多孔隔板 硅酸鈉溶液 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

（2008?廣東）硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．請回答下列問題：
（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式
SiHCl3+H2
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.
 
Si+3HCl
SiHCl3+H2
 1357K 
.
 
Si+3HCl
．
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧．SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
；H2還原SiHCl3過程中若混O2，可能引起的后果是
高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸
高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸
．
（2）下列有關(guān)硅材料的說法正確的是
ABCD
ABCD
（填字母）．
A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水混
B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的，其熔點很高
D．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃．取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩．寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋
生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成，SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng)，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成，SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng)，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
．

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（2012?河北模擬）下列離子方程式正確的是（　�。�

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按要求填空：
（1）除去NaHCO3溶液中的少量Na2CO3，方法是：
 
．
（2）呼吸面具中所用的藥品是
 
；反應(yīng)的化學(xué)方程式為：
 
．
（3）由鋁鹽制取氫氧化鋁，所用的試劑為：
 
；離子方程式為：
 
．
（4）寫出硅酸鈉溶液在空氣中變質(zhì)的化學(xué)方程式：
 

（5）寫出用熟石灰吸收氯氣制漂白粉的化學(xué)方程式：
 
．
（6）將CaMg3Si4O12改寫為氧化物的形式：
 
．
（7）寫出實驗室制取氯氣的化學(xué)方程式
 
．反應(yīng)轉(zhuǎn)移電子總數(shù)為
 
．

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下列物質(zhì)在空氣中久置最不易變質(zhì)的是（　�。�
A、過氧化鈉B、硅酸鈉溶液C、純堿D、亞硫酸鈉

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將過量的二氧化碳通入下列溶液中，最終呈現(xiàn)渾濁現(xiàn)象的是（　　）

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一、1A、2B、3B、4B、5D、6C、7C、8D、9B、10D、11B、12D、13C、14A、15A、16D

17．（每小題2分，共8分）（1）極性，非極性；（2）Mg，C；（3）C+4HNO3（濃）   CO2↑+4NO2↑+2H2O

（4）2NO2=N2O4

18．（每小題2分，共8分）

（1）H   C
   （2）NH4+ +H2O NH3•H2O + H+

   （3）c (Na+)＞c (HCO3－)＞c (CO32－)＞c (OH－)＞c (H+)

   （4）4NH3（g）+3O2（g）=2N2（g）+6H2O（l）；ΔH=－1264.8 kJ/mol（2分）

19．（3分）②⑧

20．（共10分）（1）儀器連接好后，將止水夾夾緊，在A中加入水使U型管左右兩邊管中產(chǎn)生液面差，一段時間后，U型管中左右兩邊管中的液面未發(fā)生變化（3分，其他合理答案也給分）

   （2）①（2分） ；③（2分）。（3）取pH=3的乙酸溶液加入蒸餾水稀釋100倍，用pH試紙測定溶液的pH小于5（3分）。

21．（共9分）

（1）�、佗堋。�2分）（2）（ａ）①③�。�2分）（ｂ）（2分）                                                          

 

（3）

 

 

（3分）

22．（14分）（1）AB （2）0.1mol.L-1.min-1   14.3%  （3）A D  （4）向右  增大  （5）80%


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