯化鈣    C．五氧化二磷    D．堿石灰
（2）檢驗(yàn)三頸瓶集滿NH3的方法是將濕潤(rùn)的紅色石蕊試紙靠近瓶口，試紙變藍(lán)色，證明氨氣已收滿．
（3）關(guān)閉a，將帶有裝滿水的膠頭滴管的橡皮塞塞緊c口，打開(kāi)b，擠壓膠頭滴管使水進(jìn)入燒瓶，引發(fā)噴泉實(shí)驗(yàn)，電腦繪制三頸瓶?jī)?nèi)氣壓變化曲線如圖2所示．圖2中C點(diǎn)時(shí)噴泉最劇烈．
（4）從三頸瓶中用堿式滴定管（填儀器名稱）量取20.00mL氨水至錐形瓶中，用0.05000mol/L HC1滴定．用pH計(jì)采集數(shù)據(jù)、電腦繪制滴定曲線如圖3所示．
（5）據(jù)圖3計(jì)算，當(dāng)pH=11.0時(shí)，NH3•H2O電離平衡常數(shù)Kb近似值，Kb1.8×10-5．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：選擇題

18．下列物質(zhì)歸類正確的是（　�。�
A．電解質(zhì)：冰醋酸、小蘇打、明礬、氧化鋁
B．化合物：液氯、干冰、燒堿、純堿
C．混合物：漂白粉、鋁熱劑、礦泉水、磁性氧化鐵
D．膠體：豆?jié){、墨水、血液、生理鹽水

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：選擇題

5．M、N、X、Y四種物質(zhì)有如下轉(zhuǎn)化關(guān)系，M$→_{反應(yīng)①}^{X}$N$→_{反應(yīng)②}^{X}$Y（反應(yīng)條件和其他產(chǎn)物已省略），下列選項(xiàng)不可能的是（　�。�
A．M：Na   X：O2B．M：IINO3  X：FeC．M：NH3  X：O2D．M：Al  X：NaOH

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：解答題

15．已知A、B、C、D四種短周期元素，它們的核電荷數(shù)依次增大．A原子，C原子的L能層中，都有兩個(gè)未成對(duì)的電子，C、D同主族． E、F都是第四周期元素，E原子核外有4個(gè)未成對(duì)電子，F(xiàn)原子除最外能層只有1個(gè)電子外，其余各能層均為全充滿．根據(jù)以上信息填空：
（1）基態(tài)D原子中，電子占據(jù)的最高能層符號(hào)M，該能層具有的原子軌道數(shù)為9；
（2）E2+離子的價(jià)層電子排布圖是，F(xiàn)原子的電子排布式是1s22s22p63s23p63d104s1；
（3）A元素的最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物中心原子采取的軌道雜化方式為sp2，B元素的氣態(tài)氫化物的VSEPR模型為四面體；
（4）化合物AC2、B2C和陰離子DAB-互為等電子體，它們結(jié)構(gòu)相似，DAB-的電子為；
（5）配合物甲的焰色反應(yīng)呈紫色，其內(nèi)界由中心離子E3+與配位體AB-構(gòu)成，配位數(shù)為6，甲的水溶液可以用于實(shí)驗(yàn)室中E2+離子的定性檢驗(yàn)，檢驗(yàn)E2+離子的離子方程為3Fe2++2[Fe（CN）6]3-=Fe3[Fe（CN）6]2↓；
（6）某種化合物由D，E，F(xiàn)三種元素組成，其晶胞如圖所示，則其化學(xué)式為CuFeS2，該晶胞上下底面為正方形，側(cè)面與底面垂直，根據(jù)圖中所示的數(shù)據(jù)列式計(jì)算該晶體的密度：d=4.32g/cm3．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：選擇題

2．下列表示物質(zhì)結(jié)構(gòu)的化學(xué)用語(yǔ)或模型正確的是（　　）
A．乙烯的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式：CH2CH2B．CH4分子的比例模型：
C．8個(gè)中子的碳原子的符號(hào)：12CD．Cl-的結(jié)構(gòu)示意圖：

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：解答題

19．已知2A（g）+B（g）?2C（g），向容積為1L的密閉容器中加入0.050mol A和0.025mol B，在500℃時(shí)充分反應(yīng)，達(dá)平衡后測(cè)得c（C）=0.040mol•L-1，放出熱量Q1kJ．
（1）能說(shuō)明上述反應(yīng)已經(jīng)達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的是bc（填寫(xiě)序號(hào)）
a．v正（C）=2v正（B）              b．容器內(nèi)壓強(qiáng)保持不變
c．v逆（A）=2v正（B）              d．容器內(nèi)氣體的密度保持不變
（2）若在相同的容器中只加入0.050mol C，500℃時(shí)充分反應(yīng)達(dá)平衡后，吸收熱量Q2kJ，則Q1與Q2之間的關(guān)系式可表示為Q1=4Q2（用含Q1、Q2的代數(shù)式表示）；
（3）已知：K（300℃）＞K（350℃），該反應(yīng)是放（填“放”或“吸”）熱反應(yīng)；若反應(yīng)溫度升高，A的轉(zhuǎn)化率減小（填“增大”、“減小”或“不變”）；
（4）某溫度下，A的平衡轉(zhuǎn)化率（a）與體系總壓強(qiáng)（P）的關(guān)系如圖所示，平衡狀態(tài)由a變到b時(shí)，化學(xué)平衡常數(shù)K（a）=K（b）（填“＞”、“＜”或“=”）．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：解答題

20．工業(yè)上硅有多種生產(chǎn)路線，其中一種生產(chǎn)高純硅的工藝流程示意圖如圖：

已知：①流化床反應(yīng)器中的主反應(yīng)：Si+3HCl$\frac{\underline{\;250-300℃\;}}{\;}$SiHCl3+H2；
②還原爐中的主反應(yīng)：SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;1100-1200℃\;}}{\;}$Si+3HCl；
③SiHCl3極易水解：SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑．
（1）電弧爐中生成單質(zhì)硅的化學(xué)方程式為SiO2+2C $\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑．若焦炭過(guò)量，則造成的不利后果是SiO2+3C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$SiC+2CO↑．
（2）電弧爐中已經(jīng)得到單質(zhì)硅，但仍要進(jìn)行后續(xù)操作的目的是粗硅提純．
（3）整個(gè)操作流程都要隔絕空氣，原因是硅在高溫下與氧氣反應(yīng)生成二氧化硅（寫(xiě)出一條即可）．
（4）上述操作流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)是氯化氫．所用氯化氫可由氯堿工業(yè)提供，假定生產(chǎn)過(guò)程無(wú)損傷，也沒(méi)有副反應(yīng)發(fā)生，則生產(chǎn)1t高純硅，理論上需要2.1t（精確到0.1）NaCl，即可實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)．

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同步練習(xí)冊(cè)答案