2NaCl+2H2O2NaOH+Cl2↑+H2↑電解槽煉鋁 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

用氯水對(duì)飲用水進(jìn)行消毒已有百年的歷史,這種消毒方法會(huì)使飲用水中有機(jī)物發(fā)生氯代,生成對(duì)人體有害的含氯有機(jī)物.世界環(huán)保聯(lián)盟將全面禁止使用氯氣對(duì)飲用水的消毒,建議使用廣譜高效消毒劑二氧化氯.目前歐洲許多國(guó)家用氧化濃鹽酸來制取ClO2:2NaClO3+4HCl(濃)=Cl2↑+2ClO2↑+2NaCl+2H2O.已知ClO2在殺菌消費(fèi)后全部轉(zhuǎn)化為Cl-,若將該方法生成的氣體全部通入到600mL 0.500mol?L-1的KI溶液中,KI恰好全部氧化為I2,試求參加反應(yīng)原NaClO3的質(zhì)量.

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水做還原劑的氧化還原反應(yīng)是( 。

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(2010?棗莊一模)鹵素單質(zhì)的性質(zhì)活潑,鹵素的化合物應(yīng)用廣泛,研究鹵素單質(zhì)及其化合物具有重要意義.
(1)氯元素的原子結(jié)構(gòu)示意圖為

(2)二氧化氯(ClO2)是一種廣泛用于水處理消毒劑,與Cl2相比,ClO2不但具有更顯著的殺菌能力,而且不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體有害的有機(jī)氯化物.制備ClO2的方法有以下兩種:
2NaClO3+4HCl=2ClO2↑+Cl2↑+2NaCl+2H2O…①
2NaClO2+H2O2+H2SO4=2C1O2↑+O2↑+Na2SO4+2H2O  …②
你認(rèn)為哪種方法最佳
(填序號(hào)),理由是
ClO2中混有O2,不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體有害的物質(zhì)
ClO2中混有O2,不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體有害的物質(zhì)

(3)工業(yè)上用電解飽和食鹽水的方法制取燒堿和氯氣,請(qǐng)寫出反應(yīng)的離子方程式
2C1-+2H2O
 通電 
.
 
Cl2↑+H2↑+2OH-
2C1-+2H2O
 通電 
.
 
Cl2↑+H2↑+2OH-

(4)碘鎢燈具有比白熾燈壽命長(zhǎng)且環(huán)保節(jié)能的特點(diǎn).一定溫度下,燈泡內(nèi)封存的少量碘與使用過程中沉積在管壁上的鎢可以發(fā)生反應(yīng):W(s)+I2(g)WI2(g).為模擬上述反應(yīng),準(zhǔn)確稱取0.508g碘、0.736g金屬鎢置于50.0mL
的密閉容器中,加熱使其反應(yīng).如圖是WI2(g)的物質(zhì)的量隨時(shí)間變化關(guān)系圖象,其中曲線I(0~t2時(shí)間段)的反應(yīng)溫度為T1,曲線II(從t2開始)的反應(yīng)溫度為T2,且T2>T1.則:
①該反應(yīng)的△H
小于
小于
0(填“大于”或“等于”或“小于”)
②從反應(yīng)開始到t1時(shí)間內(nèi)的平均反應(yīng)速率v(I2)=
0.036
t1
mol?L-1?min-1
0.036
t1
mol?L-1?min-1

③下列說法中不正確的是
A
A
(填序號(hào)).
A.該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式是K=
[WI2]
[W][I2]

B.燈絲附近溫度越高,燈絲附近區(qū)域WI2越易變?yōu)閃而重新沉積到燈絲上
C.利用該反應(yīng)原理可以提純鎢
(5)25℃時(shí),向5mL含有KCl和KI濃度均為0.1mol/L的混合液中,滴加6mL0.1mol/L的AgNO3溶液,先生成的沉淀是
AgI
AgI
,溶液中離子濃度由大到小的順序是
c(K+)>c(NO-3)>c(Cl-)>c(Ag+)>c(I-
c(K+)>c(NO-3)>c(Cl-)>c(Ag+)>c(I-
[不考慮H+和OH-.25℃時(shí)KSP(AgCl)=1.8×10-10、KSP(AgI)=8.3×10-17].
(6)Mg常用作提純Ti的試劑,已知:
①M(fèi)g(s)+Cl2(g)=MgCl2(s)△H=-641kJ/mol
②Ti(s)+2Cl2(g)=TiCl4(l)△H=-770kJ/mol
請(qǐng)寫出Mg與液態(tài)TiCl4反應(yīng)提純鈦的熱化學(xué)方程式
2Mg(s)+TiCl4(1)=2MgCl2(s)+Ti(s)△H=-512kJ?mol-1
2Mg(s)+TiCl4(1)=2MgCl2(s)+Ti(s)△H=-512kJ?mol-1

