A. | c(H+)或 c(OH-) | B. | HA的電離平衡常數(shù)Ka | ||
C. | c(H+)/c(HA) | D. | n(H+)或 n(OH-) |
分析 根據(jù)圖象可知,加入水稀釋過程中,縱坐標(biāo)y的數(shù)值逐漸增大,
A.弱酸溶液在稀釋過程中溶液中氫離子濃度減小;
B.電離平衡常數(shù)與溫度有關(guān),溫度不變,電離平衡常數(shù)不變;
C.稀釋過程中HA分子的物質(zhì)的量逐漸減小,氫離子的物質(zhì)的量逐漸增大,則該比值增大;
D.稀釋過程中HA的電離程度增大,則氫離子的物質(zhì)的量增大;氫氧根離子的濃度逐漸增大,則氫氧根離子的物質(zhì)的量也增大.
解答 解:根據(jù)圖象可知,加入水稀釋HA的過程中,縱坐標(biāo)y會(huì)逐漸增大,
A.稀釋HA溶液的過程中,溶液中的氫離子的物質(zhì)的量濃度會(huì)逐漸減小,故A錯(cuò)誤;
B.HA的電離平衡常數(shù)Ka只受溫度影響,與加入水的量無關(guān),故B錯(cuò)誤;
C.稀釋過程中HA分子的物質(zhì)的量逐漸減小,氫離子的物質(zhì)的量逐漸增大,在同一溶液中,則該比值會(huì)逐漸增大,與圖象變化一致,故C正確;
D.稀釋過程中HA的電離程度逐漸增大,則溶液中n(H+)逐漸增大;由于稀釋過程中氫離子濃度減小,則氫氧根離子的濃度增大,所以稀釋過程中氫氧根離子的物質(zhì)的量逐漸增大,故D正確;
故選CD.
點(diǎn)評(píng) 本題考查了弱電解質(zhì)的電離平衡,題目難度中等,注意掌握影響弱電解質(zhì)電離的因素,明確水的離子積、弱電解質(zhì)的電離平衡常數(shù)只受溫度影響,試題培養(yǎng)了學(xué)生的分析能力及靈活應(yīng)用能力.
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:選擇題
A. | Na2O2與H2O反應(yīng)制備O2:Na2O2+H2O═2Na++2OH-+O2↑ | |
B. | 硅與NaOH溶液的反應(yīng):Si+2OH-+H2O═SiO32-+2H2↑ | |
C. | 硫酸與Ba(OH)2溶液反應(yīng):Ba2++OH-+H++SO42-═BaSO4↓+H2O | |
D. | 氯氣溶于水的反應(yīng):Cl2+H2O═2H++Cl-+ClO- |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:實(shí)驗(yàn)題
實(shí)驗(yàn)原理 | m=cVM |
實(shí)驗(yàn)儀器 | 托盤天平、藥匙、燒杯、玻璃棒、100ml容量瓶、膠頭滴管 |
實(shí)驗(yàn)步驟 | (1)計(jì)算:溶質(zhì)NaCl固體的質(zhì)量為11.7g. (2)稱量:用托盤天平稱取所需NaCl固體. (3)溶解:將稱好的NaCl固體放入燒杯中,用適量蒸餾水溶解. (4)轉(zhuǎn)移、洗滌:將燒杯中的溶液注入儀器①中,并用少量蒸餾水洗滌燒杯內(nèi)壁2~3次,洗滌液也都注入儀器①中. (5)定容將蒸餾水注入儀器至液面離刻度線1~2cm時(shí),改用膠頭滴管滴加蒸餾水至液面與刻度線相切. (6)搖勻:蓋好瓶塞,反復(fù)上下顛倒,然后靜置. |
思考與探究 | (1)實(shí)驗(yàn)步驟(3)、(4)中都要用到玻璃棒,其作用分別是攪拌、 引流 (2)某同學(xué)在實(shí)驗(yàn)步驟(6)后,發(fā)現(xiàn)凹液面低于刻度線,于是再向容器中滴加蒸餾水至刻度線,該同學(xué)所配置溶液是濃度< (填“>”、“=”或“<”)2.00mol/L. |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:選擇題
A. | KW均為1×10-14 | B. | 若a=12則b=2 | ||
C. | a、b為固定值 | D. | 水電離出的c(H+)相等 |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:解答題
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:選擇題
A. | 簡(jiǎn)單離子的半徑大。篋>B>A | |
B. | B的單質(zhì)既能和酸反應(yīng),又能和堿反應(yīng) | |
C. | A分別與C、D形成的化合物均易溶于水 | |
D. | 最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的酸性:C>D |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:選擇題
A. | ①②⑤ | B. | ①② | C. | ①②③ | D. | ①②③⑤ |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:解答題
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:解答題
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