Question

（2008?河西區(qū)模擬）1961年德國(guó)學(xué)者約恩孫發(fā)表了一篇論文，介紹了他用電子束的一系列衍射和干涉實(shí)驗(yàn)．其中他做的雙縫干涉實(shí)驗(yàn)與托馬斯?楊用可見光做的雙縫干涉實(shí)驗(yàn)所得的圖樣基本相同，這是對(duì)德布羅意的質(zhì)波理論的又一次實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證．根據(jù)德布羅意理論，電子也具有波粒二象性，其德布羅意波長(zhǎng)λ=h/ρ，其中h為普朗克常量，p為電子的動(dòng)量．約恩孫實(shí)驗(yàn)時(shí)用50kV電壓加速電子束，然后垂直射到間距為毫米級(jí)的雙縫上，在與雙縫距離為35cm的屏上得到了干涉條紋，但條紋間距很小，下面所說的方法中，哪些方法一定能使條紋間距變大（　　）

A．降低加速電子的電壓，同時(shí)加大雙縫間的距離

B．降低加速電子的電壓，同時(shí)減小雙縫間的距離

C．加大雙縫間的距離，同時(shí)使屏靠近雙縫

D．減小雙縫間的距離，同時(shí)使屏靠近雙縫

Answer 1

分析：根據(jù)雙縫干涉條紋的間距公式△x=

L

d

λ判斷如何增大干涉條紋的間距．

解答：解：光的干涉現(xiàn)象中，條紋間距公式△x=

L

d

λ，即干涉條紋間距與入射光的波長(zhǎng)成正比，與雙縫到屏的距離成正比，與雙縫間距離成反比．
由題意知，降低加速電壓，電子的動(dòng)量減小，其波長(zhǎng)增大．
故選B．

點(diǎn)評(píng)：解決本題的關(guān)鍵掌握雙縫干涉條紋的間距公式△x=

L

d

λ．