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電子工業(yè)中清冼硅片上的二氧化硅的反應是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 設△H和△S不隨溫度變化而變化，試求此反應自發(fā)進行的溫度條件。
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