金剛石SiC具有優(yōu)良的耐磨、耐腐蝕特性，應(yīng)用廣泛.
(1)碳與同周期元素Q的單質(zhì)化合僅能生成兩種常見(jiàn)氣態(tài)化合物，其中一種化合物H為非極性分子，碳元素在周期表中的位置是，Q是，R的電子式為.
(2)一定條件下，Na還原CCl4可制備金剛石，反應(yīng)結(jié)束冷卻至室溫后，回收CCl4的實(shí)驗(yàn)操作名稱(chēng)為，除去粗產(chǎn)品中少量鈉的試劑為.
(3)碳還原制SiC,其粗產(chǎn)品中雜質(zhì)為Si和SiO2.先將20.0g粗產(chǎn)品加入到過(guò)量的NaOH溶液中充分反應(yīng)，收集到0.1mol氫氣，過(guò)濾得SiC固體11.4g，濾液稀釋到1L，生成氫氣的離子方程式為，硅酸鈉的物質(zhì)的量濃度為
(4)下列敘述正確的有(填序號(hào))，ks5u
①Na還原CCl4的反應(yīng)、Cl2與H2O的反應(yīng)均是置換反應(yīng)②水晶、干冰熔化時(shí)克服粒子間作用力的類(lèi)型相同③Na2SiO3溶液與SO3的反應(yīng)可用于推斷Si與S的非金屬性強(qiáng)弱
④鈉、鋰分別在空氣中燃燒，生成的氧化物中陰陽(yáng)離子數(shù)目比均為1:2

⑴第二周期第ⅣA族，氧(或O)，⑵過(guò)濾，水(或乙醇)
⑶Si＋2OH－＋H2O=SiO32－＋2H2↑，0.17mol·L－1⑷③④

解析

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：填空題

硅及其化合物對(duì)人類(lèi)現(xiàn)代文明的發(fā)展具有特殊貢獻(xiàn)。請(qǐng)回答下列有關(guān)問(wèn)題：
(1)硅原子的結(jié)構(gòu)示意圖：________。
(2)下列物品或設(shè)備所用的材料屬于硅酸鹽的是________。
①長(zhǎng)江三峽水泥大壩�、谑⒐鈱�(dǎo)纖維�、厶沾邵釄�
④普通玻璃　⑤硅太陽(yáng)能電池

A．①②⑤ B．③④⑤ C．②③④ D．①③④ 
(3)常溫下，SiCl4為液態(tài)，沸點(diǎn)為57.6 ℃，在空氣中冒白霧。制備高純度硅的中間產(chǎn)物SiCl4中溶有液態(tài)雜質(zhì)，若要得到高純度SiCl4，應(yīng)采用的方法是________；用化學(xué)方程式及必要文字解釋SiCl4在空氣中冒白霧的原因：
___________________________________________________________。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：填空題

某化學(xué)興趣小組為探究SO2的性質(zhì)，按下圖所示裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。

請(qǐng)到答F列問(wèn)題：
（1）裝置A中盛放亞硫酸鈉的儀器名稱(chēng)是             ，其中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為           ；
（2）實(shí)驗(yàn)過(guò)程中，裝置B、C中發(fā)生的現(xiàn)象分別是          、          ，這些現(xiàn)象分別說(shuō)明SO2具有的性質(zhì)是         和          ；裝置B中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為                 ；
（3）裝置D的目的是探究SO2與品紅作用的可逆性，請(qǐng)寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)操作及現(xiàn)象                  ；
（4）尾氣可采用            溶液吸收。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：填空題

