【題目】如圖甲所示，在理想變壓器的原線圈兩端輸入如圖乙所示的交流電。調(diào)節(jié)滑動變阻器R的阻值觀察到當電流表A1的示數(shù)增大了0.2A時電流表A2的示數(shù)增大了0.6A，電流表為理想表，下列說法中正確的是（　�。�

A.變壓器原、副線圈匝數(shù)比為1：3

B.當R減小時，滑動變阻器功率減小

C.當R增大時，兩個電流表示數(shù)均增大

D.副線圈輸出電壓的表達式為

【答案】D

【解析】

A．觀察到電流表A1的示數(shù)增大了0.2A，電流表A2的示數(shù)增大了0.6A，即原線圈電流增大量是副線圈電流增大量的三分之一，根據(jù)電流與匝數(shù)成反比，變壓器原、副線圈匝數(shù)比為3：1，A錯誤；

B．當R減小時，電阻減小，副線圈兩端電壓不變，則滑動變阻器消耗的功率增大，B錯誤；

C．當R增大時，輸出電流減小，則輸入電流也減小，兩個電流表示數(shù)均減小，C錯誤；

D．原線圈電壓的最大值為V，根據(jù)電壓和匝數(shù)關系可知，副線圈輸出電壓的最大值為V，則瞬時表達式為，D正確。

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】如圖所示為“研究平拋物體的運動”實驗：

(1)在該實驗中，下列說法正確的是___________

A.斜槽軌道必須光滑

B.斜槽軌道末端可以不水平

C.應使小球每次從斜槽上相同的位置由靜止釋放

D.將描出的點用刻度尺連成折線

(2)如圖所示為實驗中用方格紙記錄了小球的運動軌跡，a、b、c為軌跡上的三點，小方格的邊長為L=5cm，重力加速度為g=10m/s2，則小球作平拋運動的初速度大小v0=_______，經(jīng)b點時速度大小vb=_______。

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科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】一帶電液滴在重力和勻強電場對它的作用力作用下，在豎直平面內(nèi)，從靜止開始由b沿直線運動到d，則bd與豎直方向所夾的銳角為45°，則下列結論正確的是（ ）

A. 此液滴帶負電

B. 液滴的加速度等于零

C. 合外力對液滴做的總功等于零

D. 液滴的電勢能和動能之和是增加的

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科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】如圖所示，質(zhì)量為0.1kg的小球在水平面內(nèi)做勻速圓周運動，長為2m的懸線與豎直方向的夾角為37°，不計空氣阻力，取重力加速度g=10m/s2，sin37=0.6，cos37°=0.8，下列說法正確的是

A. 懸線受到的拉力大小為2N

B. 小球運動的動能為0.45J

C. 小球運動的向心加速度大小為7.5m/s2

D. 小球運動的角速度大小為5rad/s

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科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】如圖所示，一個半徑為R的固定半圓形光滑凹槽，放置在一個垂直紙面向里、磁感應強度為B的勻強磁場中，現(xiàn)有一個質(zhì)量為m，帶電量為+q的小球（可視為質(zhì)點），從凹槽的A點，由靜止開始釋放，小球將沿著半圓形凹槽的內(nèi)壁運動，重力加速度為g，則：

（1）小球運動到凹槽的底部的速度是最大？

（2）小球運動到凹槽的底部時，對凹槽的最大壓力是多大？

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科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】如圖所示，兩條不等間距金屬導軌ab和cd水平放置，ac之間距離為bd之間距離的兩倍，導軌電阻不計。兩相同材料制成的金屬棒（粗細均勻）MNPQ垂直導軌恰好放置在兩導軌之間，與導軌接觸良好，與水平導軌的動摩擦因數(shù)均為。金屬棒PQ質(zhì)量為金屬棒MN質(zhì)量的一半，整個裝置處在豎直向上的磁感應強度為B的勻強磁場中，金屬棒MN質(zhì)量為m，電阻為R，長度為L，在施加在金屬棒MN上的恒定水平拉力F作用下兩導體棒都勻速運動，導軌足夠長，則（　�。�

A.MN中電流方向是由M到N

B.回路中感應電動勢為

C.在MN、PQ都勻速運動的過程中，

D.在MN、PQ都勻速運動的過程中，

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科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】如圖所示為多用電表的刻度盤．若選用倍率為“×100”的電阻擋測電阻時，表針指示如圖所示，則：

(1)所測電阻的阻值為________ Ω；如果要用此多用電表測量一個阻值約為2.0×104 Ω的電阻，為了使測量結果比較精確，應選用的歐姆擋是________(選填“×10”、“×100”或“×1 k”)．

(2)用此多用電表進行測量，當選用量程為50 mA的電流擋測量電流時，表針指于圖示位置，則所測電流為________ mA；當選用量程為250 mA的電流擋測量電流時，表針指于圖示位置，則所測電流為________ mA.

(3)當選用量程為10 V的電壓擋測量電壓時，表針也指于圖示位置，則所測電壓為________ V.

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科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】“太空涂鴉”技術的基本物理模型是：原來在較低圓軌道運行的攻擊衛(wèi)星在變軌后接近在較高圓軌道上運行的偵察衛(wèi)星時，向其發(fā)射“漆霧”彈，“漆霧”彈在臨近偵察衛(wèi)星時，壓爆彈囊，讓“漆霧”散開并噴向偵察衛(wèi)星，噴散后強力吸附在偵察衛(wèi)星的偵察鏡頭、太陽能板、電子偵察傳感器等關鍵設備上，使之暫時失效。關于這一過程下列說法正確的是

A.攻擊衛(wèi)星在原軌道上運行的周期比偵察衛(wèi)星的周期大

B.攻擊衛(wèi)星在原軌道需要加速才能變軌接近偵查衛(wèi)星

C.攻擊衛(wèi)星在原軌道上運行的線速度比偵察衛(wèi)星的線速度小

D.攻擊衛(wèi)星接近偵查衛(wèi)星的過程中受到地球的萬有引力一直在增大

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科目：高中物理 來源： 題型：

【題目】如圖，一帶正電的點電荷固定于O點，兩虛線圓均以O為圓心，兩實線分別為帶電粒子M和N先后在電場中運動的軌跡，a、b、c、d、e為軌跡和虛線圓的交點。不計重力。下列說法說法正確的是

A. M帶負電荷，N帶正電荷

B. M在b點的動能小于它在a點的動能

C. N在d點的電勢能等于它在e點的電勢能

D. N在從c點運動到d點的過程中克服電場力做功

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