5．下列有關Si及SiO2的用途說法不正確的是 ( ) A．Si鈥︹€�【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

（1）下列有關硅及化合物的說法，正確的是
ABD
ABD
．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽能電池使用單質硅做材料，其應用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過程不涉及氧化還原反應
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質，通過“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱是
蒸餾（分餾、精餾均可）
蒸餾（分餾、精餾均可）
．
（3）整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．H2還原SiCl4過程中發(fā)生的反應是：
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
在該過程中若有O2混入，可能引起的后果是
引起爆炸
引起爆炸
．
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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

（1）下列有關硅及化合物的說法，正確的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽能電池使用單質硅做材料，其應用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過程不涉及氧化還原反應
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質，通過“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱是______．
（3）整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．H2還原SiCl4過程中發(fā)生的反應是：______ Si+4HCl
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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應用。工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下
（1）下列有關硅及化合物的說法，正確的是__________。
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽能電池使用單質硅做材料，其應用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過程不涉及氧化還原反應
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質，通過操作A提純得到純SiCl4，操作A的名稱是___________。
（3）整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。H2還原SiCl4過程中發(fā)生的反應是：______________________在該過程中若有O2混入，可能引起的后果是___________________________。
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下列關于Si與SiO2的敘述中, 錯誤的是  

[　　]

A.常溫下, Si和SiO2均不能與F2、HF及NaOH溶液發(fā)生反應.

B.Si、SiO2和HCl、HNO3、H2SO4,均不反應(常溫).

C.Si的最高氧化物水化物是H4SiO4, 它的酸酐是SiO2.

D.SiO2與Na2CO3反應生成Na2SiO3和CO2說明SiO2比CO2活潑.   

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下列有關現(xiàn)象及對應的離子方程式或化學反應方程式不正確的是（　�。�
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