Question

【題目】SiCl4在室溫下為無色液體，易揮發(fā)，有強(qiáng)烈的刺激性氣味。工業(yè)上，提純粗硅的原理如下：

（1）已知：① Si(s)+4HCl(g) SiCl4(g)+2H2(g) △H1=-241 kJ·mol-1

②Si(s)+3HCl(g) SiHCl3(g)+H2(g) △H2= -210 kJ·mol-1

③3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s) 4SiHCl3(g) △H3= -akJ·mol-1

a=__________。

（2）工業(yè)上，利用蒸餾水吸收尾氣中的氯化氫制鹽酸。常用沉淀滴定法測(cè)定鹽酸的濃度：取一定體積的鹽酸用標(biāo)準(zhǔn)AgNO3溶液滴定，用K2CrO4溶液作指示劑。已知：298 K時(shí)Ksp(AgCl)、Ksp(Ag2CrO4)分別為 1.8×10-10、l.0×10-12。

若選擇K2CrO4為指示劑，使溶液中c(CrO42-)=0.01 mol·L-1。當(dāng)產(chǎn)生黃色Ag2CrO4沉淀時(shí)，c(Cl-)=__________ mol·L-1。

（3）研究反應(yīng)③最適合的反應(yīng)溫度，四氯化硅的轉(zhuǎn)化率隨溫度的變化曲線如圖所示。

①圖像中表示SiHCl3(g)的正反應(yīng)速率小于SiHCl3(g)的逆反應(yīng)速率的點(diǎn)是__________(填“A”“B”或“C”)。

②溫度低于500℃時(shí)，隨著溫度升高，四氯化硅的轉(zhuǎn)化率增大，其原因是_________________。

（4）一定溫度下，向2L恒容密閉器中充入一定量的SiCl4(g)、H2(g)和Si(s)發(fā)生反應(yīng)③，經(jīng)過tmin達(dá)到平衡。測(cè)得平衡體系中H2、SiHCl3(g)的物質(zhì)的量濃度分別為2mol·L-1、1 mol·L-1。

（i）從反應(yīng)開始到平衡時(shí)SiCl4的平均速率為__________。

（ii）在該條件下，H2的平衡轉(zhuǎn)化率為__________。升髙溫度，該反應(yīng)的平衡常數(shù)__________(填“增大”，“減小”或“不變”)。

（iii）若平衡后再向容器中充入與起始時(shí)等量的SiCl4(g)和H2(g)（假設(shè)硅足量），當(dāng)反應(yīng)再次達(dá)到平衡時(shí)，與原平衡相比較，H2的體積分?jǐn)?shù)將__________ (填“增大”“減小”或“不變”)。

（iv）若平衡后，將容器的體積壓縮至1L（硅足量），再次達(dá)到平衡時(shí)，H2的物質(zhì)的量濃度范圍為__________。

Answer 1

【答案】 117 1.8×10-5 C 500℃之前反應(yīng)未達(dá)到平衡，升高溫度，反應(yīng)速率加快 mol·L-1·min-1 20% 減小 減小 2 mol·L-1<c（H2）<4 mol·L-1

【解析】試題分析：（1）根據(jù)蓋斯定律計(jì)算a ； (2)根據(jù)c(CrO42-)=0.01 mol·L-1、Ksp(Ag2CrO4)計(jì)算銀離子濃度，再根據(jù)Ksp(AgCl)，計(jì)算氯離子濃度；（3）A點(diǎn)后SiHCl3(g)濃度增大，B點(diǎn)后SiHCl3(g)濃度減�。�500℃之前由于溫度低反應(yīng)速率慢，未達(dá)到平衡。（4）根據(jù)“三段式”計(jì)算平均速率、平衡轉(zhuǎn)化率。焓變小于0，升髙溫度，該反應(yīng)平衡逆向移動(dòng)。若平衡后再向容器中充入與起始時(shí)等量的SiCl4(g)和H2(g)相當(dāng)于加壓；若平衡后，將容器的體積壓縮至1L（硅足量），壓強(qiáng)增大，平衡正向移動(dòng)；

解析：（1）根據(jù)蓋斯定律計(jì)算②×4－①×3得 3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s) 4SiHCl3(g) △H3=-117 kJ·mol-1； (2)根據(jù)， 1×10-5，c(Cl-)=1.8×10-10÷1×10-5= 1.8×10-5 ；（3）A點(diǎn)后SiHCl3(g)濃度增大說明反應(yīng)正向進(jìn)行，B點(diǎn)后SiHCl3(g)濃度減小說明反應(yīng)逆向進(jìn)行；500℃之前由于溫度低反應(yīng)速率慢，未達(dá)到平衡所以溫度低于500℃時(shí)，隨著溫度升高，四氯化硅的轉(zhuǎn)化率增大。（4）根據(jù)

（i）從反應(yīng)開始到平衡時(shí)SiCl4的平均速率為mol·L-1·min-1。

（ii）H2的平衡轉(zhuǎn)化率為 20%。焓變小于0,升髙溫度，平衡逆向移動(dòng),該反應(yīng)的平衡常數(shù)減小。

（iii）若平衡后再向容器中充入與起始時(shí)等量的SiCl4(g)和H2(g)（假設(shè)硅足量），相當(dāng)于加壓，平衡正向移動(dòng)，當(dāng)反應(yīng)再次達(dá)到平衡時(shí)，與原平衡相比較，H2的體積分?jǐn)?shù)將減小。

（iv）若平衡后，將容器的體積壓縮至1L（硅足量），再次達(dá)到平衡時(shí)，假設(shè)平衡不移動(dòng)，H2的物質(zhì)的量濃度變?yōu)?/span>4 mol·L-1，將容器的體積壓縮至1L，壓強(qiáng)增大平衡正向移動(dòng)，所以H2的物質(zhì)的量濃度2 mol·L-1<c（H2）<4 mol·L-1。