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科目： 來(lái)源：0102 月考題 題型：單選題

硅被譽(yù)為無(wú)機(jī)非金屬材料的主角，下列物品用到硅單質(zhì)的是

[     ]

A．陶瓷餐具
B．石英鐘表
C．計(jì)算機(jī)芯片
D．光導(dǎo)纖維

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科目： 來(lái)源：專項(xiàng)題 題型：單選題

從石英砂制取并獲得高純硅的主要化學(xué)反應(yīng)如下：
①SiO2+ 2CSi（粗）+2CO ↑ ②Si(粗) +2Cl2SiCl4 ③SiCl4 + 2H2Si（純）+4HCl 關(guān)于上述反應(yīng)的分析不正確的是
[     ]

A．①、③是置換反應(yīng)，②是化合反應(yīng)
B．高溫下，焦炭與氫氣的還原性均強(qiáng)于硅
C．任一反應(yīng)中，每消耗或生成28 g硅，均轉(zhuǎn)移4 mol電子
D．高溫下將石英砂、焦炭、氯氣、氫氣按一定比例混合可得高純硅

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科目： 來(lái)源：0103 期末題 題型：單選題

常溫下，不能跟單質(zhì)硅起反應(yīng)的物質(zhì)是

[     ]

A、氫氟酸
B、氟氣
C、濃硝酸
D、苛性鈉溶液

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科目： 來(lái)源：同步題 題型：填空題

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如圖

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)方程式：__________________
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平后的化學(xué)方程式________________；H2還原SiHCl3過(guò)程中若混有O2，可能引起的后果是_____________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是___________（填字母）。
A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料--光導(dǎo)纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英制成的，其熔點(diǎn)很高
E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

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科目： 來(lái)源：專項(xiàng)題 題型：單選題

有些科學(xué)家提出硅是“21世紀(jì)的能源”，這主要是由于作為半導(dǎo)體材料的硅在太陽(yáng)能發(fā)電過(guò)程中具有重要的作用。下列關(guān)于硅的說(shuō)法不正確的是 

[     ]

A．高純度的單質(zhì)硅被廣泛用于制作計(jì)算機(jī)芯片
B．硅可由二氧化硅還原制得
C．低溫時(shí)硅與水、空氣和酸不反應(yīng)，但能與氫氟酸反應(yīng)
D．自然界硅元素的貯量豐富，并存在大量的單質(zhì)硅

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科目： 來(lái)源：專項(xiàng)題 題型：單選題

硅能與下列試劑反應(yīng)的是  

[     ]

①濃氨水②濃氫氧化鈉③濃硝酸④氫氟酸⑤氟氣⑥濃硫酸
A．②④⑤
B．①②
C．②③⑥
D．②④⑥

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科目： 來(lái)源：山東省期中題 題型：單選題

硅在無(wú)機(jī)非金屬材料中一直扮演著重要角色，被譽(yù)為無(wú)機(jī)非金屬材料的主角。下列物品的制造用到硅單質(zhì)的是
[     ]
A.玻璃制品        
B.石英鐘表         
C.計(jì)算機(jī)芯片           
D.光導(dǎo)纖維

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科目： 來(lái)源：同步題 題型：不定項(xiàng)選擇題

下列關(guān)于硅的化學(xué)性質(zhì)的敘述，正確的是
[     ]
A.常溫時(shí)不和任何酸反應(yīng)                      
B.常溫時(shí)可和強(qiáng)堿溶液反應(yīng)
C.單質(zhì)硅比碳的還原性強(qiáng)                      
D.單質(zhì)硅比碳的氧化性強(qiáng)

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科目： 來(lái)源：同步題 題型：實(shí)驗(yàn)題

某研究性學(xué)習(xí)小組進(jìn)行了“實(shí)驗(yàn)室制Si”的研究，他們以課本為基礎(chǔ)，查閱資料得到以下可供參考的信息：
①工業(yè)上 在高溫時(shí)用C還原SiO2可制得Si；
②Mg在點(diǎn)燃的條件下按質(zhì)量比8∶5與SiO2反應(yīng)生成一種白色固體化合物和另一種硅化物；
③金屬硅化物與稀硫酸反應(yīng)生成硫酸鹽與SiH4；
④Si和SiO2均不能與稀H2SO4反應(yīng)；
⑤SiH4在空氣中自燃。他們的研究報(bào)告中記載著“……選用合適的物質(zhì)在適合的條件下充分反應(yīng)；再用足量稀硫酸溶解固體產(chǎn)物；然后過(guò)濾、洗滌、干燥、最后稱量……在稀硫酸溶解固體產(chǎn)物時(shí)，發(fā)現(xiàn)有爆鳴聲和火花，其產(chǎn)率也只有預(yù)期的63%左右。”
請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
(1)該小組“實(shí)驗(yàn)室制Si”的化學(xué)反應(yīng)方程式是____________________________。
(2)寫出②的反應(yīng)方程式：________________________。
(3)該過(guò)程中產(chǎn)率比預(yù)期低的原因是__________________________。
(4)你估計(jì)“用稀硫酸溶解固體產(chǎn)物時(shí)，發(fā)現(xiàn)有爆鳴聲和火花”的原因是什么？請(qǐng)用必要的文字和化學(xué)方程式予以說(shuō)明：____________________________________________________________________________________________________。

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科目： 來(lái)源：專項(xiàng)題 題型：實(shí)驗(yàn)題

蛇紋石礦可以看作由MgO、Fe2O3、Al2O3和SiO2組成．某實(shí)驗(yàn)小組設(shè)計(jì)如下流程欲分別制得單質(zhì)Mg、Fe、Al和Si.
有關(guān)氫氧化物沉淀時(shí)的pH見(jiàn)下表
請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
(1)濾液A中含有的陽(yáng)離子有___________________________________．
(2)操作②中涉及的化學(xué)方程式為_(kāi)____________________________________________，操作④中生成沉淀G的離子方程式為_(kāi)________________________________________．
(3)操作⑤中調(diào)節(jié)pH為5～6時(shí)，可以用到的試劑為(填序號(hào))________．
a．NaOH溶液　b．氨水 c．MgO    d．Mg(OH)2
(4)由濾液H制取金屬M(fèi)g的流程如下 
該流程中由MgCl2冶煉Mg的方法是________．在干燥的HCl氣流中加熱MgCl2·6H2O制取無(wú)水氯化鎂的原因是__________________．

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