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氨氣在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中有重要應(yīng)用。
氮原子的最外層的電子排布式是______________,氮原子核外共有_______種不同能量的電子。
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某同學(xué)設(shè)計(jì)了兩種方案制備氫氧化鋁。
方案一:2.7 g AlX溶液Al(OH)3沉淀
方案二:2.7 g AlY溶液Al(OH)3沉淀
已知所用的稀鹽酸與NaOH溶液均為3mol/L。右圖是向
X溶液與Y溶液中分別加入NaOH溶液或稀鹽酸時(shí)產(chǎn)生
沉淀的質(zhì)量與加入溶液體積之間的關(guān)系。相關(guān)說法正確的是
A.a(chǎn)曲線表示的是向X溶液中加入NaOH溶液
B.在M點(diǎn)時(shí),兩種方案中所得溶液的溶質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù)相同
C.方案二比方案一生成更多的氣體
D.M點(diǎn)以后,a、b兩條曲線將重合為一條
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有溫度、容積相同的甲、乙兩個(gè)密閉容器。往甲容器中通入1g N2和1g H2,乙容器中通入2g N2和2g H2,保持恒溫、恒容達(dá)到平衡,相關(guān)參數(shù)比較正確的是
A.平衡時(shí)N2的轉(zhuǎn)化率:α甲>2α乙 B.平衡時(shí)NH3的濃度:2c甲<c乙
C.平衡時(shí)體系壓強(qiáng):2p甲>p乙 D.反應(yīng)放出的熱量:2Q甲>Q
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下列離子方程式中,錯(cuò)誤的是
A. 氯氣通入硝酸銀溶液中:Cl2+H2O+Ag+→AgCl↓+H++HClO
B. 用硫酸銅溶液吸收硫化氫氣體:Cu2+ + S2- → CuS↓
C. 次氯酸鈉溶液中通入少量二氧化碳 ClO-+ H2O + CO2 → HCO3-+ HClO
D. 向NaHCO3溶液中加入少量的Ba(OH)2溶液:Ba2++2HCO3-+2OH-→ BaCO3↓+CO32-+2H2O
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下列說法不正確的是
A. 將pH=4的某酸稀釋10倍,測(cè)得其pH<5,則該酸為弱酸
B. 0.1mol的NaHCO3溶液中
C. 0.1mol的NaHA溶液PH=5,則溶液:
D. pH=4的醋酸與pH=10的氫氧化鈉溶液等體積混合,所得溶液pH>7
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在BaCl2溶液中通入下列氣體后,溶液中一定會(huì)出現(xiàn)白色沉淀的是( )
A. SO2 B. 先通NO2 ,后通SO2 C. 先通SO2,后通H2S D. NH3,CO2
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研究發(fā)現(xiàn)銅具有獨(dú)特的殺菌功能,能較好地抑制病菌的生長(zhǎng)。工業(yè)上銅冶煉大致可分為:
①富集:將硫化物礦石進(jìn)行浮選;
②焙燒,主要反應(yīng)為:2CuFeS2+4O2→Cu2S+3SO2+2FeO(爐渣);
③制粗銅,在1200℃主要的反應(yīng)為:2Cu2S+3O2→2Cu2O+2SO2;2Cu2O+Cu2S→6Cu+SO2↑;
④電解精煉,在陰極得到精銅。
下列說法不正確的是
A.上述生產(chǎn)過程中的尾氣可以通入氨水中,生產(chǎn)氮肥
B.電解精煉時(shí),粗銅應(yīng)與外電源的正極相連
C.反應(yīng)2Cu2O+Cu2S→6Cu+SO2↑中的Cu2O是氧化劑
D.每生產(chǎn)6mol Cu,理論上需消耗11mol O2
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將SO2氣體與足量Fe2(SO4)3溶液完全反應(yīng)后,再加入K2Cr2O7溶液,發(fā)生如下兩個(gè)化學(xué)反應(yīng):
①SO2+2Fe3++2H2O=SO42-+2Fe2++4H+
②Cr2O72-+6Fe2++14H+=2Cr3++6Fe3++7H2O
下列有關(guān)說法錯(cuò)誤的是
A.氧化性Cr2O72->Fe3+>SO2
B.K2Cr2O7能將Na2SO3氧化成Na2SO4
C.每有1molK2Cr2O7參加反應(yīng),轉(zhuǎn)移電子的數(shù)目為6NA
D.若6.72 L SO2(標(biāo)準(zhǔn)狀況)參加反應(yīng),則最終消耗0.2molK2Cr2O7
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下列有關(guān)工業(yè)生產(chǎn)的敘述正確的是
A.合成氨生產(chǎn)過程中升高溫度可加快反應(yīng)速率,縮短生產(chǎn)周期,故溫度越高越好
B.硫酸工業(yè)中,使用催化劑是為了提高SO2轉(zhuǎn)化為SO3的轉(zhuǎn)化率
C.電解精煉銅時(shí),精銅作陰極
D.電解飽和食鹽水制燒堿采用離子交換膜法,可防止陰極室產(chǎn)生的Cl2進(jìn)入陽極室
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下列實(shí)驗(yàn)表述正確的是
A.圖l:用于制取純凈的NO2氣體 B.圖2:用于研究溫度對(duì)化學(xué)平衡的影響
C.圖3:用于實(shí)驗(yàn)室Cl2的收集 D.圖4:用于除去CO2氣體中的HCl雜質(zhì)
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