A.18g氨基(-ND2)中含有的電子數(shù)為10NA

B.56gFe與1molCl2充分反應(yīng)后轉(zhuǎn)移電子的數(shù)目為3NA

C.向密閉容器中加入2molNO和1molO2，充分反應(yīng)后容器中產(chǎn)物分子的數(shù)目為2NA

D.向100mL0.1mol/LNH4Cl溶液中通入NH3至溶液為中性，其中NH4+的數(shù)目為0.01NA

已知：①鋅灰的主要成分為ZnO，ZnCl2，還含有SiO2，CuO，PbO和FeO。

②Cu++Cl-=CuCl↓

回答下列問(wèn)題：

（1）濾渣1的主要成分為SiO2和__。

（2）酸浸時(shí)，若硫酸濃度過(guò)高，可能發(fā)生副反應(yīng)的化學(xué)方程式為__。

（3）寫(xiě)出“沉銅”時(shí)的離子方程式__。

（4）在pH為5.6的條件下氧化后，再加入聚丙烯酰胺絮凝劑并加熱攪拌，其目的是__。

（5）氫電極增壓還原氧化鋅的裝置如圖所示，儲(chǔ)罐內(nèi)ZnO溶解后形成Zn(OH)離子，每溶解1molZnO需消耗__molKOH。電解池中的總反應(yīng)離子方程式為：__。

（6）該工藝廢水中含有Zn2+，排放前需處理。向廢水中加入CH3COOH和CH3COONa組成的緩沖溶液調(diào)節(jié)pH，通入H2S發(fā)生反應(yīng)：Zn2++H2SZnS(s)+2H+。處理后的廢水中部分微粒子濃度為：

處理后的廢水的pH=__，c(Zn2+)=__。

（已知：Ksp(ZnS)=1.0×10-23，Ka1(H2S)=1.0×10-7，Ka2(H2S)=1.0×10-14，Ka(CH3COOH)=2.0×10-5）

假設(shè)Ⅰ：溶液中的NO3－；

假設(shè)Ⅱ：________________。

(1)該小組設(shè)計(jì)了以下實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了假設(shè)Ⅰ成立(為排除假設(shè)Ⅱ對(duì)假設(shè)Ⅰ的干擾，在配制下列實(shí)驗(yàn)所用溶液時(shí)，應(yīng)___________________)，請(qǐng)?zhí)顚?xiě)下表。

(2)為深入研究該反應(yīng)，該小組還測(cè)得上述兩個(gè)實(shí)驗(yàn)中溶液的pH隨通入SO2體積的變化曲線如圖。V1時(shí)，實(shí)驗(yàn)②中溶液pH小于實(shí)驗(yàn)①的原因是(用離子方程式表示)：________。

(3)驗(yàn)證假設(shè)Ⅱ。某同學(xué)設(shè)計(jì)了以下方案，請(qǐng)完成下列表格(可以不填滿)。

(4)查資料知：H2SO3是二元酸(Kl=1.54×10－2，K2=1.02×10－7)，請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)方案驗(yàn)證H2SO3是二元酸______(試劑及儀器自選)。

(1)科學(xué)家研究利用鐵觸媒催化合成氨的反應(yīng)歷程如圖所示，其中吸附在催化劑表面的物種用“ad”表示，對(duì)圖中線間距離窄小的部分，其能量差用的方式表示。由圖可知合成氨反應(yīng)N2(g)+3H2(g)2NH3(g)的=_______kJ·mol－1，反應(yīng)速率最慢的步驟的化學(xué)方程式為____________。

(2)工業(yè)合成氨反應(yīng)為：N2(g)+3H2(g) 2NH3(g)，當(dāng)進(jìn)料體積比V(N2)：V(H2)=1：3時(shí)，平衡氣體中NH3的物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)隨溫度和壓強(qiáng)變化的關(guān)系如圖所示：

