題目列表(包括答案和解析)
(1)工業(yè)高爐煉鐵采用焦炭、鐵礦石等于高爐中共熱,并鼓入適量空氣,讓高溫下產(chǎn)生的CO氣體還原鐵礦石制得鐵。這種方法不可避免地混入了非金屬單質(zhì)——碳。純鐵的抗腐蝕能力相當(dāng)強(qiáng),而鐵碳合金卻易發(fā)生電化腐蝕。
①寫(xiě)出鋼鐵發(fā)生吸氧腐蝕時(shí)的正極反應(yīng)____________________________________。
②為保護(hù)鋼鐵制品不被腐蝕,可采用的電化學(xué)防護(hù)方法是(答出一種電化學(xué)防護(hù)方法的名稱(chēng))____________________________________。
(2)焊接無(wú)縫鋼軌時(shí)常采用鋁熱反應(yīng)制備鐵,中學(xué)教材中也有Al和Fe2O3的鋁熱反應(yīng)實(shí)驗(yàn)。
①有人推測(cè),鋁熱反應(yīng)實(shí)驗(yàn)中所得熔融物中可能混有Al。若用一個(gè)簡(jiǎn)單實(shí)驗(yàn)證明含Al,則應(yīng)選用的試劑是____________,能證明含鋁的現(xiàn)象是__________________________。
②若經(jīng)實(shí)驗(yàn)證實(shí)熔融物含鋁,欲將該熔融物完全溶解,下列試劑中最適宜的是____________(填序號(hào))。
A.濃硫酸 B.稀硫酸
C.稀HNO3 D.NaOH溶液
③實(shí)驗(yàn)研究發(fā)現(xiàn),硝酸發(fā)生氧化還原反應(yīng)時(shí),硝酸的濃度越稀,對(duì)應(yīng)還原產(chǎn)物中氮元素的化合價(jià)越低,直到還原成銨根離子()。某同學(xué)取一定量熔融物與一定量很稀的硝酸充分反應(yīng),反應(yīng)過(guò)程中無(wú)氣體放出。在反應(yīng)結(jié)束后的溶液中逐滴加入4 mol·L-1的NaOH溶液,所加NaOH溶液的體積(mL) 與產(chǎn)生沉淀的物質(zhì)的量(mol)的關(guān)系如圖所示:
試回答下列問(wèn)題:
Ⅰ.圖中DE段沉淀的物質(zhì)的量沒(méi)有變化,此段發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)________________。
Ⅱ.通過(guò)圖象判斷溶液中的離子結(jié)合OH-能力最強(qiáng)的是________________,最弱的是________________。
Ⅲ.EF段反應(yīng)的離子方程式是________________,A與B 的差值是________________mol。
電離能(kJ?mol-1) | I1 | I2 | I3 | I4 |
A | 932 | 1821 | 15390 | 21771 |
B | 738 | 1451 | 7733 | 10540 |
3 |
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3 |
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高純度單晶硅是典型的無(wú)機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。
相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見(jiàn)下表:
物質(zhì) |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
沸點(diǎn)/℃ |
57.7 |
12.8 |
— |
315 |
— |
熔點(diǎn)/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
— |
— |
— |
升華溫度/℃ |
— |
— |
180 |
300 |
162 |
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)儀器e的名稱(chēng)為 ,裝置A中f管的作用是 ,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為 。
(2)裝置B中的試劑是 。
(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計(jì)了以下兩種實(shí)驗(yàn)方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個(gè)方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請(qǐng)你評(píng)價(jià)后填寫(xiě)下表。
方案 |
不足之處 |
甲 |
|
乙 |
|
(4)在上述(3)的評(píng)價(jià)基礎(chǔ)上,請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)合理方案: 。
(5)通過(guò)上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過(guò)精餾(類(lèi)似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是 (填寫(xiě)元素符號(hào))。
高純度單晶硅是典型的無(wú)機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。
相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見(jiàn)下表:
物質(zhì) |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
沸點(diǎn)/℃ |
57.7 |
12.8 |
— |
315 |
— |
熔點(diǎn)/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
— |
— |
— |
升華溫度/℃ |
— |
— |
180 |
300 |
162 |
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)儀器e的名稱(chēng)為_(kāi)___________,裝置A中f管的作用是_______________________________________,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)____ ____________________________________ _______。
(2)裝置B中的試劑是____________。
(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計(jì)了以下兩種實(shí)驗(yàn)方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個(gè)方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請(qǐng)你評(píng)價(jià)后填寫(xiě)下表。
方案 |
不足之處 |
甲 |
|
乙 |
|
(4)在上述(3)的評(píng)價(jià)基礎(chǔ)上,請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)合理方案:___________ ________ 。
(5)通過(guò)上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過(guò)精餾(類(lèi)似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是 (填寫(xiě)元素符號(hào))。
高純度單晶硅是典型的無(wú)機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。
相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見(jiàn)下表:
物質(zhì) | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸點(diǎn)/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
熔點(diǎn)/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
升華溫度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
方案 | 不足之處 |
甲 | |
乙 | |
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