硅是重要的半導體材料，構成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎�；卮鹣铝袉栴}：

（1）基態(tài)Si原子中，電子占據的最高能層符號為       ，該能層具有的原子軌道數(shù)為       、電子數(shù)為          。

（2）硅主要以硅酸鹽、               等化合物的形式存在于地殼中。

（3）單質硅存在與金剛石結構類似的晶體，其中原子與原子之間以               相結合，其晶胞中共有8個原子，其中在面心位置貢獻           個原子。

（4）單質硅可通過甲硅烷(SiH₄)分解反應來制備。工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介質中反應制得SiH₄，該反應的化學方程式為                                                   。

（5）碳和硅的有關化學鍵鍵能如下所示，簡要分析和解釋下列有關事實：

①硅與碳同族，也有系列氫化物，但硅烷在種類和數(shù)量上都遠不如烷烴多，原因是                                                                                   。

②SiH₄的穩(wěn)定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是                                              。

（6）在硅酸鹽中，SiO₄^4－四面體(如下圖(a))通過共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網狀四大類結構型式。圖(b)為一種無限長單鏈結構的多硅酸根，其中Si原子的雜化形式為                  。Si與O的原子數(shù)之比為             。

[化學—選修3：物質結構與性質]（15分）

硅是重要的半導體材料，構成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎。請回答下列問題：

（1）基態(tài)Si原子中，電子占據的最高能層符號為       ，該能層具有的原子軌道數(shù)為        、電子數(shù)為           。

（2）硅主要以硅酸鹽、           等化合物的形式存在于地殼中。

（3）單質硅存在與金剛石結構類似的晶體，其中原子與原子之間以           相結合，其晶胞中共有8個原子，其中在面心位置貢獻          個原子。

（4）單質硅可通過甲硅烷（SiH₄）分解反應來制備。工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介質中反應制得SiH₄，該反應的化學方程式為                                     。

（5）碳和硅的有關化學鍵鍵能如下所示，簡要分析和解釋下列有關事實：

①硅與碳同族，也有系列氫化物，但硅烷在種類和數(shù)量上都遠不如烷烴多，原因是      。

②SiH₄的穩(wěn)定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是                           。

（6）在硅酸鹽中，SiO4- 4四面體（如下圖（a））通過共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網狀四大類結構型式。圖（b）為一種無限長單鏈結構的多硅酸根，其中Si原子的雜化形式為      ，Si與O的原子數(shù)之比為         ，化學式為                  。