Question

長(zhǎng)為4L的粗細(xì)均勻的金屬桿圍成一個(gè)正方形閉合框架，框架放在光滑的水平桌面上，另一根長(zhǎng)為L的同種材料、同樣粗細(xì)的金屬桿擱在其上，如圖所示．勻強(qiáng)磁場(chǎng)垂直穿過框架平面，不計(jì)一切摩擦．當(dāng)直桿ab獲得一個(gè)初速度沿框架從左向右運(yùn)動(dòng)的過程中                                                 （    ）

       A．任一時(shí)刻ab桿的加速度大小均是框架加速度大小的4倍

       B．任一時(shí)刻ab桿的加速度方向均和框架的加速度方向相同

       C．ab桿對(duì)地做勻減速運(yùn)動(dòng)，框架對(duì)地做勻加速運(yùn)動(dòng)

       D．任一時(shí)刻ab桿的發(fā)熱功率均是框架發(fā)熱功率的

Answer 1

[答案]　A

       [解析]　任一時(shí)刻ab和框架所受的安培力大小相等、方向相反，由于ab質(zhì)量只有框架質(zhì)量的1/4，故ab桿的加速度大小是框架加速度大小的4倍，A正確，B錯(cuò)誤．由于安培力大小變化，ab桿和框架的加速度是變化的，C錯(cuò)．ab桿在框架上滑動(dòng)時(shí)，框架的等效電阻不斷變化，D錯(cuò)誤．