“材料”的發(fā)現(xiàn)和使用往往會(huì)極大地推動(dòng)生產(chǎn)、生活的發(fā)展，一些材料的出現(xiàn)甚至具有里程碑式劃時(shí)代的意義．請(qǐng)你回答以下問(wèn)題：
（1）無(wú)機(jī)非金屬材料．高純度單晶硅是典型的無(wú)機(jī)非金屬材料，又稱(chēng)“半導(dǎo)體”材料，它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”．這種材料可以按下列方法制備：

①寫(xiě)出步驟①的化學(xué)方程式：．
②步驟②經(jīng)過(guò)冷凝得到的SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量的SiCl₄（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)-84.7℃），提純SiHCl₃的主要化學(xué)操作的名稱(chēng)是；SiHCl₃和SiCl₄一樣遇水可發(fā)生劇烈水解，已知SiHCl₃水解會(huì)生成兩種氣態(tài)產(chǎn)物，請(qǐng)寫(xiě)出其水解的化學(xué)方程式：．
③請(qǐng)寫(xiě)出二氧化硅與氫氟酸反應(yīng)的化學(xué)方程式：．
（2）磁性材料．這種材料一般含有鐵元素，鐵是用途最為廣泛的金屬，也較為活潑，所以從它的使用開(kāi)始就不斷實(shí)施著對(duì)它的防護(hù)．最常見(jiàn)的鐵制品腐蝕就是電化學(xué)腐蝕，寫(xiě)出最為普遍的電化學(xué)腐蝕的負(fù)極反應(yīng)式．
（3）激光材料．我國(guó)是激光技術(shù)先進(jìn)的國(guó)家，紅寶石（Al₂O₃）是最早用于產(chǎn)生激光的材料，它是一種兩性氧化物，請(qǐng)用離子方程式加以說(shuō)明：，．
（4）納米材料．膠體是一種物質(zhì)以“納米”顆粒的形式分散到另一種物質(zhì)里形成的分散系，膠體粒子的直徑大約是，三氯化鐵溶液可以加速傷口止血，請(qǐng)簡(jiǎn)述原因．
（5）高分子材料．可以分成無(wú)機(jī)高分子材料和有機(jī)高分子材料．一種新型高效凈水劑[AlFe（OH）_nCl_6-n]_m就屬于無(wú)機(jī)高分子材料，廣泛應(yīng)用于生活用水和工業(yè)污水處理，其中鐵元素的化合價(jià)為．一種合成纖維腈綸，又稱(chēng)“人造羊毛”，由丙烯腈（CH₂═CH-CN）為原料聚合生成，請(qǐng)寫(xiě)出生成該有機(jī)高分子材料的化學(xué)方程式：．

晶體硅是一種重要的非金屬材料．制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅   ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl₃：Si+3HCl

300℃  .

SiHCl₃+H₂
③SiHCl₃與過(guò)量H₂在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅．
已知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為．
（2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)-84.7℃），提純SiHCl₃采用的方法為：．
（3）用SiHCl₃與過(guò)量H₂反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：
①裝置B中的試劑是，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是：．
②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為．
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及．
④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫(xiě)字母代號(hào)）是
a．碘水b．氯水c．NaOH溶液d．KSCN溶液e．Na₂SO₃溶液．

在無(wú)機(jī)非金屬材料中，硅一直扮演著主要的角色．制備純硅的主要步驟如下：①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅；
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl₃：Si+3HCl

300℃  .

SiHCl₃+H₂；
③SiHCl₃與過(guò)量H₂在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅；
請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為．
（2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)-84.7℃），提純SiHCl₃采用的方法為：．
（3）從基本反應(yīng)類(lèi)型角度分類(lèi)，步驟③中發(fā)生的反應(yīng)屬于．
（4）為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是（填寫(xiě)字母代號(hào)）．
a．氯水     b．NaOH溶液    c．KSCN溶液    d．Na₂SO₃溶液．

在pH=0溶液中，下列各組離子因發(fā)生氧化還原反應(yīng)而不能大量共存的是（　�。�

N_A表示阿伏伽德羅常數(shù)，某氯氣樣品由³⁷Cl₂分子組成，下列說(shuō)法正確的是（　�。