某礦樣含有大量的CuS、少量鐵的氧化物及少量其它不溶于酸的雜質(zhì)。某化學(xué)課外小組設(shè)計(jì)以下流程，取該礦樣為原料生產(chǎn)CuC1₂·2H₂O晶體。

已知：常溫下，金屬離子開始沉淀和沉淀完全時(shí)的pH見下表。 

回答下列問題：

（1）步驟①的焙燒過程中需要通入氧氣。在實(shí)驗(yàn)室中，可使用常見化學(xué)物質(zhì)利用右圖所示裝置制取氧氣，試寫出熟悉的符合上述條件的兩個(gè)化學(xué)方程式：______、______

（2）培燒產(chǎn)生的尾氣中含有的一種氣體是形成酸雨的污染物，若將尾氣通入氨水中，能發(fā)生多個(gè)反應(yīng)，寫出其中可能發(fā)生的兩個(gè)氧化還原反應(yīng)的化學(xué)方程式：______、______

（3）步驟②酸浸過程中，需要用到3mol·L^-1的鹽酸100mL，配制該鹽酸溶液時(shí)，除了用到燒杯、玻璃棒、膠頭滴管外，還需要的儀器有_________

（4）步驟④加入物質(zhì)X的目的是_____，物質(zhì)X可以選用下列物質(zhì)中的_____。

A．氫氧化鈉      B．稀鹽酸     C．氨水       D．氧化銅

（5）當(dāng)溶液中金屬離子濃度低于1×10^-5 mol·L^-1時(shí)，認(rèn)為該金屬離子沉淀完全，則K_sp[Fe(OH)₂]= _____。

（15分）某礦樣含有大量的CuS、少量鐵的氧化物及少量其它不溶于酸的雜質(zhì)。某化學(xué)課外小組設(shè)計(jì)以下流程，取該礦樣為原料生產(chǎn)CuC1₂·2H₂O 晶體。

已知：常溫下，金屬離子開始沉淀和沉淀完全時(shí)的pH 見下表。

回答下列問題：

（l）步驟①的焙燒過程中需要通入氧氣。在實(shí)驗(yàn)室中，可使用常見化學(xué)物質(zhì)利用上圖所示裝置制取氧氣，試寫出熟悉的符合上述條件的兩個(gè)化學(xué)方程式：______________________、______________________。

（2）焙燒產(chǎn)生的尾氣中含有的一種氣體是形成酸雨的污染物，若將尾氣通入氨水中，能發(fā)生多個(gè)反應(yīng)，寫出其中可能發(fā)生的兩個(gè)氧化還原反應(yīng)的化學(xué)方程式：____________________、__________________。

（3）步驟②酸浸過程中，需要用到3 mol · L^-1的鹽酸100 mL，配制該鹽酸溶液時(shí)，除了用到燒杯、玻璃棒、膠頭滴管外，還需要的儀器有_______________________________________。

（4）步驟④加入物質(zhì)X的目的是_________________________________________，物質(zhì)X 可以選用下列物質(zhì)中的______________________。

（A）氫氧化鈉          （B）稀鹽酸          （C）氨水          （D）氧化銅

（5）當(dāng)溶液中金屬離子濃度低于1×10^-5 mol · L^-1時(shí)，認(rèn)為該金屬離子沉淀完全，則Ksp[Fe(OH)₂]=_____。

某礦樣含有大量的CuS、少量鐵的氧化物及少量其他不溶于酸的雜質(zhì)。某化學(xué)課外小組設(shè)計(jì)以下流程，以該礦樣為原料生產(chǎn)CuCl₂·2H₂O晶體。

已知：在20 ℃時(shí)，氯化銅的溶解度是73 g；常溫下，金屬離子開始沉淀和沉淀完全時(shí)的pH見下表。