氯氣在科技、生產(chǎn)中應(yīng)用廣泛。
（1）工業(yè)上常用熟石灰和氯氣反應(yīng)制取漂白粉，化學(xué)方程式是     。
（2）實(shí)驗(yàn)室用MnO2與濃鹽酸反應(yīng)制取氯氣的原理如下：MnO2 + 4HClMnCl2 + Cl2↑+ 2H2O
①若制取11.2 L Cl2（標(biāo)準(zhǔn)狀況），則最少應(yīng)加入MnO2的質(zhì)量為_(kāi)_____g。
②用平衡移動(dòng)原理解釋可用排飽和食鹽水法收集氯氣的原因       。（結(jié)合必要的化學(xué)用語(yǔ)及文字回答）
③制備氯氣時(shí)，可用NaOH溶液吸收尾氣，下列試劑也可用于吸收氯氣的是____（填字母）。
a. KI溶液            b. FeCl2溶液          c. KCl溶液
寫(xiě)出你選擇的吸收試劑與Cl2反應(yīng)的離子方程式：_______。
④也可用濃氨水吸收氯氣，同時(shí)生成一種無(wú)污染的氣體，反應(yīng)的化學(xué)方程式是_______。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：填空題

硫酸是用途廣泛的化工原料，可作脫水劑、吸水劑、氧化荊和催化劑等。
工業(yè)制硫酸銅的方法很多。
（1）方法一、用濃硫酸和銅制取硫酸銅。該反應(yīng)的化學(xué)方程式是_____________________,此法的最大缺點(diǎn)是____________________________。
（2）方法二、用稀硫酸、銅和氧化鐵制取硫酸銅，生產(chǎn)的主要過(guò)程如下圖所示：

①稀硫酸、銅和氧化鐵反應(yīng)的離子方程式是__________________、________________；
向混合溶液中通入熱空氣的反應(yīng)的離子方程式是_______________________________。
②請(qǐng)說(shuō)出調(diào)整PH為4的目的是_______________________；由濾液得到無(wú)水硫酸銅的實(shí)驗(yàn)操作是______________________________。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：填空題

氮是生命的基礎(chǔ)，由于存在著氮的循環(huán)，生命世界才能像我們所見(jiàn)到的那樣生機(jī)勃勃，充滿活力。下圖是自然界中氮的循環(huán)圖，請(qǐng)回答有關(guān)問(wèn)題。

（1）從空氣中獲取氮是人類(lèi)長(zhǎng)久以來(lái)追求的目標(biāo)。下列有關(guān)說(shuō)法正確的是_________（填序號(hào)）。
a．圖中①②③④⑤都屬于自然界的固氮過(guò)程
b．在過(guò)程⑥中，氮元素的化合價(jià)降低
c．反應(yīng)②的化學(xué)方程式是N2 +O2 2NO
d．德國(guó)化學(xué)家哈伯發(fā)明了合成氨工藝，其主要反應(yīng)如下2NH4Cl+Ca(OH)2CaCl2+2NH3↑+2H2O
（2）氨經(jīng)氧化后可得到硝酸，而硝酸能與氨形成含氮量很高的肥料NH4NO3，施用于土壤而實(shí)現(xiàn)非自然形式的氮循環(huán)。但這種肥料不適宜與堿性物質(zhì)共用，否則會(huì)降低肥效，其原因是_________________________________（用離子方程式表示）。
（3）人類(lèi)活動(dòng)對(duì)氮循環(huán)產(chǎn)生著明顯的影響。汽車(chē)尾氣中的NO，是造成光化學(xué)煙霧的物質(zhì)之一，但NO對(duì)人體又起著獨(dú)特的生理作用，被譽(yù)為“明星分子”，有三位科學(xué)家因此項(xiàng)研究成果而獲得1998年諾貝爾獎(jiǎng)。上述事實(shí)說(shuō)明我們應(yīng)辨證地看待化學(xué)物質(zhì)的作用�？萍既藛T已經(jīng)找到了一些解決NO排放的方法。在汽車(chē)尾氣排放管中安裝一個(gè)催化轉(zhuǎn)化器，可將尾氣中另一種有害氣體CO跟NO反應(yīng)轉(zhuǎn)化為空氣中的兩種成分。氣體在催化劑表面吸附與解吸作用的機(jī)理如下圖所示。

