Question

（13分）氮化鋁(AlN)廣泛應用于集成電路，其制備原理是將氧化鋁與碳粉混合均勻，在持續(xù)流動的氮氣流中加熱至1750℃，發(fā)生如下反應：

（1）斷開N2分子內(nèi)的共價鍵要 熱量（填“吸收”或“放出”）

（2）分析反應②對①、③平衡移動的影響 。

（3）Al2O3、C、N2合成AlN的平衡常數(shù)表達式K＝ 。

（4）用蒸餾法測定產(chǎn)品中AlN的含量，裝置如下（加熱及夾持裝置略）：

①AlN與NaOH溶液反應產(chǎn)生NH3的化學方程式是 。

②錐形瓶內(nèi)吸收NH3的離子方程式是 。

③檢驗NH3是否完全蒸出的方法是：另取少量蒸餾出的溶液， （將檢驗過程補充完整）。

④NH3完全吸收后，向錐形瓶中加入指示劑，用濃度為c(（N aOH）mol/L的NaOH標準溶液滴定過量的H2SO4，終點時用去標準溶液的體積為。下面有關(guān)計算正確的是 。

A．樣品中AlN的質(zhì)量：

B．AlN的質(zhì)量分數(shù)：

C．錐形瓶吸收NH3的物質(zhì)的量：

Answer 1