6．鑒別某溶液中含有Br^-還是I^-，可以選用的試劑最合適的是　　　　　　　　 (　　 )

A．碘水和淀粉溶液　　　　　 B．氫氧化鈉

C．氯水和淀粉溶液　　　　　 D．四氯化碳

5.． 如圖所示，下列實(shí)驗(yàn)操作與方法正確的是　

4、下列滅火劑能用于撲滅金屬鈉著火的是　　　　　　　　　　　　　　　 (　　 )

A．干冰滅火劑　　　　 B．黃砂　　　 C．干粉(含NaHCO₃)滅火劑　 　　　 D．泡沫滅火劑

3．用特殊的方法把固體物質(zhì)加工到納米級(jí)(1-100nm,1nm=10^-9m)的超細(xì)粉末，然后制得納米材料。下列分散系中的分散質(zhì)的粒子直徑和這種粒子具有相同數(shù)量級(jí)的是 (　　 )

A．溶液　　　　 B．懸濁液　　　 C．乳濁液　　　 D．膠體　　　　　

2．下列表格中各項(xiàng)分類都正確的一組是　　　　　　 　　　　　　　　　　　(　　　 )

類別 選項(xiàng)	純凈物	混合物	電解質(zhì)	非電解質(zhì)
A	純鹽酸	漂白粉	KNO3	蔗糖
B	膽礬	�！� 水	次氯酸	酒精
C	氯水	鋁合金	AgCl	CO2
D	氫氧化鈉	液氯	Na2SO4溶液	食醋

1．碘缺乏病是目前已知的導(dǎo)致人類智力障礙的主要原因。為解決這一全國性問題，我國很久前已經(jīng)開始實(shí)施“智力工程”，最經(jīng)濟(jì)可行的措施是　　　　　　　　 (　 　　)

A．食鹽加碘(鹽)　　　　　　 B．面包加碘(鹽)　

　C．大量食用海帶　　　　　　　 D．注射含碘藥劑

29.(6分)實(shí)驗(yàn)室常用的濃鹽酸密度為1.17g.mL-1、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為36.5%。

(1)此濃鹽酸的物質(zhì)的量濃度為　　　　　　　　　　　 。

(2) 取此濃鹽酸50mL，用蒸餾水稀釋至200mL，稀鹽酸的物質(zhì)的量濃度為　　　　　　 。

(3)將13g鋅投入足量的上述實(shí)驗(yàn)所得的稀鹽酸中，充分反應(yīng)后，求：

　 ①放出的H2在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積。

②將生成的H2通過足量的灼熱CuO，求被還原出的銅的質(zhì)量。(假設(shè)氫氣在反應(yīng)中沒有損失)

28.(4分)將11. 2g鐵投入200mL某濃度的硫酸中，鐵和硫酸恰好完全反應(yīng)。求：

(1)11.2g鐵的物質(zhì)的量

(2)所用硫酸中H2SO4的物質(zhì)的量濃度

　(3)反應(yīng)中生成的H2在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積

(4)在反應(yīng)后的溶液中通入1.12 L(標(biāo)準(zhǔn)狀況下)Cl2 ，求所得溶液各種離子的物質(zhì)的量之比。

27.(7分)用98%的濃H2SO4(ρ=1.84g/cm3)配制500ml0.5mol/L的稀H2SO4，請(qǐng)按要求填空：

(1)配制時(shí)所需濃硫酸的體積為　　　　　 。

(2)如果實(shí)驗(yàn)室有10mL、20mL、50mL量筒，應(yīng)選用　　　　 mL量筒，實(shí)驗(yàn)中還需要用到的儀器有　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 。

(3)若實(shí)驗(yàn)中出現(xiàn)下列現(xiàn)象對(duì)所配溶液濃度有什么影響？(填偏高、偏低、無影響)

①濃硫酸溶解后未冷至室溫即進(jìn)行定容　　　　　　　 ；

②定容時(shí)俯視刻度線　　　　　　　 ；

(4)若定容時(shí)液面高于刻度線應(yīng)采取的措施是　　　　　　　　　　　　 。

26、(13分)已知氯化鐵溶液跟銅反應(yīng)生成氯化銅和氯化亞鐵。電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔，制造印刷電路板。

(1)檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是　　　　　　　　　 ，證明Fe3+存在的現(xiàn)象是　　　　　　　　　　　　 。

(2)寫出FeCl3溶液與金屬銅發(fā)生反應(yīng)的離子方程式：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 。

(3)某工程師為了從使用過的腐蝕廢液中回收銅，并重新獲得FeCl3溶液，準(zhǔn)備采用下列步驟：

A．請(qǐng)寫出上述實(shí)驗(yàn)中加入或生成的有關(guān)物質(zhì)的化學(xué)式：

①　　　　　　　　　　　　 ，②　　　　　　　　　　 ，④　　　　　　　　　　 　 ，

B．請(qǐng)寫出含有②的濾液與⑤反應(yīng)的化學(xué)方程式，并用雙線橋法標(biāo)明電子轉(zhuǎn)移方向和數(shù)目。

氧化劑為　　　　　　　　　　 還原劑為　　　　　　　　　　 。