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科目: 來源:陜西省模擬題 題型:填空題

亞氯酸鈉(NaClO2)是一種重要的含氯消毒劑,主要用于水的消毒以及砂糖、油脂的漂白與殺菌。以下是過氧化氫法生產(chǎn)亞氯酸鈉的工藝流程圖
已知:①NaClO2的溶解度隨溫度升高而增大,適當條件下可結(jié)晶析出NaClO2·3H2O。
②純ClO2易分解爆炸,一般用稀有氣體或空氣稀釋到10%以下安全。
(1)發(fā)生器中鼓入空氣的作用可能是_________________。
(2)吸收塔內(nèi)發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________________。
(3)在堿性溶液中NaClO2比較穩(wěn)定,所以吸收塔中應(yīng)維持NaOH稍過量,判斷NaOH是否過量的簡單實驗方法是___________________。
(4)從濾液中得到NaClO2·3H2O粗晶體的實驗操作依次是________________________

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科目: 來源:廣東省模擬題 題型:填空題

鋇鹽生產(chǎn)中會排出大量的鋇泥[主要含有等]。某化工廠主要生產(chǎn)
,現(xiàn)利用鋇泥制取,其部分工藝流程如下
(1)酸溶后溶液中的反應(yīng)化學(xué)方程式為_________________。
(2)酸溶時通?刂品磻(yīng)溫度不超過70℃,且不使用濃硝酸,其原因是___________、___________。
(3)該廠結(jié)合本廠生產(chǎn)實際選用的X為________(填化學(xué)式);“中和Ⅰ”會使溶液中________(填離子符號)的濃度減少(“中和Ⅰ”引起的溶液體積變化可忽略)。
(4)上述流程中洗滌的目的是_____________________。

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科目: 來源:北京期末題 題型:填空題

氮化硅用作高溫陶瓷復(fù)合材料,在航天航空、汽車發(fā)動機、機械等領(lǐng)域有著廣泛的用途。由石英合成氮化硅粉末的路線圖如下所示。
其中-NH2基團中各元素的化合價與NH3相同。請回答下列問題:
(1)石英砂不能與堿性物質(zhì)共同存放,以NaOH為例,用化學(xué)反應(yīng)方程式表示其原因:________________
(2)圖示①~⑤的變化中,屬于氧化還原反應(yīng)的是______________。
(3)SiCl4在潮濕空氣中劇烈水解,產(chǎn)生白霧,軍事工業(yè)中用于制造煙霧劑。SiCl4水解的化學(xué)反應(yīng)方程式
為_________________。
(4)在反應(yīng)⑤中,3 mol Si(NH2)4在高溫下加熱可得1 mol氮化硅粉末和8mol A氣體,則氮化硅的化學(xué)式為
__________________。
(5)在高溫下將SiCl4在B和C兩種氣體的氣氛中,也能反應(yīng)生成氮化硅,B和C兩種氣體在一定條件下化合生成A。寫出用SiCl4與B和C兩種氣體反應(yīng)的化學(xué)方程式:__________________。

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科目: 來源:0115 模擬題 題型:填空題

(1)工業(yè)上以粗銅為原料采取如圖所示流程制備硝酸銅晶體
①在步驟a中,還需要通入氧氣和水,其目的是_____________________。
②在保溫去鐵的過程中,為使Fe3+沉淀完全,可以向溶液中加入CuO,調(diào)節(jié)溶液的pH,根據(jù)下表數(shù)據(jù),溶液的pH應(yīng)保持在_________范圍。
不用加水的方法調(diào)節(jié)溶液pH的原因是__________。
③進行蒸發(fā)濃縮時,要用硝酸調(diào)節(jié)溶液的pH=1,其目的是(結(jié)合離子方程式說明)__________。
(2)工業(yè)上常利用硝酸銅溶液電鍍銅,電鍍時陰極的電極反應(yīng)式是____________________。
(3)在硝酸銅溶液中,各種離子濃度由大到小的順序是__________。

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科目: 來源:廣東省高考真題 題型:填空題

以氯化鈉和硫酸銨為原料制備氯化銨及副產(chǎn)品硫酸鈉,工藝流程如下
氯化銨和硫酸鈉的溶解度隨溫度變化如上圖所示。回答下列問題:
(1)欲制備10.7 g NH4Cl,理論上需NaCl_________g。
(2)實驗室進行蒸發(fā)濃縮用到的主要儀器有__________、燒杯、玻璃棒、酒精燈等。
(3)“冷卻結(jié)晶”過程中,析出NH4Cl晶體的合適溫度為__________。
(4)不用其它試劑,檢查NH4Cl產(chǎn)品是否純凈的方法及操作是__________________________________________。
(5)若NH4Cl產(chǎn)品中含有硫酸鈉雜質(zhì),進一步提純產(chǎn)品的方法是_________________________。

