20℃時(shí),NaCl溶解度為36g,此時(shí)NaCl飽和溶液的密度為,在此溫度下NaCl飽和溶液中NaCl的物質(zhì)的量濃度為

[  ]

A.
B.
C.
D.
答案:C
解析:

136g飽和溶液,則

,


練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

KN03和NaCl的溶解度曲線如圖所示.下列說(shuō)法正確的是(  )

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

(2010?杭州一模)一實(shí)驗(yàn)小組的同學(xué)查閱了20℃時(shí),一些物質(zhì)的溶解度數(shù)據(jù):
物質(zhì) Ba(NO32 NH4Cl BaCl2 NH4NO3 NaCl Ba(OH)2
溶解度 8.3 27.3 26.3 63.5 26.4 4.3
并做了如下四個(gè)實(shí)驗(yàn):
實(shí)驗(yàn)一:取氯化鋇固體配成飽和溶液,再向其中加入硝酸銨固體至恰好不溶為止.
實(shí)驗(yàn)二:向上述溶液中加入一定量氫氧化鈉溶液,發(fā)現(xiàn)產(chǎn)生大量白色沉淀,并聞到刺激性氣體氣味.將所得沉淀反復(fù)水洗后分成兩份.
實(shí)驗(yàn)三:向一份沉淀中加入足量稀鹽酸.
實(shí)驗(yàn)四:向另一份沉淀中加入足量稀硫酸,再加足量稀鹽酸.
回答下列問(wèn)題:
(1)實(shí)驗(yàn)二中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)的離子方程式為
NH4++OH-═NH3↑+H2O、Ba2++2OH-═Ba(OH)2
NH4++OH-═NH3↑+H2O、Ba2++2OH-═Ba(OH)2

(2)實(shí)驗(yàn)三中觀察到的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象為
沉淀溶解
沉淀溶解

(3)實(shí)驗(yàn)四中觀察到的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象為
加入硫酸無(wú)明顯現(xiàn)象,再加稀鹽酸沉淀不溶解
加入硫酸無(wú)明顯現(xiàn)象,再加稀鹽酸沉淀不溶解
;相關(guān)的化學(xué)方程式為
Ba(OH)2+H2SO4═BaSO4+2H2O
Ba(OH)2+H2SO4═BaSO4+2H2O

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

(2010?大連二模)[選修-化學(xué)與技術(shù)]
氟化鈉是一種微溶于水的鹽,實(shí)驗(yàn)室可通過(guò)圖所示的流程以氟硅酸(H2SiF6)等物質(zhì)為原料制取氟化鈉,并得到副產(chǎn)品氯化銨;

已知:20℃時(shí)氯化銨的溶解度為37.2g,Na2SiF6微溶于水,請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)上述流程中①②分別發(fā)生化學(xué)反應(yīng),寫出相關(guān)的化學(xué)方程式:
H2SiF6+6NH4HCO3═6NH4F+H2SiO3↓+6CO2↑+3H2O
H2SiF6+6NH4HCO3═6NH4F+H2SiO3↓+6CO2↑+3H2O
;②
NH4F+NaCl═NaF↓+NH4Cl
NH4F+NaCl═NaF↓+NH4Cl

(2)請(qǐng)指出I-IV實(shí)驗(yàn)操作的名稱;操作I
過(guò)濾
過(guò)濾
,操作II
結(jié)晶
結(jié)晶
,操作III
洗滌
洗滌
,操作IV
重結(jié)晶
重結(jié)晶

(3)操作II的具體過(guò)程是
待母液全部濾出后,再向?yàn)V紙上加蒸餾水至恰好浸沒(méi)晶體,靜置讓其濾出,重復(fù)操作2-3次,以除去晶體表面的雜質(zhì)
待母液全部濾出后,再向?yàn)V紙上加蒸餾水至恰好浸沒(méi)晶體,靜置讓其濾出,重復(fù)操作2-3次,以除去晶體表面的雜質(zhì)

(4)流程①中的NH4HCO3必須過(guò)量,其原因的是
保證H2SiF6能全部反應(yīng),防止生成Na2SiF6沉淀,混入NaF中影響NaF質(zhì)量
保證H2SiF6能全部反應(yīng),防止生成Na2SiF6沉淀,混入NaF中影響NaF質(zhì)量

