【題目】FeCl3蝕刻液由FeCl3和鹽酸等組成,可用于蝕刻銅及銅合金等。
(1)加入鹽酸可抑制Fe3+及生成的Cu2+的水解, Fe3+水解的離子方程式為____。
(2)FeCl3溶液蝕刻銅的化學方程式為____。
(3)測定某廢蝕刻液中Cu2+含量的實驗步驟如下:量取25.00mL廢蝕刻液,加入足量的NH4HF2(掩蔽Fe3+,消除干擾),加入稍過量KI溶液(2Cu2++4I-=2CuI↓+ I2),在暗處靜置5min,然后用0.02000mol·L-1Na2S2O3標準溶液滴定(I2+2S2O=2I-+S4O),接近終點時,加入淀粉和10mL10%NH4SCN溶液(CuI可吸附少量I2, CuSCN不吸附I2),繼續(xù)滴定至終點,消耗Na2S2O3溶液20.00mL。
①不加NH4HF2會導致測得的銅的含量____(填:“偏高”“偏低”或“不變”)。
②通過計算確定該廢蝕刻液中銅的含量(單位g·L-1,寫出計算過程)____。
【答案】 Fe3++3H2O Fe(OH)3+3H+ 2FeCl3 + Cu = 2FeCl2 + CuCl2 偏高 1.024g·L-1
【解析】(1)FeCl3為強酸弱堿鹽,Fe3+離子水解使溶液呈酸性,水解方程式為Fe3++3H2O Fe(OH)3+3H+;(2)FeCl3溶液蝕刻銅生成氯化銅和氯化亞鐵,反應的化學方程式為2FeCl3 + Cu = 2FeCl2 + CuCl2;(3)①加入足量的NH4HF2掩蔽Fe3+,消除干擾,若不加,則Fe3+會氧化部分I-,使滴定消耗的Na2S2O3標準溶液偏多,導致測得的銅的含量偏高;②根據(jù)反應2Cu2++4I-=2CuI↓+ I2、I2+2S2=2I-+S4,可得2Cu2+~~~~~ I2~~~~~ 2S2,故有=1.024g·L-1。
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【題目】下表為元素周期表的一部分,請參照元素①~⑨在表中的位置,回答問題:
(1)表中用于半導體材料的元素在周期表中的位置__________。
(2)③、④、⑧的原子半徑最小是__________(用元素符號回答)。
(3)⑤、⑥、⑦的最高價氧化物對應的水化物,堿性最強的是________(用化學式回答)。
(4)②、③、④的氣態(tài)氫化物,穩(wěn)定性最強的是__________(用結(jié)構(gòu)式回答)。
(5)②和③按原子數(shù)1:2形成的化合物的電子式為____,該晶體氣化的過程中克服的微粒間作用力為______。
(6)③和⑧形成的化合物屬于__________(填“離子化合物”或“共價化合物”),該晶體屬于__________晶體(填“離子”、“分子”、“原子”)。
(7)元素⑤、⑦的最高價氧化物的水化物互相反應的離子方程式為:_____________。
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【題目】(1)下列變化中:①碘升華 ②燒堿熔化 ③氯化鈉溶于水 ④氯化氫溶于水 ⑤過氧化鈉溶于水 ⑥氯化銨受熱分解 ⑦氧氣溶于水
其中:(填序號)未發(fā)生化學鍵破壞的是_______;僅發(fā)生離子鍵破壞的是______;僅發(fā)生共價鍵破壞的是_______;既發(fā)生離子鍵破壞,又發(fā)生共價鍵破壞的是___________。
(2)將等物質(zhì)的量A、B混合于2L的密閉容器中,發(fā)生如下反應:3A(g)+B(g) xC(g)+2D(g),經(jīng)5min后,測得D的濃度為0.5mol/L,c(A):c(B)=3:5,C的平均反應速率是0.1mol/(Lmin)
①此時,A的濃度為__________________;
②反應開始前放入容器中B的物質(zhì)的量為___________;
③B的化學反應速率為_________________________;
④x值為__________。
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【題目】能區(qū)分膠體和溶液的方法是( )
A.有丁達爾現(xiàn)象的是膠體
B.靜置,有沉淀現(xiàn)象的是膠體
C.用肉眼觀察,均勻透明的是溶液
D.能透過濾紙的是溶液
