我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：
Si(s)＋3HCl(g) ="=" SiHCl3(g)＋H2(g)  ΔH="-210" kJ/mol。
伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)＋4HCl(g) ="=" SiCl4(g)＋2H2(g)  ΔH="-241" kJ/mol。
SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：

A．SiCl4＋H2 ="=" SiHCl3＋HClΔH=" +31" kJ/mol
B．SiCl4＋H2 ="=" SiHCl3＋2HCl ΔH=" -31" kJ/mol
C．SiCl4(g)＋H2(g) ="=" SiHCl3(g)＋HCl(g) ΔH="+31" kJ/mol
D．SiCl4(g)＋H2(g) ="=" SiHCl3(g)＋2HCl(g) ΔH=" -31" kJ/mol

C

解析正確答案：C
Si(s)＋3HCl(g) ="=" SiHCl3(g)＋H2(g)  ΔH="-210" kJ/mol①
Si(s)＋4HCl(g) ="=" SiCl4(g)＋2H2(g)  ΔH="-241" kJ/mol②
①-②得SiCl4(g)＋H2(g) ="=" SiHCl3(g)＋HCl(g)  ΔH="+31" kJ/mol，C正確。

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

我國目前制備多晶硅主要采用三氯氫硅氫還原法、硅烷熱解法和四氯化硅氫還原法．由于三氯氫硅還原法具有一定優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用．其簡化的工藝流程如圖所示：
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（1）制備三氯氫硅的反應(yīng)為：Si（s）+3HCl（g）═SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ?mol-1．
伴隨的副反應(yīng)有：Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ?mol-1．
SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：
SiCl4（g）+H2（g）═SiHCl3（g）+HCl（g）△H=
 
．
（2）由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為
 
．該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是
 
（至少寫出兩種）．
（3）由于SiH4具有易提純的特點(diǎn)，因此硅烷熱分解法是制備高純硅很有發(fā)展?jié)摿Φ姆椒ǎI(yè)上廣泛采用的合成硅烷方法是讓硅化鎂和固體氯化銨在液氨介質(zhì)中反應(yīng)得到硅烷，化學(xué)方程式是
 
；整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水，否則反應(yīng)將不能生成硅烷，而是生成硅酸和氫氣等，其化學(xué)方程式為
 
；整個(gè)系統(tǒng)還必須與氧隔絕，其原因是
 
．

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科目：高中化學(xué) 來源：2011-2012學(xué)年北京市順義區(qū)高三尖子生綜合素質(zhì)展示化學(xué)試卷 題型：選擇題

我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：

Si(s)＋3HCl(g) == SiHCl3(g)＋H2(g)   ΔH=-210 kJ/mol。

伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)＋4HCl(g) == SiCl4(g)＋2H2(g)   ΔH=-241 kJ/mol。

SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：

A．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋HCl   ΔH= +31 kJ/mol

B．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋2HCl  ΔH= -31 kJ/mol

C．SiCl4(g)＋H2(g) == SiHCl3(g)＋HCl(g)  ΔH=+31 kJ/mol

D．SiCl4(g)＋H2(g) == SiHCl3(g)＋2HCl(g)  ΔH= -31 kJ/mol

 

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：單選題

我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：
Si(s)+3HCl(g) = SiHCl3(g)+H2(g)  ΔH=-210 kJ/mol。
伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)+4HCl(g) = SiCl4(g)+2H2(g)  ΔH=-241 kJ/mol。
SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：


  1. A.
    SiCl4+H2 = SiHCl3+HClΔH=+31 kJ/mol
  2. B.
    SiCl4+H2 = SiHCl3+2HCl ΔH=-31 kJ/mol
  3. C.
    SiCl4(g)+H2(g) = SiHCl3(g)+HCl(g) ΔH=+31 kJ/mol
  4. D.
    SiCl4(g)+H2(g) = SiHCl3(g)+2HCl(g) ΔH=-31 kJ/mol

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：

Si(s)＋3HCl(g) == SiHCl3(g)＋H2(g)  ΔH=-210 kJ/mol。

伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)＋4HCl(g)== SiCl4(g)＋2H2(g)   ΔH=-241 kJ/mol。

SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：

A．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋HCl   ΔH= +31 kJ/mol

B．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋2HCl  ΔH= -31 kJ/mol

C．SiCl4(g)＋H2(g) ==SiHCl3(g)＋HCl(g)  ΔH=+31 kJ/mol

D．SiCl4(g)＋H2(g) ==SiHCl3(g)＋2HCl(g)  ΔH= -31 kJ/mol

 

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