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

氟化鈉是一種重要的氟鹽,主要用作農(nóng)業(yè)殺菌劑、殺蟲劑、木材防腐劑.實(shí)驗(yàn)室可通過(guò)下圖所示的流程以氟硅酸(H2SiF6)等物質(zhì)為原料制取氟化鈉,并得到副產(chǎn)品氯化銨:

有關(guān)物質(zhì)在水中溶解度分別為:氯化銨:10℃時(shí)33.3g、20℃時(shí)37.2g、30℃時(shí)41.4g;氟化鈉:20℃時(shí)4g;氟硅酸鈉微溶于水.
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)上述流程中氟硅酸(H2SiF6)等物質(zhì)混合時(shí)發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為:
H2SiF6+6NH4HCO3+H2O=6NH4F+H2SiO3↓+6CO2
H2SiF6+6NH4HCO3+H2O=6NH4F+H2SiO3↓+6CO2
,在濾液中加入NaCl的目的是
增加Na+濃度,促進(jìn)NaF沉淀
增加Na+濃度,促進(jìn)NaF沉淀

(2)操作Ⅰ需要用到的玻璃儀器除玻璃棒外,還有
燒杯、漏斗
燒杯、漏斗

(3)操作II的作用是
洗滌,以除去NaF、NH4Cl表面的雜質(zhì)
洗滌,以除去NaF、NH4Cl表面的雜質(zhì)

(4)操作Ⅲ的具體過(guò)程是
蒸發(fā)濃縮,析出大量固體后冷卻結(jié)晶
蒸發(fā)濃縮,析出大量固體后冷卻結(jié)晶

(5)流程中NH4HCO3必須過(guò)量,其原因是
保證H2SiF6能全部反應(yīng);防止在進(jìn)行反應(yīng)Ⅱ時(shí)有殘余H2SiF6與NaCl反應(yīng),生成Na2SiF6沉淀,使所得產(chǎn)品不純
保證H2SiF6能全部反應(yīng);防止在進(jìn)行反應(yīng)Ⅱ時(shí)有殘余H2SiF6與NaCl反應(yīng),生成Na2SiF6沉淀,使所得產(chǎn)品不純

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

(2012?豐臺(tái)區(qū)一模)(1)A為用惰性電極電解飽和食鹽水(含少量Ca2+、Mg2+)的裝置.
①電解一段時(shí)間后,B中出現(xiàn)渾濁現(xiàn)象,請(qǐng)用離子方程式表示原因
Cl2+S2-=2Cl-+S↓
Cl2+S2-=2Cl-+S↓

此時(shí)電極a附近的現(xiàn)象為
有無(wú)色氣泡產(chǎn)生,溶液出現(xiàn)渾濁
有無(wú)色氣泡產(chǎn)生,溶液出現(xiàn)渾濁
,因此工業(yè)上電解所用的食鹽水需精制.
②隨反應(yīng)的進(jìn)行,C中溶液紅色褪去,主要原因有兩種可能.請(qǐng)按要求填寫表格.
假設(shè) 主要操作 現(xiàn)象 結(jié)論
假設(shè)1:
假設(shè)2:可能是H+與OH-中和,導(dǎo)致溶液褪色
(2)電解飽和食鹽水所得氣體X,可應(yīng)用于提取溴單質(zhì).現(xiàn)有流程圖如下:

請(qǐng)回答:
①氣體X的化學(xué)式為
Cl2
Cl2
,反應(yīng)II的化學(xué)方程式為
SO2+Br2+2H2O=2HBr+H2SO4
SO2+Br2+2H2O=2HBr+H2SO4

②在母液苦鹵中含有較多的NaCl、KCl、MgCl2、MgSO4等物質(zhì).用沉淀法測(cè)定苦鹵中鎂元素的含量(g/L),實(shí)驗(yàn)過(guò)程中應(yīng)測(cè)定的數(shù)據(jù)有
苦鹵樣品的體積、Mg(OH)2沉淀的質(zhì)量
苦鹵樣品的體積、Mg(OH)2沉淀的質(zhì)量

③電解200kg 質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25%的飽和食鹽水,當(dāng)濃度下降到20%時(shí),收集到氯氣的物質(zhì)的量為
97.7mol
97.7mol
(溶于溶液中的氯氣忽略不計(jì),計(jì)算結(jié)果保留一位小數(shù)).

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