【題目】某同學(xué)在常溫下設(shè)計(jì)以下實(shí)驗(yàn)流程探究Na2S2O3的化學(xué)性質(zhì)。下列說法正確的是

A. 實(shí)驗(yàn)①說明Na2S2O3溶液中水電離的c(OH－)＝10－8mol·L－1

B. Na2S2O3溶液pH＝8的原因用離子方程式表示為S2O32-＋2H2OH2S2O3＋2OH－

C. 生成的沉淀B可能是BaSO3或BaSO4，要進(jìn)一步確認(rèn)還需加入稀硝酸驗(yàn)證

D. 實(shí)驗(yàn)②說明Na2S2O3具有還原性

【答案】D

【解析】

根據(jù)鹽類的水解的規(guī)律和氧化還原反應(yīng)的規(guī)律進(jìn)行分析解答。

A.Na2S2O3的溶液pH＝8，說明S2O32-水解，水的電離受到了促進(jìn)，由水電離的c(OH－)10－6 mol·L－1，故A錯(cuò)誤；

B.S2O32-水解是分步進(jìn)行的，S2O32-＋H2OHS2O3-＋OH－，故B錯(cuò)誤；

C.兩個(gè)錯(cuò)誤點(diǎn)（1）氯水足量，沉淀中不可能有BaSO3（2）BaSO3與硝酸發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成BaSO4，不能加硝酸驗(yàn)證，故C錯(cuò)誤；

D.S2O32-+5H2O+4Cl2+2Ba2+=2BaSO4↓+8Cl-+10H+ ，S元素的化合價(jià)升高,說明Na2S2O3具有還原性,故D選項(xiàng)正確；

正確答案：D。

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【題目】金屬銦主要用于生產(chǎn)液晶顯示器和平板屏幕。從LCD廢料(主要成分是含銦、錫的氧化物)中回收銦的工藝流程如下:

(1)步驟①中用鹽酸酸浸時(shí)浸出率隨溫度變化關(guān)系如圖所示,則最適宜的溫度是___________,溫度升高浸出率下降的原因是__________

(2)酸浸時(shí)銦的氧化物轉(zhuǎn)化成In3+的離子方程式是__________

(3)提純粗銦的方法和銅的精煉原理相似,則粗銦為__________(填“陰極”或“陽(yáng)極”),寫出陰極的電極反應(yīng)式: ______________________________

(4)步驟④中所發(fā)生氧化還原反應(yīng)的氧化劑是__________(填化學(xué)式),步驟⑤中所發(fā)生氧化還原反應(yīng)的氧化產(chǎn)物與還原產(chǎn)物系數(shù)之比是__________

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【題目】氟化鋰(LiF)難溶于水，可用于核工業(yè)、光學(xué)玻璃制造等。以透鋰長(zhǎng)石(含Li2O、Al2O3、SiO2)為原料制備氟化鋰的工藝流程如下：

回答下列問題：

(1)濾液I中含有的金屬離子有________，濾渣I的一種用途是________________。

(2)濾渣Ⅱ是目前應(yīng)用最廣泛的無(wú)機(jī)阻燃劑，寫出生成濾渣Ⅱ的離子方程式：________________。常溫下，若向?yàn)V液I中滴加氨水調(diào)節(jié)pH=5時(shí)，溶液中c(Al3+)=________mol·L－1，則溶液中A13+________(填“是”或“否”)沉淀完全(已知Ksp[Al(OH)3]=2.0×10－33，且溶液中的離子濃度小于1.0×10－5mol·L－1時(shí)沉淀完全)。

(3)操作Ⅳ包括________________、________________和干燥。

(4)寫出Li2CO3與氫氟酸反應(yīng)的化學(xué)方程式：________________________，該反應(yīng)不能在玻璃容器中進(jìn)行的原因是________________________(用化學(xué)方程式表示)。

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【題目】合金在生產(chǎn)及科研中具有廣泛的應(yīng)用。下列物質(zhì)不屬于合金的是

A.鋁箔B.青銅C.不銹鋼D.焊錫

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【題目】石棉是過去常用的保溫、絕熱、防火材料，但現(xiàn)已確認(rèn)為致癌物質(zhì)，并正在開發(fā)它的代用品。石棉的組成可用化學(xué)式CaMg3(SiO3)4。表示，其中Si的化合價(jià)是 ( )

A. +2 B. －2 C. +4 D. －4

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【題目】用吸附了H2的碳納米管等材料制作的二次電池的原理如圖所示。下列說法正確的是（ ）

A. 放電時(shí)，負(fù)極的電極反應(yīng)為：H2－2e－＝2H＋

B. 充電時(shí)，陽(yáng)極的電極反應(yīng)為：Ni(OH)2＋OH－－e－＝NiO(OH)＋H2O

C. 充電時(shí)，將電池的碳電極與外電源的正極相連

D. 放電時(shí)，OH－向鎳電極作定向移動(dòng)

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【題目】以硅孔雀石[主要成分為CuCO3·Cu(OH)2、CuSiO3·2H2O,含SiO2、FeCO3、Fe2O3等雜質(zhì)]為原料制備CuCl2的工藝流程如下:

已知: SOCl2+H2OSO2↑+2HCl↑，下列說法不正確的是

A. “酸浸” 時(shí)應(yīng)該用鹽酸溶解硅孔雀石粉

B. “氧化”時(shí)發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為：Cl2+2Fe2+2Fe3++2Cl-

C. “調(diào)pH”時(shí)，pH需控制在堿性區(qū)域，保證鐵元素全部以Fe(OH)3形式除去

D. “加熱脫水”時(shí)，加入SOCl2的目的是生成的HCl抑制CuCl2的水解

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【題目】某化學(xué)反應(yīng)中，反應(yīng)混合物A、B、C的物質(zhì)的量濃度（c）與時(shí)間（t）關(guān)系如下所表示

下列說法錯(cuò)誤的是（ ）

A. 該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2A4B+C B. 逆反應(yīng)是放熱反應(yīng)

C. 4min時(shí)A的轉(zhuǎn)化率約為31% D. 4～6min時(shí)，反應(yīng)處于動(dòng)態(tài)平衡

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【題目】在2A(g)＋B(g)3C(g)＋4D(g)反應(yīng)中，表示該反應(yīng)的反應(yīng)速率最快的是

A. v(A)＝0.5 mol/(L·min) B. v(B)＝0.1 mol/(L·s)

C. v(C)＝0.8 mol/(L·min) D. v(D)＝1 mol/(L·min)

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