硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用。回答下列問題:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機(jī)非金屬材料,其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有????????????????????? 。
(2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:
①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外,也可以生產(chǎn)碳化硅,則在電弧爐內(nèi)可能發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為??????????????????????? 。
②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化學(xué)反應(yīng)方程式?????????????????????????????? 。
(3)有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和??????? ;SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為??????? 。
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
(4)還原爐中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)為:???????????????????????????????? 。
(5)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料,這些原料是??????? 。
(1)石英砂、純堿和石灰石(2分)
(2)①SiO2 + 2CSi + 2CO↑(2分)、SiO2 + 3CSiC + 2CO↑(2分)
②Si + 3HClSiHCl3 + H2 (2分)
(3)蒸餾(1分)?? H4SiO4(或H2SiO3)、H2、HCl(2分,答不全,少一種扣一分,但有錯(cuò)不給分)
(4)SiHCl3 + H2 Si + 3HCl (2分)
(5)H2、HCl(2分)
【解析】
試題分析:(1)生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有石英砂、純堿和石灰石
(2)①石英砂的主要成分是SiO2,與C可能的反應(yīng)有:SiO2 + 2CSi + 2CO↑、SiO2 + 3CSiC + 2CO↑
②粗硅生成SiHCl3的化學(xué)反應(yīng)方程式為Si + 3HClSiHCl3 + H2
(3)硅的氯化物的熔點(diǎn)相差較大且互溶,所以采用蒸餾的方法可提純SiHCl3,從元素的種類上分析SiHCl3完全水解的產(chǎn)物有H4SiO4(或H2SiO3)、H2、HCl
(4)還原爐中發(fā)生的反應(yīng)是氫氣還原SiHCl3,化學(xué)方程式為SiHCl3 + H2 Si + 3HCl
(5)氯堿工業(yè)的產(chǎn)品有H2、Cl2、NaOH,所以為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料是H2、HCl
考點(diǎn):考查化工生產(chǎn)中硅元素的利用,生產(chǎn)玻璃的原料、高純硅的制取,化學(xué)方程式中的產(chǎn)物分析
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用;卮鹣铝袉栴}:
(1)1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí),得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是 。
(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有 。
(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:
①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產(chǎn)碳化硅,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為 ;碳化硅又稱 ,其晶體結(jié)構(gòu)與 相似。
②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和 。
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
③SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為 。
(4)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料,這些原料是 。
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科目:高中化學(xué) 來源:2013年全國普通高等學(xué)校招生統(tǒng)一考試化學(xué)(海南卷帶解析) 題型:填空題
硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用。回答下列問題:
(1)1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí),得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是 。
(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有 。
(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:
| 發(fā)生的主要反應(yīng) |
電弧爐 | SiO2+2CSi+2CO↑ |
流化床反應(yīng)器 | Si+3HClSiHCl3+H2 |
還原爐 | SiHCl3+H2Si+3HCl |
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
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科目:高中化學(xué) 來源:2013-2014學(xué)年陜西省寶雞市高三質(zhì)檢(一)理綜化學(xué)試卷(解析版) 題型:填空題
硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用;卮鹣铝袉栴}:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機(jī)非金屬材料,其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有??????? 。
(2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:
①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外,也可以生產(chǎn)碳化硅,則在電弧爐內(nèi)可能發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為?????????????? 。
②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化學(xué)反應(yīng)方程式????????????????????? 。
(3)有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和??????? ;SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為??????? 。
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
(4)還原爐中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)為:???????????????????????????????? 。
(5)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料,這些原料是??????? 。
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科目:高中化學(xué) 來源:2013年全國普通高等學(xué)校招生統(tǒng)一考試化學(xué)(海南卷解析版) 題型:填空題
硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用;卮鹣铝袉栴}:
(1)1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí),得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是 。
(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有 。
(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:
|
發(fā)生的主要反應(yīng) |
電弧爐 |
SiO2+2CSi+2CO↑ |
流化床反應(yīng)器 |
Si+3HClSiHCl3+H2 |
還原爐 |
SiHCl3+H2Si+3HCl |
①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產(chǎn)碳化硅,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為 ;碳化硅又稱 ,其晶體結(jié)構(gòu)與 相似。
②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和 。
物質(zhì) |
Si |
SiCl4 |
SiHCl3 |
SiH2Cl2 |
SiH3Cl |
HCl |
SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ |
2355 |
57.6 |
31.8 |
8.2 |
-30.4 |
-84.9 |
-111.9 |
③SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為 。
(4)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料,這些原料是 。
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