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如圖甲所示,R為電阻箱,為理想電流表,電源的電動(dòng)勢為E,內(nèi)阻為r.圖乙為電源的輸出功率P與電流表示數(shù)I的關(guān)系圖象,其中功率P0分別對應(yīng)電流I1、I2,外電阻R1、R2.則= ; R1、R2與r的關(guān)系為 (選填“”“”“”)
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如圖所示為a、b兩部分氣體的等壓過程圖象,由圖可知.當(dāng)t=0℃時(shí),氣體a的體積為 m3;當(dāng)t=273℃時(shí),氣體a的體積比氣體b的體積大 m3.
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如圖所示,一滑板B靜止在水平面上,上表面所在平面與固定于豎直平面內(nèi)、半徑為R的1/4圓形光滑軌道相切于Q。一物塊A從圓形軌道與圓心等高的P點(diǎn)無初速度釋放,當(dāng)物塊經(jīng)過Q點(diǎn)滑上滑板之后即刻受到大小F=2μmg、水平向左的恒力持續(xù)作用。已知物塊、滑板的質(zhì)量均為m,滑板與水平面間的動(dòng)摩擦因數(shù)μ,物塊與滑板間的動(dòng)摩擦因數(shù)3μ,物塊可視為質(zhì)點(diǎn),重力加速度取g.
(1)求物塊滑到Q點(diǎn)的速度大。
(2)通過計(jì)算判斷物塊在滑板上滑行過程中,滑板是否滑動(dòng);
(3)滑板足夠長,求物塊A與滑板B之間產(chǎn)生的內(nèi)能?
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如圖1所示,寒假前,某同學(xué)利用DIS系統(tǒng)對封閉在注射器內(nèi)的一定質(zhì)量的氣體作了兩次等溫過程的研究.第一次是在室溫下通過推、拉活塞改變氣體體積,并記錄體積和相應(yīng)的壓強(qiáng);第二次在較高溫度環(huán)境下重復(fù)這一過程.
(1)結(jié)束操作后,該同學(xué)繪制了這兩個(gè)等溫過程的p﹣1/V關(guān)系圖線,如圖.則反映氣體在第二次實(shí)驗(yàn)中的p﹣1/V關(guān)系圖線的是 1 (選填“1”或“2”);
(2)該同學(xué)是通過開啟室內(nèi)暖風(fēng)空調(diào)實(shí)現(xiàn)環(huán)境溫度升高的.在這一過程中,注射器水平地放置在桌面上,活塞可以自由伸縮,管內(nèi)的氣體經(jīng)歷了一個(gè) 等壓 (選填“等壓”“等溫”或“等容”)的變化過程.
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理論證明:衛(wèi)星圍繞中心天體以速度v做勻速圓周運(yùn)動(dòng)時(shí),如果將衛(wèi)星速度突然增大到 v,衛(wèi)星就可以擺脫中心天體的引力.由于萬有引力和點(diǎn)電荷之間的庫侖力均與距離平方成反比,所以,電子圍繞原子核的運(yùn)動(dòng)與衛(wèi)星的運(yùn)動(dòng)是相似的.有一質(zhì)量為m、電量為-e的電子圍繞電量為Q的原子核在半徑為r的圓周上做勻速圓周運(yùn)動(dòng),受到光的照射,電子吸收能量從而脫離原子核的吸引.回答下列問題:
(1)電子繞原子核在半徑為r的圓周上做勻速圓周運(yùn)動(dòng)的速度是多大?
( 2 ) 電子繞原子核在半徑為r的圓周上做勻速圓周運(yùn)動(dòng)的周期是多大?
(3)電子至少吸收多大能量才能脫離原子核的吸引?
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如圖所示,光滑水平臺(tái)面MN上放兩個(gè)相同小物塊A、B,右端N處與水平傳送帶理想連接,傳送帶水平部分長度L=8m,沿逆時(shí)針方向以恒定速度v0=2m/s勻速轉(zhuǎn)動(dòng)。物塊A、B(大小不計(jì),視作質(zhì)點(diǎn))與傳送帶間的動(dòng)摩擦因數(shù)均為μ=0.2,物塊A、B質(zhì)量均為m=1kg。開始時(shí)A、B靜止,A、B間壓縮一輕質(zhì)短彈簧,F(xiàn)解除鎖定,彈簧彈開A、B,彈開后B滑上傳送帶,A掉落到地面上的Q點(diǎn),已知水平臺(tái)面高h(yuǎn)=0.8m,Q點(diǎn)與水平臺(tái)面間右端間的距離S=1.6m,g取10m/s2。
(1)求物塊A脫離彈簧時(shí)速度的大小;
(2)求彈簧儲(chǔ)存的彈性勢能;
(3)求物塊B在水平傳送帶上運(yùn)動(dòng)的時(shí)間。
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如圖所示,PQ 右側(cè)平面區(qū)域分布 N 個(gè)足夠大條形磁感應(yīng)強(qiáng)度為 B 的勻強(qiáng)磁場,方向垂直紙面向里,相鄰磁場區(qū)域的距離為 s。左側(cè)存在一個(gè)加速電場,A 板為加速電場正極板,B 板為負(fù)極板,極板間電壓為 U,質(zhì)量 m、帶正電量為 q 的粒子從 A 板靜止釋放加速后垂直射入磁場(重力不計(jì))。
(1)試求粒子在磁場區(qū)域做圓周運(yùn)動(dòng)的軌道半徑;
(2)粒子恰好經(jīng)過右邊第二個(gè)磁場區(qū)域的右邊界后返回,最終垂直 PQ 邊界離開磁場,試求從粒子進(jìn)入磁場到返回邊界 PQ 所用的時(shí)間;
(3)若要求粒子經(jīng)過右邊第 N 個(gè)磁場后再返回通過邊界 PQ,試求加速電場的電壓應(yīng)該調(diào)節(jié)到多大。
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如圖所示,半徑為R=0.4m的光滑圓弧軌道AB與粗糙的水平軌道BO相切于B點(diǎn),一帶電量q=+0.2C質(zhì)量m=0.4kg的小物塊從A點(diǎn)由靜止釋放,經(jīng)過BO后以v =1 m/s的速度從O點(diǎn)水平拋出,擊中右下側(cè)擋板上的P點(diǎn)。以O為原點(diǎn)在豎直面內(nèi)建立如圖所示的平面直角坐標(biāo)系,擋板形狀滿足方程 (x和y的單位均為m),在y軸的左側(cè)區(qū)域存在豎直向下的勻強(qiáng)電場,場強(qiáng)E=20V/m,小物塊與軌道BO間的動(dòng)摩擦因數(shù)μ = 0.1,g 取10 m/s2。求
(1)小物塊經(jīng)過B點(diǎn)時(shí)對軌道的壓力大小
(2)水平軌道BO的長度
(3)P點(diǎn)的坐標(biāo)
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如圖所示,一水平放置的厚度為l折射率為n的平行玻璃磚,下表面鍍銀(成反射鏡).一物點(diǎn)A位于玻璃磚的上方距玻璃磚的上表面為h處。觀察者在左點(diǎn)附近看到了A點(diǎn)像。A點(diǎn)的像到A點(diǎn)的距離等于多少?不考慮光經(jīng)玻璃磚上表面的反射.
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