2.下列物質(zhì)中.不能用金屬單質(zhì)和非金屬單質(zhì)直接化合的是 ( ) A.CuO B. C. D.FeS 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

鐵是應(yīng)用最廣泛的金屬,工業(yè)上常采用熱還原法制備鐵。

(1)工業(yè)高爐煉鐵采用焦炭、鐵礦石等于高爐中共熱,并鼓入適量空氣,讓高溫下產(chǎn)生的CO氣體還原鐵礦石制得鐵。這種方法不可避免地混入了非金屬單質(zhì)——碳。純鐵的抗腐蝕能力相當(dāng)強(qiáng),而鐵碳合金卻易發(fā)生電化腐蝕。

①寫(xiě)出鋼鐵發(fā)生吸氧腐蝕時(shí)的正極反應(yīng)____________________________________。

②為保護(hù)鋼鐵制品不被腐蝕,可采用的電化學(xué)防護(hù)方法是(答出一種電化學(xué)防護(hù)方法的名稱(chēng))____________________________________。

(2)焊接無(wú)縫鋼軌時(shí)常采用鋁熱反應(yīng)制備鐵,中學(xué)教材中也有Al和Fe2O3的鋁熱反應(yīng)實(shí)驗(yàn)。

①有人推測(cè),鋁熱反應(yīng)實(shí)驗(yàn)中所得熔融物中可能混有Al。若用一個(gè)簡(jiǎn)單實(shí)驗(yàn)證明含Al,則應(yīng)選用的試劑是____________,能證明含鋁的現(xiàn)象是__________________________。

②若經(jīng)實(shí)驗(yàn)證實(shí)熔融物含鋁,欲將該熔融物完全溶解,下列試劑中最適宜的是____________(填序號(hào))。

A.濃硫酸                                            B.稀硫酸

C.稀HNO3                                          D.NaOH溶液

③實(shí)驗(yàn)研究發(fā)現(xiàn),硝酸發(fā)生氧化還原反應(yīng)時(shí),硝酸的濃度越稀,對(duì)應(yīng)還原產(chǎn)物中氮元素的化合價(jià)越低,直到還原成銨根離子()。某同學(xué)取一定量熔融物與一定量很稀的硝酸充分反應(yīng),反應(yīng)過(guò)程中無(wú)氣體放出。在反應(yīng)結(jié)束后的溶液中逐滴加入4 mol·L-1的NaOH溶液,所加NaOH溶液的體積(mL) 與產(chǎn)生沉淀的物質(zhì)的量(mol)的關(guān)系如圖所示:

試回答下列問(wèn)題:

Ⅰ.圖中DE段沉淀的物質(zhì)的量沒(méi)有變化,此段發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)________________。

Ⅱ.通過(guò)圖象判斷溶液中的離子結(jié)合OH-能力最強(qiáng)的是________________,最弱的是________________。

Ⅲ.EF段反應(yīng)的離子方程式是________________,A與B 的差值是________________mol。

查看答案和解析>>

(1)納米技術(shù)制成的金屬燃料、非金屬固體燃料、氫氣等已應(yīng)用到社會(huì)生活和高科技領(lǐng)域.單位質(zhì)量的A和B單質(zhì)燃燒時(shí)均放出大量熱,可用作燃料.已知A和B為短周期元素,其原子的第一至第四電離能如下表所示:
電離能(kJ?mol-1 I1 I2 I3 I4
A 932 1821 15390 21771
B 738 1451 7733 10540
①某同學(xué)根據(jù)上述信息,推斷B的核外電子排布如圖1所示,該同學(xué)所畫(huà)的電子排布圖違背了
能量最低原理
能量最低原理
、
泡利原理
泡利原理
,B元素位于周期表五個(gè)區(qū)域中的
S
S
區(qū).
②ACl2分子中A的雜化類(lèi)型為
SP
SP
,ACl2空間構(gòu)型為
直線
直線

(2)Fe原子或離子外圍有較多能量相近的空軌道,所以其能與一些分子或離子形成配合物.
①與Fe原子或離子形成配合物的分子或離子應(yīng)具備的結(jié)構(gòu)特征是
具有孤對(duì)電子
具有孤對(duì)電子

②六氰合亞鐵離子[Fe(CN)6]4-中不存在
B
B

A.共價(jià)鍵   B.非極性鍵   C.配位鍵    D.σ鍵    E.π鍵
寫(xiě)出一種與CN-互為等電子體的單質(zhì)的分子式
N2
N2

(3)一種Al-Fe合金的立體晶胞如圖2所示,請(qǐng)據(jù)此回答下列問(wèn)題:
①確定該合金的化學(xué)式
Fe2Al
Fe2Al

②若晶體的密度為ρg?cm-3,該晶胞棱長(zhǎng)為
3
139×4
NAρ
3
139×4
NAρ
cm(用含ρ和NA的代數(shù)式表示,不必化簡(jiǎn).

查看答案和解析>>

高純度單晶硅是典型的無(wú)機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。

相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見(jiàn)下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點(diǎn)/℃

57.7

12.8

315

熔點(diǎn)/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

 

請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

(1)儀器e的名稱(chēng)為               ,裝置A中f管的作用是                           ,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為                                              。

(2)裝置B中的試劑是                     

(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計(jì)了以下兩種實(shí)驗(yàn)方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個(gè)方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請(qǐng)你評(píng)價(jià)后填寫(xiě)下表。

方案

不足之處

 

 

 

(4)在上述(3)的評(píng)價(jià)基礎(chǔ)上,請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)合理方案:                                   。

(5)通過(guò)上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過(guò)精餾(類(lèi)似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是            (填寫(xiě)元素符號(hào))。

 

查看答案和解析>>

高純度單晶硅是典型的無(wú)機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。

相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見(jiàn)下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點(diǎn)/℃

57.7

12.8

315

熔點(diǎn)/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

 

請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

(1)儀器e的名稱(chēng)為_(kāi)___________,裝置A中f管的作用是_______________________________________,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)____        ____________________________________     _______。

(2)裝置B中的試劑是____________。

(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計(jì)了以下兩種實(shí)驗(yàn)方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個(gè)方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請(qǐng)你評(píng)價(jià)后填寫(xiě)下表。

方案

不足之處

 

 

 

(4)在上述(3)的評(píng)價(jià)基礎(chǔ)上,請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)合理方案:___________     ________                  。

(5)通過(guò)上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過(guò)精餾(類(lèi)似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是    (填寫(xiě)元素符號(hào))。

 

查看答案和解析>>

高純度單晶硅是典型的無(wú)機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。

相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見(jiàn)下表:

物質(zhì)
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸點(diǎn)/℃
57.7
12.8

315

熔點(diǎn)/℃
-70.0
-107.2



升華溫度/℃


180
300
162
 
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)儀器e的名稱(chēng)為_(kāi)___________,裝置A中f管的作用是_______________________________________,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)____        ____________________________________    _______。
(2)裝置B中的試劑是____________。
(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計(jì)了以下兩種實(shí)驗(yàn)方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個(gè)方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請(qǐng)你評(píng)價(jià)后填寫(xiě)下表。
方案
不足之處

 

 
 
(4)在上述(3)的評(píng)價(jià)基礎(chǔ)上,請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)合理方案:___________    ________                 
(5)通過(guò)上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過(guò)精餾(類(lèi)似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是   (填寫(xiě)元素符號(hào))。

查看答案和解析>>


同步練習(xí)冊(cè)答案