光滑曲面與豎直平面的交線是拋物線,如圖所示,拋物線的方程是y=x2,其下半部處在一個水平方向的勻強磁場中,磁場的上邊界是y=a的直線(虛線表示),一個小金屬塊從拋物線上y=b(b>a)處以初速度v沿拋物線下滑,假設(shè)拋物線足夠長,則金屬塊在曲面上滑動的過程中產(chǎn)生的焦耳熱總量是( )
A.mgb B.mv2 C.mg(b-a) D.mg(b-a)+mv2
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如圖所示,一帶電油滴懸浮在平行板電容器兩極板A、B之間的P點,處于靜止狀態(tài).現(xiàn)將極板A向下平移一小段距離,但仍在P點上方,其它條件不變.下列說法中正確的是()
A. 液滴將向下運動 B. 液滴將向上運動
C.極板帶電荷量將增加 D. 極板帶電荷量將減少
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如圖示,等腰直角三角形ABC中存在勻強磁場,比荷相同的兩個粒子沿AB方向射入磁場,分別從AC邊上的D(AC的中點)、C兩孔射出,則()
A. 從C、D兩孔射出的粒子的運動半徑大小之比為RC:RD=2:1
B. 從C、D兩孔射出的粒子的出射速度大小之比為vC:vD=1:1
C. 從C、D兩孔射出的粒子在磁場中的運動周期之比為TC:TD=2:1
D. 從C、D兩孔射出的粒子在磁場中的運動時間之比為tC:tD=1:1
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如圖所示,“L”形槽固定在光滑水平面,槽的曲面部分光滑,水平部分粗糙且長度d=2m,上方有水平向右的勻強電場,場強E=102N/C.不帶電的絕緣物體B靜止在槽的水平部分最左端,在槽的最右端并排放置一個與它等高的,足夠長的木板C,足夠遠處有豎直的擋板P.ABC質(zhì)量均為m=1kg,現(xiàn)將帶正電的電量q=5×10﹣2C,物體A從槽的曲面上距B的豎直高度為h=0.8m處由靜止釋放,已知A、B與槽的水平部分及C的上表面的動摩擦因數(shù)均為μ=0.4.A與B,C與P的碰撞過程時間極短且碰撞過程中無機械能損失.A、B均可看作質(zhì)點且A的電量始終保持不變,g取10m/s2.求:
(1)A與B第一次碰撞后B的速度;
(2)A與B第二次碰撞后B的速度;
(3)物體B最終停在距離木板C左端多遠處.
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如圖11-13所示,一閉合金屬圓環(huán)用絕緣細線掛于O點,將圓環(huán)拉離平衡位置并釋放,圓環(huán)擺動過程中經(jīng)過有界的水平勻強磁場區(qū)域,A,B為該磁場的豎直邊界,若不計空氣阻力,則( )
A.圓環(huán)向右穿過磁場后,還能擺至原來的高度。B.在進入和離開磁場時,圓環(huán)中均有感應(yīng)電流
C.圓環(huán)進入磁場后離平衡位置越近速度越大,感應(yīng)電流也越大 D.圓環(huán)最終將靜止在平衡位置。
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邊長為a的閉合金屬正三角形框架,左邊豎直且與磁場右邊界平行,完全處于垂直框架平面向里的勻強磁場中。現(xiàn)把框架勻速水平向右拉出磁場,如圖所示,則下列圖像與這一過程相符合的是( )
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如圖所示,空間存在豎直向下的有界勻強磁場B,一單匝邊長為L,質(zhì)量為m的正方形線框abcd放在水平桌面上,在水平外力作用下從左邊界以速度v勻速進入磁場,當cd邊剛好進入磁場后立刻撤去外力,線框ab邊恰好到達磁場的右邊界,然后將線框以ab邊為軸,以角速度ω勻速翻轉(zhuǎn)到圖示虛線位置.已知線框與桌面間動摩擦因數(shù)為μ,磁場寬度大于L,線框電阻為R,重力加速度為g,求:
(1)當ab邊剛進入磁場時,ab兩端的電壓Uab;
(2)水平拉力F的大小和磁場的寬度d;
(3)勻速翻轉(zhuǎn)過程中線框產(chǎn)生的熱量Q.
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光滑的水平面上放有質(zhì)量分別為m和m的兩木塊,下方木塊與一勁度系數(shù)為k的彈簧相連,彈簧的另一端固定在墻上,如圖所示。已知兩木塊之間的最大靜摩擦力為f,為使這兩個木塊組成的系統(tǒng)能像一個整體一樣地振動,系統(tǒng)的最大振幅為( )
A. B. C. D.
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如圖所示,BCDG是光滑絕緣的圓形軌道,位于豎直平面內(nèi),軌道半徑為R,下端與水平絕緣軌道在B點平滑連接.整個軌道處在水平向左的勻強電場中.現(xiàn)有一質(zhì)量為m、帶正電的小滑塊(可視為質(zhì)點)置于水平軌道上,滑塊受到的電場力大小為0.75mg,滑塊與水平軌道間的動摩擦因數(shù)為0.5,重力加速度為g.
(1)若滑塊從水平軌道上距離B點s=3R的A點由靜止釋放,滑塊到達與圓心O等高的C點時速度為多大?
(2)在(1)的情況下,求滑塊到達C點時受到軌道的作用力大。
(3)改變s的大小,滑塊恰好始終沿軌道滑行,且從G點飛出軌道,求滑塊在圓軌道上滑行過程中的最小速度大。
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