Question

電子工業(yè)中清冼硅片上的二氧化硅的反應(yīng)是：SiO₂(s)+4HF(g)==SiF₄(g)+2H₂O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol^-1 △S(298K)== -75.8J·mol^-1·K^-1 設(shè)△H和△S不隨溫度變化而變化，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度條件。

Answer 1

T＜1.24×10³K