在Cu、NaCl(固體)、CaSO4(固體)、CO2、鹽酸溶液、NaOH溶液中能導(dǎo)電的物質(zhì)是________，屬于電解質(zhì)的是________，從以上例子分析可以得知，物質(zhì)能導(dǎo)電是因為有________或________．

答案：
解析：

Cu、鹽酸溶液、NaOH溶液,NaCl(固體)、CaSO4(固體),自由移動的離子,自由移動的電子(缺“自由移動”不得分)


練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

近來我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產(chǎn)生和排放．蝕刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、傳統(tǒng)的FeCl3型（HCl-FeCl3）等方法．蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失．其中幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：
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（1）FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑可回收銅并使蝕刻液再生．發(fā)生的主要化學(xué)反應(yīng)有：
Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還有
 
、
 
．（用離子方程式表示）
（2）HCl-H2O2型蝕刻液在蝕刻電路板過程中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)用化學(xué)方程式可表示為：
 
．
（3）H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中加入的試劑A的最佳選擇是下列中的
 
（填序號）．
①酸性KMnO4溶液   ②NaCl（固）    ③甲醛    ④葡萄糖
（4）處理H2O2型酸性廢液回收Cu2（OH）2CO3的過程中需控制反應(yīng)的溫度，當溫度高于80℃時產(chǎn)品顏色發(fā)暗，其原因可能是
 
．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

（12分）近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產(chǎn)生和排放。蝕刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、堿性的（NH3—NH4Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl—FeCl3）等3種。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失。幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：

⑴ FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學(xué)反應(yīng)有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還

有　　  　　 、　　     　　  。（用離子方程式表示）。

⑵ HCl—H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)用化學(xué)方程式可表示為：

　　   　            　  。

⑶ H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的　  　　  （填序號）

①酸性KMnO4溶液       ②NaCl(固)         ③葡萄糖          ④甲醛

⑷ 處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應(yīng)的溫度，當溫度高于80℃時，產(chǎn)品顏色發(fā)暗，其原因可能是　　   　　  。

⑸ 堿性蝕刻液在蝕刻過程中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2= 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH4Cl固體并通入NH3的目的是　　   　　  。

 

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科目：高中化學(xué) 來源：2013-2014學(xué)年江西省紅色六校高三第二次聯(lián)考理綜化學(xué)試卷（解析版） 題型：實驗題

實驗室采用MgCl2、AlCl3的混合溶液與過量氨水反應(yīng)制備MgAl2O4二主要流程如下:

 

（1）制備MgAl2O4過程中，高溫焙燒時發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式????????????? 。

（2）如圖所示，過濾操作中的一處錯誤是????????????? ?? 。

判斷流程中沉淀是否洗凈所用的試劑是??????????? 。高溫焙燒時，用于盛放固?? 體的儀器名稱是??????????? 。

（3）在25℃下，向濃度均為0．01 mol?L-1的MgCl2和AlCl3混合溶液中逐滴加入氨水，先生成_________________沉淀(填化學(xué)式)，生成該沉淀的離子方程式_____________________（已知25℃時Ksp[Mg(OH)2]=1.8×10-11，Ksp[Al(OH)3]=3×10 -34。）

（4）無水AlCl3(183℃升華)遇潮濕空氣即產(chǎn)生大量白霧，實驗室可用下列裝置制備。

裝置B中盛放飽和NaCl溶液,該裝置的主要作用是????????? ；F中試劑的作用是???????? ；用一件儀器裝填適當試劑后也可起到F和G的作用，所裝填的試劑為??????????????????? 。

（5）將Mg、Cu組成的3.92g混合物投入過量稀硝酸中，充分反應(yīng)后，固體完全溶解時收集到還原產(chǎn)物NO氣體1.792L（標準狀況），向反應(yīng)后的溶液中加入4mol/L的NaOH溶液80mL時金屬離子恰好完全沉淀。則形成沉淀的質(zhì)量為??????????????????????? g。

 

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科目：高中化學(xué) 來源：2011-2012學(xué)年浙江省高三上學(xué)期期中考試化學(xué)試卷 題型：填空題

（12分）近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產(chǎn)生和排放。蝕刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、堿性的（NH3—NH4Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl—FeCl3）等3種。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失。幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：

⑴ FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學(xué)反應(yīng)有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還

有　　  　　  、　　     　　  。（用離子方程式表示）。

⑵ HCl—H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)用化學(xué)方程式可表示為：

　　   　             　  。

⑶ H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的　   　　  （填序號）

①酸性KMnO4溶液        ②NaCl(固)          ③葡萄糖          ④甲醛

⑷ 處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應(yīng)的溫度，當溫度高于80℃時，產(chǎn)品顏色發(fā)暗，其原因可能是　　   　　  。

⑸ 堿性蝕刻液在蝕刻過程中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH4Cl固體并通入NH3的目的是　　   　　  。

 

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

近來我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產(chǎn)生和排放．蝕刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、傳統(tǒng)的FeCl3型（HCl-FeCl3）等方法．蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失．其中幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：

（1）FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑可回收銅并使蝕刻液再生．發(fā)生的主要化學(xué)反應(yīng)有：
Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還有______、______．（用離子方程式表示）
（2）HCl-H2O2型蝕刻液在蝕刻電路板過程中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)用化學(xué)方程式可表示為：
______．
（3）H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中加入的試劑A的最佳選擇是下列中的______（填序號）．
①酸性KMnO4溶液　 ②NaCl（固）　�、奂兹　、芷咸烟�
（4）處理H2O2型酸性廢液回收Cu2（OH）2CO3的過程中需控制反應(yīng)的溫度，當溫度高于80℃時產(chǎn)品顏色發(fā)暗，其原因可能是______．

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