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(2013?朝陽區(qū)二模)硅是信息產(chǎn)業(yè)、太陽能電池光電轉(zhuǎn)化的基礎(chǔ)材料.鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過程示意如下:

(1)焦炭在過程Ⅰ中作
還原
還原
劑.
(2)過程Ⅱ中的Cl2用電解飽和食鹽水制備,制備Cl2的化學(xué)方程式是
2NaCl+2H2O
 通電 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2
2NaCl+2H2O
 通電 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2

(3)整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水.
①SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是
SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl
SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl

②干燥Cl2時(shí),從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮,需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃,然后再通入到濃H2SO4中.冷卻的作用是
使水蒸氣冷凝,減少進(jìn)入濃硫酸的水量保持持續(xù)的吸水性并降低放出的熱量
使水蒸氣冷凝,減少進(jìn)入濃硫酸的水量保持持續(xù)的吸水性并降低放出的熱量

(4)Zn還原SiCl4的反應(yīng)如下:
反應(yīng)1:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(l)△H1<0
反應(yīng)2:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H2<0
反應(yīng)3:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H3<0
①對(duì)于上述三個(gè)反應(yīng),下列說法合理的是
bcd
bcd

a.升高溫度會(huì)提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率      b.還原過程需在無氧的氣氛中進(jìn)行
c.增大壓強(qiáng)能提高反應(yīng)的速率         d.Na、Mg可以代替Zn還原SiCl4
②實(shí)際制備過程選擇“反應(yīng)3”,選擇的理由是
溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個(gè)反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動(dòng)提高轉(zhuǎn)化率
溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個(gè)反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動(dòng)提高轉(zhuǎn)化率

③已知Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol.若SiCl4的轉(zhuǎn)化率均為90%,每投入1mol SiCl4,“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出
208.8
208.8
kJ的熱量.
(5)用硅制作太陽能電池時(shí),為減弱光在硅表面的反射,采用化學(xué)腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層.腐蝕劑常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后轉(zhuǎn)化為H2SiF6.用化學(xué)方程式表示SiO2轉(zhuǎn)化為H2SiF6的過程
SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O
SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O

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(1)現(xiàn)有如下兩個(gè)反應(yīng):
(A)NaOH+HCl=NaCl+H2O(B)2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2
①根據(jù)兩反應(yīng)本質(zhì)判斷,
B
B
能設(shè)計(jì)成原電池(填“A”或“B”).
②如果(A或B)不能,說明其原因
A的反應(yīng)非氧化還原反應(yīng),沒有電子轉(zhuǎn)移
A的反應(yīng)非氧化還原反應(yīng),沒有電子轉(zhuǎn)移

(2)如圖所示裝置,燒杯中盛有滴有酚酞的NaCl飽和溶液,C(1)、C(2)為多孔石墨電極.
①接通S1后,兩極均有氣體生成,C(1)附近溶液顯
紅色
紅色
色.裝置內(nèi)發(fā)生的總反應(yīng)化學(xué)方程式為
2NaCl+2H2O
 電解 
.
 
H2↑+Cl2↑+2NaOH
2NaCl+2H2O
 電解 
.
 
H2↑+Cl2↑+2NaOH

②若有11.7g NaCl發(fā)生反應(yīng),理論上生成Cl2的體積(標(biāo)準(zhǔn)狀況)為
2.24L
2.24L

③反應(yīng)一段時(shí)間后(電極未脫離液面),斷開S1,接通S2,觀察到二極管發(fā)光.此時(shí):C(2)的電極反應(yīng)式是
Cl2+2e-═2Cl-
Cl2+2e-═2Cl-

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