寫(xiě)出上述變化中的總化學(xué)反應(yīng)方程式____________________________________。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無(wú)機(jī)鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問(wèn)題
（1）能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                          ；
（2）寫(xiě)出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                   ，對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH一反應(yīng)，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻�(yīng)中氧化劑為                    。
（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：

 
實(shí)驗(yàn)事實(shí)
事實(shí)一
水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實(shí)二
盛放于鉑或石英器皿中的純水長(zhǎng)時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無(wú)腐蝕作用。
事實(shí)三
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實(shí)四
在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點(diǎn)著后燜燒，可劇烈放出H2。
事實(shí)五
1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預(yù)熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。
 
結(jié)論：從實(shí)驗(yàn)上說(shuō)明堿性水溶液條件下，H2O可作                劑；NaOH作              劑，降低反應(yīng)            。高溫?zé)o水環(huán)境下，NaOH作              劑。
（4）在太陽(yáng)能電池表面沉積深藍(lán)色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無(wú)色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是               。
A．在使用硅烷時(shí)要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H2；
B．硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應(yīng)中NH3作氧化劑；
C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學(xué)穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應(yīng)；
D．氮化硅晶體中只存在共價(jià)鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無(wú)機(jī)非金屬材料。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：填空題

氯氣是重要的化工原料。
（1）氯氣溶于水得到氯水，氯水中存在下列反應(yīng)：Cl2 + H2O H＋+Cl－+ HClO，其平衡常數(shù)表達(dá)式為K＝                              。
（2）工業(yè)上常用熟石灰和氯氣反應(yīng)制取漂白粉，化學(xué)反應(yīng)方程式是              。流程如下圖所示，其主要設(shè)備是氯化塔，塔從上到下分四層。

將含有3%～6%水分的熟石灰從塔頂噴灑而入，氯氣從塔的最底層通入。這樣加料的目的是        。處理從氯化塔中逸出氣體的方法是         。
（3）某科研小組在實(shí)驗(yàn)室用較濃的KOH溶液直接吸收氯氣，研究發(fā)現(xiàn)反應(yīng)進(jìn)行一段時(shí)間后開(kāi)始出現(xiàn)KClO3并逐漸增多，產(chǎn)生KClO3的離子方程式是              ，其原因可能是           ，由此可知（2）中氯化塔設(shè)計(jì)為四層是為了減少生產(chǎn)中類(lèi)似副反應(yīng)的發(fā)生。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：實(shí)驗(yàn)題

（9分）一定量的濃硫酸與足量Zn充分反應(yīng)時(shí)有SO2和H2生成。某�；瘜W(xué)研究性學(xué)習(xí)小組從定性方面對(duì)此作了研究。
按圖組裝好實(shí)驗(yàn)裝置，微熱試管A，觀察到C、D、E中均有氣泡產(chǎn)生；隨后氣泡量減少，品紅溶液褪色，D中先出現(xiàn)渾濁，后渾濁消失；反應(yīng)較長(zhǎng)時(shí)間后，C、D、E中的氣泡量又會(huì)明顯增加。

試回答下列問(wèn)題：
（1）從甲、乙中選擇合適的裝置填入B、C中，并進(jìn)行正確連接，a接______、______接b，c接______、______接d；D、E兩支試管中CCl4的作用是________________________。
（2）能證明濃硫酸具有強(qiáng)氧化性的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象為_(kāi)______________________________；實(shí)驗(yàn)過(guò)程中，濃硫酸表現(xiàn)強(qiáng)氧化性的反應(yīng)方程式是：
____________________________________________________________________
（3）反應(yīng)較長(zhǎng)時(shí)間后氣泡量又會(huì)明顯增加的原因是________________________________
____________________________________。

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同步練習(xí)冊(cè)答案