(7分)用電石和水反應(yīng)，產(chǎn)生的乙炔中含有H₂S等雜質(zhì)。某學(xué)生擬選用①NaOH溶液、②KMnO₄溶液、③CuSO₄溶液、④濃HNO₃、⑤濃H₂SO₄中的一種除去H₂S雜質(zhì)，經(jīng)研究最后他確定選用的溶液是　　　　（填序號），如果沒有該試劑，請你用其它試劑代替（寫一種化學(xué)式）　　　　　。選用前者而發(fā)生的離子方程式為                   。但這一方程式所表示的制取原理與一般的情況有所不同，如強制弱、穩(wěn)定制不穩(wěn)定、難揮發(fā)制易揮發(fā)等，請用離子方程式表述將稀鹽酸逐滴滴加到NaOH和Na₂CO₃混合溶液中的變化過程：                                                             。

(7分)用電石和水反應(yīng)，產(chǎn)生的乙炔中含有H₂S等雜質(zhì)。某學(xué)生擬選用①NaOH溶液、②KMnO₄溶液、③CuSO₄溶液、④濃HNO₃、⑤濃H₂SO₄中的一種除去H₂S雜質(zhì)，經(jīng)研究最后他確定選用的溶液是　　　　（填序號），如果沒有該試劑，請你用其它試劑代替（寫一種化學(xué)式）　　　　　。選用前者而發(fā)生的離子方程式為                   。但這一方程式所表示的制取原理與一般的情況有所不同，如強制弱、穩(wěn)定制不穩(wěn)定、難揮發(fā)制易揮發(fā)等，請用離子方程式表述將稀鹽酸逐滴滴加到NaOH和Na₂CO₃混合溶液中的變化過程：                                                             。

(7分)用電石和水反應(yīng)，產(chǎn)生的乙炔中含有H₂S等雜質(zhì)。某學(xué)生擬選用①NaOH溶液、②KMnO₄溶液、③CuSO₄溶液、④濃HNO₃、⑤濃H₂SO₄中的一種除去H₂S雜質(zhì)，經(jīng)研究最后他確定選用的溶液是　　　　（填序號），如果沒有該試劑，請你用其它試劑代替（寫一種化學(xué)式）　　　　　。選用前者而發(fā)生的離子方程式為                    。但這一方程式所表示的制取原理與一般的情況有所不同，如強制弱、穩(wěn)定制不穩(wěn)定、難揮發(fā)制易揮發(fā)等，請用離子方程式表述將稀鹽酸逐滴滴加到NaOH和Na₂CO₃混合溶液中的變化過程：                                                              。

(16分)某研究小組擬用粗食鹽(含Ca²⁺、Mg²⁺、SO等)、粗硅(含C及不與Cl₂反應(yīng)的固體雜質(zhì))制取純硅，設(shè)計如下的工藝流程：

試回答下列問題：
（1）工業(yè)上一般是利用過量焦炭在高溫下還原石英砂來制取粗硅，寫出該過程的化學(xué)方程式：_______________________________________________________________________。
（2）精制粗鹽水所需試劑為①BaC1₂；②Na₂CO₃；③HC1；④NaOH，其滴加的先后順序是下列的________(填下列各項的序號)。
a．①②④③    b．④②①③    c．④①③②    d．②④①③
已知，，假設(shè)該粗鹽水中的濃度均為0.01 mol·L^-1，若向1 L該粗鹽水中逐漸滴入一定量Na₂CO₃溶液，首先出現(xiàn)的沉淀是__________。
（3）已知SiCl₄的沸點是57.6℃，CC1₄的沸點是76.8℃。在反應(yīng)器I中得到的SiCl₄粗品中含有CCl₄，從中得到純凈SiCl₄可采用的方法是下列各項中的________(填序號)。
a．蒸餾    b．干餾    c．分液    d．過濾
反應(yīng)器Ⅱ中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為__________________________________________。
（4）下圖是用離子交換膜法電解飽和食鹽水的示意圖，電解槽中陰極產(chǎn)生的氣體是_____。產(chǎn)品A的化學(xué)式為____________。

若采用無膜電解槽電解飽和食鹽水可制取次氯酸鈉，試寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式__              ___。