10.半圓柱體P放在粗糙的水平面上.其右端有固定放置的豎直木板MN.在半圓柱P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q.整個(gè)裝置處于靜止.如圖所示是這個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直并且緩慢地向右移動(dòng).發(fā)現(xiàn)P點(diǎn)始終保持靜止.在此過程中.下列說法正確的是 ( ) A.MN對(duì)Q的彈力逐漸減小 20081030 B.地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大 C.P.Q間的彈力先減小后增大 D.Q所受的合力逐漸增大 查看更多

 

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸
增大
增大
,地面對(duì)P的摩擦力逐漸
增大
增大
.(選填“增大”“減小”或“不變”)

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸______,地面對(duì)P的摩擦力逐漸______.(選填“增大”“減小”或“不變”)
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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸    ,地面對(duì)P的摩擦力逐漸    .(選填“增大”“減小”或“不變”)

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸________,地面對(duì)P的摩擦力逐漸________.(選填“增大”“減小”或“不變”)

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直木板MN,在半圓柱P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止,如圖所示是這個(gè)裝置的縱截面圖,若用外力使MN保持豎直并且緩慢地向右移動(dòng),發(fā)現(xiàn)P點(diǎn)始終保持靜止.在此過程中,下列說法正確的是

A.MN對(duì)Q的彈力逐漸減小

B.地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

C.P、Q間的彈力先減小后增大

D.Q所受的合力逐漸增大

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