則500℃時(shí)：

①平衡常數(shù)KP(30MPa)________KP(100MPa)。(填“＜”、“=”、“＞”)

②30MPa時(shí)，氫氣的平衡轉(zhuǎn)化率為_________(結(jié)果保留3位有效數(shù)字)。用平衡分壓表示平衡常數(shù)KP=_______________(列出計(jì)算式即可，不必化簡(jiǎn))。

(3)科學(xué)家利用電解法在常溫常壓下實(shí)現(xiàn)合成氨，工作時(shí)陰極區(qū)的微觀反應(yīng)過(guò)程如圖所示，其中電解液為溶解有三氟甲磺酸鋰和乙醇的有機(jī)溶液。

①陰極區(qū)生成NH3的電極反應(yīng)式為_____________。

②下列說(shuō)法正確的是_______________(填標(biāo)號(hào))。

A.三氟甲磺酸鋰的作用是增強(qiáng)導(dǎo)電性

B.選擇性透過(guò)膜可允許N2和NH3通過(guò)，防止H2O進(jìn)入裝置

C.保持電流強(qiáng)度不變，升高溶液的溫度，可以加快電解反應(yīng)的速率

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

(1)寫(xiě)出下列物質(zhì)的化學(xué)式：B_____________， C_______________，F_____________， 乙_______________，

(2)寫(xiě)出下列反應(yīng)的離子方程式：反應(yīng)①____________________；反應(yīng)⑤____________________；

（1）該合金中鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)；

（2）該合金中鋁和鎂的物質(zhì)的量之比．

(2)吡咯(平面形結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)式為)，N原子雜化方式為______。多原子分子中的大π鍵可用符號(hào)表示，其中m代表參與形成大π鍵的原子數(shù)，n代表參與形成大π鍵的電子數(shù)，則吡咯環(huán)中的大π鍵應(yīng)表示為_______。

(3)一種錳的氧化物的晶胞如圖甲，請(qǐng)寫(xiě)出該氧化物的化學(xué)式______。若沿z軸方向觀察該晶胞，可得投影圖如圖乙，請(qǐng)畫(huà)出沿y軸方向的投影圖______。

(4)某含Mg儲(chǔ)氫晶體儲(chǔ)氫后轉(zhuǎn)化為MgH2，MgH2晶體的結(jié)構(gòu)如圖丙，晶胞參數(shù)a=b=450pm，c=301pm，原子分?jǐn)?shù)坐標(biāo)為A(0，0，0)、B(0.305，0.305,0)、C(1，1，1)、D(0.195，0.805，0.5)。

①該晶體中Mg的配位數(shù)是__________。

②Mg2+的半徑為72pm，則H－的半徑為____________pm(列出計(jì)算表達(dá)式)

③用NA表示阿伏伽德羅常數(shù)，則MgH2晶體中氫的密度是標(biāo)準(zhǔn)狀況下氫氣密度的_______倍(列出計(jì)算表達(dá)式，氫氣密度為0.089g·L－1)

【題目】H2C2O4是一種二元弱酸。常溫下向H2C2O4溶液中滴加KOH溶液，混合溶液中離子濃度與pH的關(guān)系如圖所示，其中或。下列說(shuō)法不正確的是

A.直線Ⅱ表示的是與pH的變化關(guān)系

B.圖中縱坐標(biāo)應(yīng)該是a=1.27，b=4.27

C.對(duì)應(yīng)1.27＜pH＜4.27

D.對(duì)應(yīng)pH=7

（1）寫(xiě)出下列儀器的名稱：

①__________________；②__________________；④__________________；

（2）儀器①～④中，使用時(shí)必須檢査是否漏水的有_______________（填序號(hào)〉

（3）現(xiàn)需配制250 mL0.2mol/LNaCl溶液，裝置II是某同學(xué)轉(zhuǎn)移溶液的示意圖，圖中兩處錯(cuò)誤是_____________，___________________。