某10% NaOH溶液，加熱蒸發(fā)掉100 g水后得到80 mL 20%的溶液，則該20% NaOH溶液的物質(zhì)的量濃度為

A．6.25 mol/L B．12.5 mol/L C．7 mol/L D．7.5 mol/L

（16分）分離和提純在生產(chǎn)和生活中得以廣泛應(yīng)用，請完成以下兩個(gè)小題：

ⅰ、我們飲用的水是由原水凈化所得。原水中含有泥沙、懸浮物和細(xì)菌等雜質(zhì)。家庭的飲用水可經(jīng)過如下的凈化步驟：

則：（1）可以除去大顆粒懸浮物質(zhì)的步驟是_____________。

（2）能消毒殺菌的步驟是___________。

ⅱ、下列操作過程中采用了哪些分離或提純的方法？

①分離食鹽與碳酸鈣混合物：__________________________________；

②從溴水中提取單質(zhì)溴（溴的性質(zhì)與碘的相似）：_________________；

③釀酒時(shí)提高酒的度數(shù)：_____________；④古代制鹽；___________________；

⑤常用海水淡化：_______________________；⑥油水分離：___________________；

（18分）實(shí)驗(yàn)室用氯化鈉固體配制1.00 mol/L的NaCl溶液0.5 L，回答下列問題：

（1）請寫出該實(shí)驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)步驟：

① ，② ，③ ，④ ，⑤ ，⑥ 。

（2）所需儀器為：容量瓶 (規(guī)格： )、托盤天平、還需要那些實(shí)驗(yàn)儀器才能完成該實(shí)驗(yàn)，請寫出： 。

（3）試分析下列操作對所配溶液的濃度有何影響及造成該影響的原因。

①為加速固體溶解，可稍微加熱并不斷攪拌。在未降至室溫時(shí)，立即將溶液轉(zhuǎn)移至容量瓶定容。對所配溶液濃度的影響： ，原因是： 。

②定容后，加蓋倒轉(zhuǎn)搖勻后，發(fā)現(xiàn)液面低于刻度線，又滴加蒸餾水至刻度。對所配溶液濃度的影響： ，原因是： 。

常溫下，下列各組離子在指定溶液中一定能大量共存的是

A． c(H＋)/c(OH－)=1×10-12的溶液：K＋、Na＋、SiO32－、NO3－

B．0.1 mol·L－1 Na2CO3溶液：K＋、Fe3+、NO3－、Cl－

C．0.1 mol·L－1 NaClO溶液：Na＋、NH4＋、SO32－、CO32－

D．0.1 mol·L－1 Na[Al(OH)4]溶液：K＋、Na＋、SO42－、HCO3－

NA表示阿伏加德羅常數(shù)，下列敘述正確的是

A．1 mol FeI2與足量氯氣反應(yīng)時(shí)轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為2NA

B．0.2 mol S在空氣中充分燃燒，轉(zhuǎn)移電子數(shù)為0.6NA

C．0.1molCl2與足量的水充分反應(yīng)，轉(zhuǎn)移電子數(shù)為0.1NA

D．1.5 mol Na2O2與足量的二氧化碳充分反應(yīng)，轉(zhuǎn)移電子數(shù)為1.5NA

(19分)晶體硅是信息科學(xué)和能源科學(xué)中的一種重要材料，可用于制芯片和太陽能電池等，.以下是工業(yè)上制取純硅的一種方法.

已知：在一定條件下可發(fā)生反應(yīng)：Si(s)＋3HCl(g) SiHCl3(g)＋H2(g) ΔH<0

I.反應(yīng)②、③均需要加熱，有如下兩個(gè)溫度區(qū)間分別供兩反應(yīng)選擇，你認(rèn)為反應(yīng)②應(yīng)選擇_______（填序號(hào)字母），原因是_______________；

a .520~530K B．1350~1360K

II.現(xiàn)在實(shí)驗(yàn)室模擬工業(yè)上粗硅提純的過程，已知SiHCl3遇水強(qiáng)烈水解，其他相關(guān)數(shù)據(jù)如下表所示：