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科目: 來源:廣東省高考真題 題型:填空題

二氧化錳是制造鋅錳干電池的基本材料。工業(yè)上以軟錳礦為原料,利用硫酸亞鐵制備高純二氧化錳的流程如下
某軟錳礦的主要成分為MnO2,還含有Si(16.27%)、Fe(5.86%)、Al(3.42%)、Zn(2.68%)和Cu(0.86%)等元素的化合物。部分陽離子以氫氧化物或硫化物的形式完全沉淀時溶液的pH見下表,回答下列問題
(1)硫酸亞鐵在酸性條件下將MnO2還原為MnSO4,酸浸時發(fā)生的主要反應(yīng)的化學(xué)方程式為
_________________________。
(2)濾渣A的主要成分是_____________________________。
(3)加入MnS的目的是除去______________________雜質(zhì)。
(4)堿性鋅錳電池中,MnO2參與的電極反應(yīng)方程式為___________________________。
(5)從廢舊堿性鋅錳電池中可以回收利用的物質(zhì)有____________________________(寫兩種)。

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科目: 來源:江西省模擬題 題型:填空題

金屬鈦素有“太空金屬”“未來金屬”“海洋金屬”等美譽,已知鈦的化合價主要有+4價和+3價,其中
+3價鈦極易被氧化;有關(guān)氫氧化物開始沉淀的pH 如下
某地鈦鐵礦主要成分為FeTiO3,含有少量雜質(zhì)SiO2等;提純TiO2并得到副產(chǎn)品FeSO4·7H2O(綠礬)的工藝流程如下
回答下列問題:
(1)黑鈦液中生成的主要陽離子有TiO2-和Fe2+,寫出反應(yīng)①的化學(xué)方程式:_____________________
(2)黑鈦液中加入鐵粉的主要目的是____________;
(3)步驟④的離子方程式是____________________;
(4)鈦的冶煉新法是電解法。OS法電解煉鈦示意圖:
以CaCl2/CaO共熔體作為介質(zhì),電解時,在陰極生成的Ca進一步還原TiO2得鈦。寫出陰極生成鈦的有關(guān)電極反應(yīng)式和化學(xué)方程式:_______________________

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科目: 來源:江蘇模擬題 題型:填空題

鋁土礦的主要成分為Al2O3,生成銨明礬[NH4Al(SO4)2·12H2O]和H2O2的工藝流程圖如下。
(1)流程圖中X為_________(填化學(xué)式)溶液。
(2)反應(yīng)I的離子方程式為________________________
(3)“電解”時,用惰性材料作電極,則陰極反應(yīng)可表示為___________。
(4)反應(yīng)Ⅵ的化學(xué)方程式為____________________。
(5)流程中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是_____________。

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科目: 來源:江蘇模擬題 題型:填空題

以廢鐵屑為原料生產(chǎn)莫爾鹽的主要流程如下
(1)“反應(yīng)I”中通入N2的作用是____________。
(2)稱取23. 52 g新制莫爾鹽,溶于水配制成100 mL溶液,將所得溶液分成兩等份。
一份加入足量Ba(OH)2溶液,并微熱,逸出能使?jié)駶櫟募t色石蕊試紙變藍的氣體,同時生成白色沉淀,隨即沉淀變?yōu)榛揖G色,最后帶有紅褐色;用足量稀鹽酸處理沉淀物,充分反應(yīng)后過濾、洗滌和干燥,得白色固體13. 98 g。
另一份用 0. 200 0 mol/LK2Cr2O7酸性溶液滴定,當CrO72-恰好完全被還原為Cr3+時,消耗K2Cr2O7溶液的體積為25. 00 mL。通過計算確定莫爾鹽的化學(xué)式。
(3)若將“水洗”這一步去掉,則所得產(chǎn)品中的SO42-的質(zhì)量分數(shù)會____________(填 “偏大”“偏小”或“不變”)。

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科目: 來源:湖南省模擬題 題型:填空題

重晶石礦石主要含有BaSO4,還含有少量有SiO2、Al2O3、Fe2O3、MnO2、FeS2、Na2O、K2O等雜質(zhì)。以下是某工業(yè)制備硫酸鋇以及分離某些金屬的流程圖。
(1)煅燒過程中產(chǎn)生的污染性氣體主要是_______________。
(2)確定第一次水洗液中有K+存在的實驗現(xiàn)象是_____________。
(3)寫出堿洗時的氧化還原反應(yīng)方程式:_________________。
(4)①反應(yīng)生成沉淀的化學(xué)式__________,②反應(yīng)的離子方程式為___________________。
(5)操作I為______,操作Ⅱ為_______。

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