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【題目】一定條件下硝酸銨受熱分解的化學方程式為:5NH4NO32HNO3+4N2+9H2O,在反應中被氧化與被還原的氮原子數(shù)之比為( )
A. 5∶3 B. 5∶4 C. 1∶1 D. 3∶5
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【題目】下表是生活生產(chǎn)中常見的物質(zhì),表中列出了它們的(主要)成分。
編號 | ① | ② | ③ | ④ | ⑤ | ⑥ | ⑦ |
名稱 | 酒精 | 醋酸 | 火堿 | 食鹽 | 銅導線 | 亞硫酸酐 | 蘇打 |
主要成分 | CH3CH2OH | CH3COOH | NaOH | NaCl | Cu | SO2 | Na2CO3 |
(1)請你對表中①~⑦的主要成分進行分類(填編號):屬于電解質(zhì)的是______,屬于非電解質(zhì)_______。
(2)過量②的水溶液與⑦反應的離子方程式______________________。
(3)某同學用⑤和濃硫酸共熱來制備⑥,化學方程式為:Cu+2H2SO4(濃)CuSO4+SO2↑+2H2O
①請用單線橋標出電子轉(zhuǎn)移的情況____________;
②濃H2SO4表現(xiàn)出來的性質(zhì)是:_______;當電子轉(zhuǎn)移0.1mol時,消耗氧化劑的物質(zhì)的量為_______。
(4)如圖表示某同學配制480mL 0.5mol/L 的NaOH溶液的部分操作示意圖,其中有錯誤的是_______,這樣操作所配制的溶液比要求的濃度要_________ (填“偏高”、“偏低”、“不影響”)。配制應稱取NaOH________g。
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【題目】碳酸乙烯酯廣泛用作電池電解質(zhì)、酯類合成的中間體等。一種由CH2=CH2、CO2及O2為原料,在鐵、銅及碘化物催化下的制備碳酸乙烯酯的反應如下:
(1)Fe2+基態(tài)核外電子排布式為____。
(2)寫出一種與CO2互為等電子體的陰離子:____。
(3)碳酸乙烯酯中碳原子雜化軌道類型為____;1mol碳酸乙烯酯分子中含鍵數(shù)目為____。
(4)FeO晶胞結(jié)構(gòu)如圖-1所示,晶體中與每個Fe2+緊鄰的Fe2+有____個;一種由Sn、Cu、Fe及S組成的化合物的晶胞結(jié)構(gòu)如圖-2所示。該化合物的化學式為____。
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【題目】下圖所示是晶體結(jié)構(gòu)中具有代表性的最小重復單元(晶胞)的排列方式,其對應的化學式正確的是(圖中:O-X,●-Y,⊕-Z。C選項中Y原子在面上。)( )
A. X2YB. XY3C. XY3ZD. XYZ
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【題目】氰基丙烯酸酯在堿性條件下能快速聚合為從而具有膠黏性。某種氰基丙烯酸酯(G)的合成路線如下:
已知:
①A的相對分子質(zhì)量為58,氧元素質(zhì)量分數(shù)為0.276,核磁共振氫譜顯示為單峰
②
回答下列問題:
(1)A 的化學名稱為__________________,。
(2)B的結(jié)構(gòu)簡式為____________________。其核磁共振氫譜顯示為______組峰,峰面積比為_______。
(3)由C生成D的反應類型為_____________。
(4)由D生成E的化學方程式為__________________________________________________________。
(5)G中的官能團有__________、__________、__________。(填官能團名稱)
(6)G的同分異構(gòu)體中,與G具有相同官能團且能發(fā)生銀鏡反應的共有___________種。(不含立體結(jié)構(gòu))
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