（1）現(xiàn)用如下裝置進(jìn)行模擬反應(yīng)②的過程。實(shí)驗(yàn)室制HCl的反應(yīng)原理為：

2NaCl(s) + H2SO4(濃) 2HCl↑ + Na2SO4

A中是HCl的發(fā)生裝置，你認(rèn)為應(yīng)選擇下列哪套裝置？____________（填裝置的序號(hào)字母），裝置D中堿石灰的作用為__________________、___________________；

（2）已知液態(tài)粗品SiHCl3中含有雜質(zhì)SiCl4、AlCl3、FeCl3等，則流程中操作①為_____________(填操作名稱)，下列不是該操作所需的儀器是____________________（填裝置序號(hào)字母）；

a．冷凝管 b． 圓底燒瓶 c． 蒸餾燒瓶 d． 分液漏斗 e.溫度計(jì) f. 接受器

（3）用SiHCl3與H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下：

①按圖示組裝好儀器后，下列實(shí)驗(yàn)步驟的正確順序?yàn)開___________（填步驟的序號(hào)字母），

A．打開甲裝置分液漏斗旋塞，滴加稀硫酸，反應(yīng)生成H2；

B．向裝置中添加藥品；

C．打開丙裝置分液漏斗的旋塞，滴加SiHCl3，并加熱相應(yīng)裝置；

D．檢查裝置氣密性；

e．停止向丙裝置滴加SiHCl3，并停止加熱相應(yīng)裝置；

f．停止通H2；

步驟c中需要加熱的裝置為____________（填裝置序號(hào)“甲”、“乙”、“丙”、“丁”）

②該套裝置的設(shè)計(jì)缺陷是________________________。

在25℃、1.01×105Pa下，將22g CO2通入到750mL 1.0mol•L﹣1的NaOH溶液中充分反應(yīng)，放出x kJ熱量．在該條件下1molCO2通入到2L 1.0mol•L﹣1的NaOH溶液中充分反應(yīng)，放出ykJ熱量，則CO2與NaOH反應(yīng)生成NaHCO3的熱化學(xué)反應(yīng)方程式為

A． CO2（g）+NaOH（aq）=NaHCO3（aq）△H=﹣（2y﹣x） kJ•mol﹣1

B． CO2（g）+NaOH（aq）=NaHCO3（aq）△H=﹣（4x﹣y） kJ•mol﹣1

C． CO2（g）+NaOH（aq）=NaHCO3（aq）△H=﹣（2x﹣y） kJ•mol﹣1

D． CO2（g）+NaOH（aq）=NaHCO3（aq）△H=﹣（8x﹣2y） kJ•mol﹣1

X、Y、Z、W四種物質(zhì)的轉(zhuǎn)化關(guān)系如圖所示。下列組合中不符合該關(guān)系的是

常溫下，pH=1的某溶液A中還含有NH4+、K+、Na+、Fe3+、Al3+、Fe2+、CO32-、NO3-、Cl-、I-、SO42－中的4種，且各離子的物質(zhì)的量濃度均為0.1mol/L，現(xiàn)取該溶液進(jìn)行有關(guān)實(shí)驗(yàn)，實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下圖所示：

下列有關(guān)說法正確的是

A．沉淀乙一定有BaCO3，可能有BaSO4

B．實(shí)驗(yàn)消耗Cu 14.4 g，則生成氣體丙為3.36L

C．該溶液A中一定有NO3-、Al3+、SO42－、Cl-

D．生成的甲、乙、丙氣體均為無色的易溶于水氣體

常溫常壓下，將a mol CO2氣體通入1L bmol/L的NaOH溶液中，下列對所得溶液的描述不正確的

A．當(dāng)a＝2b時(shí)，隨著CO2氣體的通入，溶液中由水電離出的c（H＋）有如上圖變化關(guān)系

B．當(dāng)a＝b時(shí)，所得溶液中存在：c（OH－）＋c（CO32-）＝c（H＋）＋c（H2CO3）

C．當(dāng)2a＝b時(shí)，所得溶液中存在： c（Na＋）＞c（CO32-）＞c（OH－）＞c（HCO3－）＞c（H＋）

D．當(dāng)1/2＜a/b＜1時(shí)，所得溶液中一定存在： c（Na＋）＝c（CO32-）＋c（HCO3－）＋c（H2CO3）